基底晶圓上晶片結構的形成方法
    7.
    发明专利
    基底晶圓上晶片結構的形成方法 审中-公开
    基底晶圆上芯片结构的形成方法

    公开(公告)号:TW201826403A

    公开(公告)日:2018-07-16

    申请号:TW106117530

    申请日:2017-05-26

    Abstract: 提供一種基底晶圓上晶片結構及其形成方法。所述方法包括將第一晶粒及第二晶粒貼合至中介層。所述方法還包括將第一基底貼合至所述第一晶粒的第一表面及所述第二晶粒的第一表面。所述第一基底包含矽。所述第一晶粒的所述第一表面與所述第一晶粒的貼合至所述中介層的表面相對,且所述第二晶粒的所述第一表面與所述第二晶粒的貼合至所述中介層的表面相對。所述方法包括將所述中介層結合至第二基底。

    Abstract in simplified Chinese: 提供一种基底晶圆上芯片结构及其形成方法。所述方法包括将第一晶粒及第二晶粒贴合至中介层。所述方法还包括将第一基底贴合至所述第一晶粒的第一表面及所述第二晶粒的第一表面。所述第一基底包含硅。所述第一晶粒的所述第一表面与所述第一晶粒的贴合至所述中介层的表面相对,且所述第二晶粒的所述第一表面与所述第二晶粒的贴合至所述中介层的表面相对。所述方法包括将所述中介层结合至第二基底。

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