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    Selection of optimum patterns in a design layout based on diffraction signature analysis
    2.
    发明授权
    Selection of optimum patterns in a design layout based on diffraction signature analysis 有权
    基于衍射特征分析在设计布局中选择最佳图案

    公开(公告)号：US08543947B2

    公开(公告)日：2013-09-24

    申请号：US12914954

    申请日：2010-10-28

    申请人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li

    发明人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70666 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009

    摘要： The present invention relates generally to selecting optimum patterns based on diffraction signature analysis, and more particularly to, using the optimum patterns for mask-optimization for lithographic imaging. A respective diffraction map is generated for each of a plurality of target patterns from an initial larger set of target patterns from the design layout. Diffraction signatures are identified from the various diffraction maps. The plurality of target patterns is grouped into various diffraction-signature groups, the target patterns in a specific diffraction-signature group having similar diffraction signature. A subset of target patterns is selected to cover all possible diffraction-signature groups, such that the subset of target patterns represents at least a part of the design layout for the lithographic process. The grouping of the plurality of target patterns may be governed by predefined rules based on similarity of diffraction signature. The predefined rules comprise coverage relationships existing between the various diffraction-signature groups.

    摘要翻译： 本发明一般涉及基于衍射特征分析来选择最佳图案，并且更具体地涉及使用用于光刻成像的掩模优化的最佳图案。 从来自设计布局的初始较大的目标图案集合中的多个目标图案中的每一个生成相应的衍射图。 从各种衍射图识别衍射特征。 多个目标图案被分组成各种衍射签名组，具有相似衍射特征的特定衍射签名组中的目标图案。 选择目标图案的子集以覆盖所有可能的衍射签名组，使得目标图案的子集代表光刻工艺的设计布局的至少一部分。 多个目标图案的分组可以通过基于衍射签名的相似性的预定规则来管理。 预定义的规则包括存在于各种衍射签名组之间的覆盖关系。

    Selection of Optimum Patterns in a Design Layout Based on Diffraction Signature Analysis
    3.
    发明申请
    Selection of Optimum Patterns in a Design Layout Based on Diffraction Signature Analysis 有权
    基于衍射签名分析的设计布局中最优模式的选择

    公开(公告)号：US20110107280A1

    公开(公告)日：2011-05-05

    申请号：US12914954

    申请日：2010-10-28

    申请人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li

    发明人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70666 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009

    摘要： The present invention relates generally to selecting optimum patterns based on diffraction signature analysis, and more particularly to, using the optimum patterns for mask-optimization for lithographic imaging. A respective diffraction map is generated for each of a plurality of target patterns from an initial larger set of target patterns from the design layout. Diffraction signatures are identified from the various diffraction maps. The plurality of target patterns is grouped into various diffraction-signature groups, the target patterns in a specific diffraction-signature group having similar diffraction signature. A subset of target patterns is selected to cover all possible diffraction-signature groups, such that the subset of target patterns represents at least a part of the design layout for the lithographic process. The grouping of the plurality of target patterns may be governed by predefined rules based on similarity of diffraction signature. The predefined rules comprise coverage relationships existing between the various diffraction-signature groups.

    摘要翻译： 本发明一般涉及基于衍射特征分析来选择最佳图案，更具体地说，涉及使用用于光刻成像的掩模优化的最佳图案。 从来自设计布局的初始较大的目标图案集合中的多个目标图案中的每一个生成相应的衍射图。 从各种衍射图识别衍射特征。 多个目标图案被分组成各种衍射签名组，具有相似衍射特征的特定衍射签名组中的目标图案。 选择目标图案的子集以覆盖所有可能的衍射签名组，使得目标图案的子集代表光刻工艺的设计布局的至少一部分。 多个目标图案的分组可以通过基于衍射签名的相似性的预定规则来管理。 预定义的规则包括存在于各种衍射签名组之间的覆盖关系。

    Method of Pattern Selection for Source and Mask Optimization
    5.
    发明申请
    Method of Pattern Selection for Source and Mask Optimization 有权
    源和掩码优化的模式选择方法

    公开(公告)号：US20120216156A1

    公开(公告)日：2012-08-23

    申请号：US13505286

    申请日：2010-10-26

    申请人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li ,  Jun Ye ,  Min-Chun Tsai ,  Youping Zhang ,  Yen-Wen Lu ,  Jiangwei Li

    发明人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li ,  Jun Ye ,  Min-Chun Tsai ,  Youping Zhang ,  Yen-Wen Lu ,  Jiangwei Li

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70666 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009

    摘要： The present invention relates to a method of selecting a subset of patterns from a design, to a method of performing source and mask optimization, and to a computer program product for performing the method of selecting a subset of patterns from a design. According to certain aspects, the present invention enables coverage of the full design while lowering the computation cost by intelligently selecting a subset of patterns from a design in which the design or a modification of the design is configured to be imaged onto a substrate via a lithographic process. The method of selecting the subset of patterns from a design includes identifying a set of patterns from the design related to the predefined representation of the design. By selecting the subset of patterns according to the method, the selected subset of patterns constitutes a similar predefined representation of the design as the set of patterns.

    摘要翻译： 本发明涉及从设计中选择模式子集的方法，以及执行源和掩码优化的方法以及用于执行从设计中选择模式子集的方法的计算机程序产品。 根据某些方面，本发明能够覆盖整个设计，同时降低计算成本，通过智能地从设计中选择图案子集，其中设计的设计或修改被配置为经由光刻成像到衬底上 处理。 从设计中选择图案子集的方法包括从与设计的预定义表示相关的设计中识别一组图案。 通过根据该方法选择模式子集，所选择的模式子集构成与模式集合相似的设计表示。

    Method of pattern selection for source and mask optimization
    7.
    发明授权
    Method of pattern selection for source and mask optimization 有权
    源和掩码优化的图案选择方法

    公开(公告)号：US08739082B2

    公开(公告)日：2014-05-27

    申请号：US13505286

    申请日：2010-10-26

    申请人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li ,  Jun Ye ,  Min-Chun Tsai ,  Youping Zhang ,  Yen-Wen Lu ,  Jiangwei Li

    发明人： Hua-Yu Liu ,  Luoqi Chen ,  Hong Chen ,  Zhi-Pan Li ,  Jun Ye ,  Min-Chun Tsai ,  Youping Zhang ,  Yen-Wen Lu ,  Jiangwei Li

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70666 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009

    摘要： The present invention relates to a method of selecting a subset of patterns from a design, to a method of performing source and mask optimization, and to a computer program product for performing the method of selecting a subset of patterns from a design. According to certain aspects, the present invention enables coverage of the full design while lowering the computation cost by intelligently selecting a subset of patterns from a design in which the design or a modification of the design is configured to be imaged onto a substrate via a lithographic process. The method of selecting the subset of patterns from a design includes identifying a set of patterns from the design related to the predefined representation of the design. By selecting the subset of patterns according to the method, the selected subset of patterns constitutes a similar predefined representation of the design as the set of patterns.

    摘要翻译： 本发明涉及从设计中选择模式子集的方法，以及执行源和掩码优化的方法以及用于执行从设计中选择模式子集的方法的计算机程序产品。 根据某些方面，本发明能够覆盖整个设计，同时降低计算成本，通过智能地从设计中选择图案子集，其中设计的设计或修改被配置为经由光刻成像到衬底上 处理。 从设计中选择图案子集的方法包括从与设计的预定义表示相关的设计中识别一组图案。 通过根据该方法选择模式子集，所选择的模式子集构成与模式集合相似的设计表示。