半導體裝置及半導體裝置之製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
    9.
    发明专利
    半導體裝置及半導體裝置之製造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME 审中-公开
    半导体设备及半导体设备之制造方法 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

    公开(公告)号:TW201240032A

    公开(公告)日:2012-10-01

    申请号:TW101108144

    申请日:2012-03-09

    IPC分类号: H01L

    摘要: 依照本發明,可提供一種可減低殘膠、且產率優良的半導體裝置之構造及其製造方法。本發明的半導體裝置之製造方法係包含:在熱剝離性黏著層(架裝膜)的主面上配置複數個半導體元件(106)的步驟;使用半導體密封用樹脂組成物,密封架裝膜的主面上之複數個半導體元件(106)之形成密封材層(108)的步驟;經由剝離架裝膜,使密封材層(108)的下面(30)及半導體元件(106)的下面(20)露出的步驟。在剝離架裝膜的步驟之後,密封材層(108)的下面(30)的接觸角於使用甲醯胺來測定時,係特定為70度以下。

    简体摘要: 依照本发明,可提供一种可减低残胶、且产率优良的半导体设备之构造及其制造方法。本发明的半导体设备之制造方法系包含:在热剥离性黏着层(架装膜)的主面上配置复数个半导体组件(106)的步骤;使用半导体密封用树脂组成物,密封架装膜的主面上之复数个半导体组件(106)之形成密封材层(108)的步骤;经由剥离架装膜,使密封材层(108)的下面(30)及半导体组件(106)的下面(20)露出的步骤。在剥离架装膜的步骤之后,密封材层(108)的下面(30)的接触角于使用甲酰胺来测定时,系特定为70度以下。