半導體裝置
    9.
    发明专利
    半導體裝置 审中-公开
    半导体设备

    公开(公告)号:TW201832366A

    公开(公告)日:2018-09-01

    申请号:TW107114296

    申请日:2013-04-11

    Abstract: 本發明的一個方式構成一種電晶體,該電晶體在第一閘極電極層與第二閘極電極層之間隔著絕緣層包括氧化物半導體疊層,在該氧化物半導體疊層中,通道形成區的厚度小於其他區域。另外,在上述電晶體中,閘極電極層中的一方用作用來控制臨界電壓的所謂背閘極。藉由控制施加到該背閘極的電位,可以控制電晶體的臨界電壓,由此容易將電晶體維持為常截止。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明的一个方式构成一种晶体管,该晶体管在第一闸极电极层与第二闸极电极层之间隔着绝缘层包括氧化物半导体叠层,在该氧化物半导体叠层中,信道形成区的厚度小于其他区域。另外,在上述晶体管中,闸极电极层中的一方用作用来控制临界电压的所谓背闸极。借由控制施加到该背闸极的电位,可以控制晶体管的临界电压,由此容易将晶体管维持为常截止。

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