公开(公告)号：US6087283A

公开(公告)日：2000-07-11

申请号：US581017

申请日：1996-01-03

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and an OH group concentration of at least 1,000 ppm. The silica glass is used for photolithography together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

摘要翻译： 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，OH基浓度为1000ppm以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起用于光刻。

公开(公告)号：US5707908A

公开(公告)日：1998-01-13

申请号：US582266

申请日：1996-01-03

申请人： Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03C3/04

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and a hydrogen molecule concentration of 1.times.10.sup.17 molecules/cm.sup.3 or more. The silica glass is used together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

摘要翻译： 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起使用。

公开(公告)号：US06518210B1

公开(公告)日：2003-02-11

申请号：US09593441

申请日：2000-06-14

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  G03F7/70241 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and an OH group concentration of at least 1,000 ppm. The silica glass is used for photolithography together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

摘要翻译： 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，OH基浓度为1,000ppm以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起用于光刻。

公开(公告)号：US5958809A

公开(公告)日：1999-09-28

申请号：US915562

申请日：1997-08-21

申请人： Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Shouji Yajima ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

发明人： Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Shouji Yajima ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03C13/04

CPC分类号： C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G03F7/2004 ,  C03B2201/07 ,  C03B2207/66 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/905

摘要： The invention relates to fluorine-containing silica glasses, and methods of their production. The silica glass may be used for an ultraviolet light optical system in which light in a wavelength region of 200 nm or less, such as an ArF (193 nm) excimer laser, is used. The invention also relates to a projection exposure apparatus containing fluorine-containing glass of the invention.

摘要翻译： 本发明涉及含氟二氧化硅玻璃及其制造方法。 石英玻璃可以用于其中使用200nm以下的波长区域的光，例如ArF（193nm）准分子激光器的紫外线光学系统。 本发明还涉及包含本发明的含氟玻璃的投影曝光装置。

公开(公告)号：US5699183A

公开(公告)日：1997-12-16

申请号：US484863

申请日：1995-06-07

申请人： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Norio Komine ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Issey Tanaka

发明人： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Norio Komine ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Issey Tanaka

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

摘要： Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of using a secondary treatment for hydrogen introduction.

摘要翻译： 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是使用二次氢气导入来提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US5679125A

公开(公告)日：1997-10-21

申请号：US498157

申请日：1995-07-05

申请人： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Norio Komine

发明人： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Norio Komine

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03B37/075 ,  C03C13/00 ,  G02B6/00

CPC分类号： G03F7/70058 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y10S65/90

摘要： A method for producing a synthetic silica glass for use with vacuum ultraviolet light comprises the steps of: (a) producing a soot preform; (b) heating the soot preform in an atmosphere containing fluorine to obtain a fluorine-doped soot preform; (c) consolidating the fluorine-doped soot preform to obtain a fluorine-doped synthetic silica glass; and (d) heating the fluorine-doped synthetic silica glass in an atmosphere containing hydrogen gas to obtain a synthetic silica glass doped with fluorine and hydrogen molecules. A synthetic silica glass having both a high transmittance and high ultraviolet light resistance with respect to light in the vacuum ultraviolet wavelength range can be produced.

摘要翻译： 一种用于真空紫外光的合成石英玻璃的制造方法包括以下步骤：（a）制造烟灰预制件; （b）在含氟气氛中加热烟炱预制件以获得掺氟烟炱预制件; （c）固结氟掺杂烟炱预制件以获得掺氟合成石英玻璃; 和（d）在含有氢气的气氛中加热氟掺杂的合成石英玻璃，得到掺有氟和氢分子的合成二氧化硅玻璃。 可以制造在真空紫外线波长范围内相对于光具有高透射率和高耐紫外光性的合成二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US5908482A

公开(公告)日：1999-06-01

申请号：US927630

申请日：1997-09-11

申请人： Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03B20/00 ,  C03C3/04

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass has a structure determination temperature of 1200K or lower and a hydrogen molecule concentration of 1.times.10.sup.17 molecules/cm.sup.3 or more. The silica glass is used together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter. The silica glass is produced by heating a silica glass ingot having a hydrogen molecule concentration of 1.times.10.sup.17 molecules/cm.sup.3 or more to a temperature of 1200-1350K, retaining the ingot at that temperature for a given period of time, and then, cooling the ingot to a temperature of 1000K or lower at a temperature-lowering rate of 50K/hr or less to anneal the ingot.

摘要翻译： 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起使用。 通过将氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上的二氧化硅玻璃锭加热至1200〜1350K的温度，将该锭保持在该温度下一定时间，然后冷却该锭 以50K /小时以下的降温速度升温至1000K以下的温度，对该锭进行退火。

公开(公告)号：US5703712A

公开(公告)日：1997-12-30

申请号：US509223

申请日：1995-07-31

申请人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G02B6/00 ,  C03C3/04 ,  C03C4/08 ,  C03C13/00

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

摘要： Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of the using a secondary treatment for hydrogen introduction.

摘要翻译： 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，通过在二氧化硅玻璃的合成时，通过引入氢分子，可以提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃构件，而不是使用二次氢气导入处理。

公开(公告)号：US5696624A

公开(公告)日：1997-12-09

申请号：US648867

申请日：1996-05-16

申请人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

摘要： Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of silica glass, instead of the secondary treatment for hydrogen introduction.

摘要翻译： 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是进行氢的二次处理，提供了对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US20050181656A1

公开(公告)日：2005-08-18

申请号：US10986021

申请日：2004-11-12

申请人： Kenji Hayakawa ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Kenji Hayakawa ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： G01R31/26 ,  G01R1/04 ,  G01R1/073 ,  H01R13/24 ,  H01R13/62 ,  H01R33/76

CPC分类号： H01R13/2435 ,  G01R1/0466

摘要： A socket for an electrical part of the present invention has a socket body provided with an accommodation portion in which an IC package is accommodated, an open/close mechanism having a heat sink for performing radiation of heat of the IC package accommodated on the socket body, and a latch member for pressing the IC package accommodated on the socket body, in which opening and closing timings of the open/close mechanism and the latch member are set such that the latch member is first closed and the open/close mechanism is thereafter closed.

摘要翻译： 本发明的电气部件用插座具有：插座主体，设置有容纳IC封装的容纳部，具有散热片的开闭机构，所述散热器用于对容纳在插座本体上的IC封装进行放热 以及用于按压容纳在插座主体上的IC封装的闩锁构件，其中开闭机构和闩锁构件的打开和关闭定时被设定为使得闩锁构件首先关闭，并且其后的打开/关闭机构 关闭。