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公开(公告)号：TWI601781B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW102102033
申请日：2013-01-18
发明人： 岩田貫 , IWATA, TOHRU , 木田佳奈 , KIDA, KANA , 中野剛伸 , NAKANO, TAKENOBU
CPC分类号： C08F210/14 , B32B9/005 , B32B27/08 , B32B27/24 , B32B27/286 , B32B27/30 , B32B27/32 , B32B27/325 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B37/182 , B32B2250/02 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2307/518 , B32B2307/7246 , B32B2329/04 , B32B2355/00 , B32B2457/00 , C08F4/34 , C08F8/42 , C08F210/00 , C08F222/06 , C08F2800/10 , C08F2800/20 , C08F2810/20 , C08F2810/50 , C08J7/045 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2423/26 , C08J2435/00 , C09D5/00 , C09D135/02 , Y10T156/10 , Y10T428/31786 , C08F210/06 , C08F210/10
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公开(公告)号：TW201731960A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105140569
申请日：2016-12-08
申请人： 堤康那責任有限公司 , TICONA LLC
发明人： 駱蓉 , LUO, RONG , 趙 新宇 , ZHAO, XINYU
IPC分类号： C08L81/02 , C08L83/04 , C08L1/00 , C08L23/16 , C08L63/02 , B32B15/08 , A47G19/26 , A47G23/06
CPC分类号： C08L81/02 , A47G19/26 , A47G23/06 , B32B7/04 , B32B15/08 , B32B15/18 , B32B15/20 , B32B19/00 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/24 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/285 , B32B27/286 , B32B27/288 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/38 , B32B2250/02 , B32B2262/10 , B32B2262/101 , B32B2262/108 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2270/00 , B32B2307/306 , B32B2307/3065 , B32B2307/308 , B32B2307/4026 , B32B2307/54 , B32B2307/546 , B32B2307/558 , B32B2307/704 , B32B2307/714 , B32B2307/7145 , B32B2307/732 , B32B2457/00 , B32B2597/00 , B32B2605/00 , C08L2205/03 , C08L2205/035 , C08L2205/06
摘要： 本發明提供一種聚合物組合物，其包含聚芳硫化物、無機纖維、抗衝擊改質劑、有機矽烷化合物及高分子量矽氧烷聚合物。
简体摘要： 本发明提供一种聚合物组合物，其包含聚芳硫化物、无机纤维、抗冲击改质剂、有机硅烷化合物及高分子量硅氧烷聚合物。
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公开(公告)号：TWI567150B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW104121497
申请日：2015-07-02
申请人： 佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： 本間猛 , HONMA, TAKESHI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 大谷智教 , OTANI, TOMONORI , 坂本和美 , SAKAMOTO, KAZUMI
IPC分类号： C09J201/02 , B32B7/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C35/0805 , B29C2035/0827 , B29K2033/08 , B29K2105/0002 , B32B3/00 , B32B3/02 , B32B3/06 , B32B3/30 , B32B7/00 , B32B7/12 , B32B27/00 , B32B27/06 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/24 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/308 , B32B27/38 , B32B27/40 , B32B2255/26 , B32B2307/40 , B32B2307/4023 , B32B2307/75 , B32B2405/00 , B32B2457/00 , B32B2457/08 , B32B2551/00 , C09J4/00 , C09J4/06 , C09J5/06 , G02B1/04 , G03F7/11 , H01L21/0271 , H01L21/266 , H01L21/308
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公开(公告)号：TWI553950B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW104119341
申请日：2015-06-16
申请人： 迪愛生股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人： 中村英美 , NAKAMURA, HIDEMI , 松尾高年 , MATSUO, TAKATOSHI , 神山達哉 , KOUYAMA, TATSUYA
IPC分类号： H01M4/62
CPC分类号： C09J11/06 , B32B1/00 , B32B7/12 , B32B15/085 , B32B15/092 , B32B15/098 , B32B15/20 , B32B27/24 , B32B27/30 , B32B27/302 , B32B27/306 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B27/38 , B32B2250/03 , B32B2270/00 , B32B2274/00 , B32B2307/206 , B32B2307/306 , B32B2307/31 , B32B2307/50 , B32B2307/714 , B32B2307/718 , B32B2457/10 , C08K5/01 , C08K5/05 , C08K5/10 , C08K5/1515 , C08L51/06 , C08L63/00 , C08L2205/02 , C08L2205/03 , C09J123/26 , C09J151/06 , C09J163/00 , H01M2/0275 , H01M2/0287 , H01M4/366 , H01M10/4235 , C08L23/00 , C08L23/26
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公开(公告)号：TW201605969A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104120648
申请日：2015-06-26
申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人： 渡野亮子 , WATANO, AKIKO , 原敏雄 , HARA, TOSHIO , 伊藤英明 , ITO, HIDEAKI , 齊藤之人 , SAITOH, YUKITO , 矢內雄二郎 , YANAI, YUJIRO
IPC分类号： C08L67/00 , C08G63/181 , C08K3/00 , C08K7/00 , B32B27/36 , C08J5/18 , B29C55/04 , C08J7/04 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3025 , B32B7/02 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/24 , B32B27/283 , B32B27/302 , B32B27/304 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2250/02 , B32B2250/24 , B32B2264/102 , B32B2264/12 , B32B2307/42 , B32B2307/422 , B32B2307/50 , B32B2307/51 , B32B2307/516 , B32B2307/724 , B32B2307/732 , C08J5/18 , C08J2367/02 , G02B5/3083 , G02B27/28
摘要： 本發明提供一種即使在連續照射光時亦可抑制發光效率的降低，在濕熱環境下亦可抑制偏光度的變化之光轉換薄膜及其製造方法，以及積層體及其製造方法。本發明之光轉換薄膜包含聚合物與量子棒，以使平行於光轉換薄膜表面之一個方向與量子棒之長軸成為平行之方式使量子棒定向，含水率為1.0%以下，透氧係數為200cc‧20μm/m2‧day‧atm以下。
简体摘要： 本发明提供一种即使在连续照射光时亦可抑制发光效率的降低，在湿热环境下亦可抑制偏光度的变化之光转换薄膜及其制造方法，以及积层体及其制造方法。本发明之光转换薄膜包含聚合物与量子棒，以使平行于光转换薄膜表面之一个方向与量子棒之长轴成为平行之方式使量子棒定向，含水率为1.0%以下，透氧系数为200cc‧20μm/m2‧day‧atm以下。
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公开(公告)号：TWI385198B
公开(公告)日：2013-02-11
申请号：TW097130509
申请日：2008-08-11
发明人： 呂常興 , LU, CHARNG SHING , 石素珠 , SHIH, SHU CHU , 金進興 , KING, JINN SHING , 劉淑芬 , LIU, SHUR FEN
IPC分类号： C08G73/10 , B32B15/088
CPC分类号： B32B15/08 , B32B15/20 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/24 , B32B27/281 , B32B27/34 , B32B37/02 , B32B37/153 , B32B2250/40 , B32B2264/02 , B32B2264/104 , B32B2264/107 , B32B2307/306 , B32B2307/734 , B32B2309/105 , B32B2379/08 , B32B2457/00 , H05K1/036 , H05K3/022 , H05K2201/0129 , H05K2201/0154 , H05K2201/0195 , H05K2201/0209 , H05K2201/0239 , Y10T156/1089 , Y10T156/1092 , Y10T428/24942 , Y10T428/31522 , Y10T428/31678 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
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公开(公告)号：TW200831299A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW096122177
申请日：2007-06-20
IPC分类号： B41J
CPC分类号： B32B37/0023 , B29C65/02 , B29C65/14 , B29C65/18 , B29C65/7894 , B29C66/4722 , B29C66/474 , B29C66/71 , B29C66/723 , B29C66/8362 , B29C66/9141 , B29C66/91421 , B29C66/91645 , B29C66/919 , B29C66/9241 , B29C66/929 , B29C66/934 , B29C66/939 , B29L2016/00 , B29L2031/767 , B32B3/30 , B32B7/06 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/24 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B27/38 , B32B37/0046 , B32B2250/24 , B32B2307/308 , B32B2307/70 , B32B2307/734 , B32B2307/748 , Y10T156/10 , Y10T156/1043 , B29K2023/06 , B29K2023/12 , B29K2067/003
摘要： 提供一種具有一定形狀及體積之精密微細空間的形成方法、及具有精密微細空間(具有一定形狀及體積)之構件的製造方法。一種精密微細空間的形成方法,係具有在基材(具有精密微細凹部)上舖設薄膜的步驟之精密微細空間的形成方法,係藉由以下步驟來形成具有一定形狀及體積之精密微細空間,包含:在第一載物台上載置基材,並設定成使得用以圍住第一載物台的外周之第二載物台的最上面,比第一載物台的最上面更高之步驟;以及在基材上舖設薄膜之步驟。
简体摘要： 提供一种具有一定形状及体积之精密微细空间的形成方法、及具有精密微细空间(具有一定形状及体积)之构件的制造方法。一种精密微细空间的形成方法,系具有在基材(具有精密微细凹部)上铺设薄膜的步骤之精密微细空间的形成方法,系借由以下步骤来形成具有一定形状及体积之精密微细空间,包含:在第一载物台上载置基材,并设置成使得用以围住第一载物台的外周之第二载物台的最上面,比第一载物台的最上面更高之步骤;以及在基材上铺设薄膜之步骤。
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公开(公告)号：TWI517823B
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW099119937
申请日：2010-06-18
申请人： 優你 嬌美股份有限公司 , UNI-CHARM CORPORATION
发明人： 須田朋和 , SUDA, TOMOKAZU , 長谷川聰 , HASEGAWA, SATOSHI
IPC分类号： A47L13/17
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9.发明专利
公开(公告)号：TW201602284A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104121497
申请日：2015-07-02
申请人： 佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： 本間猛 , HONMA, TAKESHI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 大谷智教 , OTANI, TOMONORI , 坂本和美 , SAKAMOTO, KAZUMI
IPC分类号： C09J201/02 , B32B7/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C35/0805 , B29C2035/0827 , B29K2033/08 , B29K2105/0002 , B32B3/00 , B32B3/02 , B32B3/06 , B32B3/30 , B32B7/00 , B32B7/12 , B32B27/00 , B32B27/06 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/24 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/308 , B32B27/38 , B32B27/40 , B32B2255/26 , B32B2307/40 , B32B2307/4023 , B32B2307/75 , B32B2405/00 , B32B2457/00 , B32B2457/08 , B32B2551/00 , C09J4/00 , C09J4/06 , C09J5/06 , G02B1/04 , G03F7/11 , H01L21/0271 , H01L21/266 , H01L21/308
摘要： 在奈米壓印法中，經光固化之產物經常與基材分離且因該經光固化之產物與該基材之間的黏附性不足而黏至模。此造成圖案分離之瑕疵。一種用於在基材與光可固化之組成物之間形成黏附層的黏附層組成物包括具有至少二個官能基之化合物(A)、及溶劑(B)。該等官能基包括至少一個能結合至該基材的官能基，其係選自由下列所組成之群組：羥基、羧基、硫醇基、胺基、環氧基、及(經封端之)異氰酸酯基；及至少一個氫給予基團，作為能結合至該光可固化之組成物的官能基。
简体摘要： 在奈米压印法中，经光固化之产物经常与基材分离且因该经光固化之产物与该基材之间的黏附性不足而黏至模。此造成图案分离之瑕疵。一种用于在基材与光可固化之组成物之间形成黏附层的黏附层组成物包括具有至少二个官能基之化合物(A)、及溶剂(B)。该等官能基包括至少一个能结合至该基材的官能基，其系选自由下列所组成之群组：羟基、羧基、硫醇基、胺基、环氧基、及(经封端之)异氰酸酯基；及至少一个氢给予基团，作为能结合至该光可固化之组成物的官能基。
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公开(公告)号：TWI432509B
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW097150100
申请日：2008-12-22
申请人： 聯茂電子股份有限公司 , ITEQ CORPORATION
发明人： 簡鑌 , JIAN, BIN , 陳禮君 , CHEN, LICHUN
IPC分类号： C08L63/00 , C08L67/00 , C09J7/02 , C09J163/00 , C09J167/00 , H05K1/00
CPC分类号： H05K1/0326 , B32B17/04 , B32B27/12 , B32B27/20 , B32B27/24 , B32B27/26 , B32B27/36 , B32B27/38 , B32B27/40 , B32B2260/021 , B32B2260/046 , B32B2262/101 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2307/206 , B32B2307/306 , B32B2307/718 , B32B2457/08 , C08G59/62 , C08G59/688 , C08K5/3155 , C08K5/54 , H05K2201/0145 , H05K2201/0209 , H05K2201/0239 , Y10T428/249946
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