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公开(公告)号：TW201611687A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW103130611
申请日：2014-09-04
申请人： 啟碁科技股份有限公司 , WISTRON NEWEB CORP.
发明人： 莊子文 , CHUANG, TZU WEN , 羅 昱凱 , RADI, BABAK , 陳世宏 , CHEN, SHIH HONG , 陳璟文 , CHEN, JING WEN
CPC分类号： H05K3/184 , H05K3/0032 , H05K2201/0257 , H05K2203/0716 , H05K2203/072 , H05K2203/107
摘要： 一種金屬圖案製造方法，針對具有至少一金屬構件之基板之表面，透過表面處化處理而使該金屬構件的表面防鍍，在後續化學浸鍍製程中能夠局部形成金屬圖案。
简体摘要： 一种金属图案制造方法，针对具有至少一金属构件之基板之表面，透过表面处化处理而使该金属构件的表面防镀，在后续化学浸镀制程中能够局部形成金属图案。
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公开(公告)号：TWI487443B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103121552
申请日：2014-06-23
申请人： 啟碁科技股份有限公司 , WISTRON NEWEB CORP.
发明人： 羅 昱凱 , RADI, BABAK , 陳世宏 , CHEN, SHIH HONG , 郭昱甫 , KUO, YU FU , 陳群霖 , CHEN, CHUN LIN , 陳璟文 , CHEN, JING WEN
IPC分类号： H05K3/06 , H01L21/306
CPC分类号： C23C18/1605 , B32B3/02 , B32B3/30 , B32B15/043 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B2255/06 , B32B2255/205 , B32B2255/24 , B32B2457/00 , C23C18/182 , G03F7/202 , H01L23/06 , H01L2924/0002 , H05K1/09 , H05K3/0026 , H05K3/107 , H05K3/243 , H05K2201/0338 , H05K2203/072 , Y10T428/12361 , Y10T428/24331 , H01L2924/00
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公开(公告)号：TW201542052A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103121552
申请日：2014-06-23
申请人： 啟碁科技股份有限公司 , WISTRON NEWEB CORP.
发明人： 羅 昱凱 , RADI, BABAK , 陳世宏 , CHEN, SHIH HONG , 郭昱甫 , KUO, YU FU , 陳群霖 , CHEN, CHUN LIN , 陳璟文 , CHEN, JING WEN
IPC分类号： H05K3/06 , H01L21/306
CPC分类号： C23C18/1605 , B32B3/02 , B32B3/30 , B32B15/043 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B2255/06 , B32B2255/205 , B32B2255/24 , B32B2457/00 , C23C18/182 , G03F7/202 , H01L23/06 , H01L2924/0002 , H05K1/09 , H05K3/0026 , H05K3/107 , H05K3/243 , H05K2201/0338 , H05K2203/072 , Y10T428/12361 , Y10T428/24331 , H01L2924/00
摘要： 本發明提供一種基板結構的製造方法及一種以此方法製造的基板結構。此方法係包括於基底上直接形成第一金屬層，於第一金屬層上直接形成第一保護層，藉由使用包括硫醇基的化合物於第一保護層上直接形成第二保護層，圖形化第二保護層以形成具有暴露第一保護層的開口的圖案，且於該第二保護層的該開口內並直接於第一保護層上形成第二金屬層。此基板結構係包括基底、第一金屬層、第一保護層、第二保護層以及第二金屬層。
简体摘要： 本发明提供一种基板结构的制造方法及一种以此方法制造的基板结构。此方法系包括于基底上直接形成第一金属层，于第一金属层上直接形成第一保护层，借由使用包括硫醇基的化合物于第一保护层上直接形成第二保护层，图形化第二保护层以形成具有暴露第一保护层的开口的图案，且于该第二保护层的该开口内并直接于第一保护层上形成第二金属层。此基板结构系包括基底、第一金属层、第一保护层、第二保护层以及第二金属层。
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公开(公告)号：TWI552659B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW103130611
申请日：2014-09-04
申请人： 啟碁科技股份有限公司 , WISTRON NEWEB CORP.
发明人： 莊子文 , CHUANG, TZU WEN , 羅 昱凱 , RADI, BABAK , 陳世宏 , CHEN, SHIH HONG , 陳璟文 , CHEN, JING WEN
CPC分类号： H05K3/184 , H05K3/0032 , H05K2201/0257 , H05K2203/0716 , H05K2203/072 , H05K2203/107
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