公开(公告)号：US07304720B2

公开(公告)日：2007-12-04

申请号：US10369108

申请日：2003-02-20

申请人： Santiago del Puerto ,  Eric R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago del Puerto ,  Eric R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/58

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： A system and method are used to protect a mask from being contaminated by airborne particles. They include coupling a reticle and a cover to protect the reticle. The cover includes a frame and a movable panel that moves to allow direct access of light to the reticle during an exposure process. The reticle and cover are moved to a stage using a robot gripper. The reticle and cover may be coupled to a baseplate before being moved. Corresponding alignment devices are coupled to the frame and the panel, the gripper and the panel, and the baseplate and the panel. The stage and the frame can have corresponding attachment devices. A pre-alignment device can be used to align the reticle before transporting it to a stage. The pre-alignment device and the frame can have corresponding alignment devices that can be used to perform the pre-alignment. Predetermined areas of the reticle can be hardened or shaped, such that less particles are produced during contact with the reticle.

摘要翻译： 使用系统和方法来保护面罩免受空气传播的颗粒污染。 它们包括连接掩模版和盖板以保护掩模版。 盖子包括框架和移动面板，移动以允许在曝光过程中将光直接接近光罩。 使用机器人夹持器将掩模版和盖板移动到平台。 在移动之前，掩模版和盖可以联接到基板。 相应的对准装置联接到框架和面板，夹具和面板以及基板和面板。 舞台和框架可以具有相应的附件装置。 可以使用预对准装置将掩模版运送到台架之前对齐。 预对准装置和框架可以具有可用于执行预对准的相应对准装置。 掩模版的预定区域可以被硬化或成形，使得在与掩模版接触期间产生较少的颗粒。

公开(公告)号：US20110001955A1

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：US12882712

申请日：2010-09-15

申请人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  G02B7/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： Systems and methods to protect a mask from being contaminated by airborne particles are described. The systems and methods include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 描述了保护面罩免受空气传播颗粒污染的系统和方法。 这些系统和方法包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。

公开(公告)号：US06906783B2

公开(公告)日：2005-06-14

申请号：US10369323

申请日：2003-02-20

申请人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： B65G49/07 ,  G03B27/42 ,  G03B27/48 ,  G03B27/58 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： A system and method are used to protect a mask from being contaminated by airborne particles. They include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 使用系统和方法来保护面罩免受空气传播的颗粒污染。 它们包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。

公开(公告)号：US07209220B2

公开(公告)日：2007-04-24

申请号：US11299787

申请日：2005-12-13

申请人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olson ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/58

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： A system and method are used to protect a mask from being contaminated by airborne particles. They include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 使用系统和方法来保护面罩免受空气传播的颗粒污染。 它们包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。

公开(公告)号：US07830497B2

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：US11785548

申请日：2007-04-18

申请人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olsen ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olsen ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/52 ,  G03B27/62

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： Systems and methods to protect a mask from being contaminated by airborne particles are described. The systems and methods include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 描述了保护面罩免受空气传播颗粒污染的系统和方法。 这些系统和方法包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。

公开(公告)号：US08446570B2

公开(公告)日：2013-05-21

申请号：US12882712

申请日：2010-09-15

申请人： Santiago Del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olsen ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago Del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olsen ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/58

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： Systems and methods to protect a mask from being contaminated by airborne particles are described. The systems and methods include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 描述了保护面罩免受空气传播颗粒污染的系统和方法。 这些系统和方法包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。

公开(公告)号：US20130010277A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13618204

申请日：2012-09-14

申请人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olsen ,  Jonathan H. Feroce

发明人： Santiago del Puerto ,  Erik R. Loopstra ,  Andrew Massar ,  Duane P. Kish ,  Abdullah Alikhan ,  Woodrow J. Olsen ,  Jonathan H. Feroce

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70741 ,  G03F7/70983 ,  G03F9/7011 ,  H01L21/67353 ,  H01L21/67359 ,  Y10S414/135

摘要： Systems and methods to protect a mask from being contaminated by airborne particles are described. The systems and methods include providing a reticle secured in a two-part cover. The two part cover includes a removable protection device used to protect the reticle from contaminants. The cover can be held inside a pod or box that can be used to transport the cover through a lithography system from an atmospheric section to a vacuum section. While in the vacuum section, the removable cover can be moved during an exposure process during which a pattern on the reticle can be formed on a wafer.

摘要翻译： 描述了保护面罩免受空气传播颗粒污染的系统和方法。 这些系统和方法包括提供固定在两部分覆盖物中的掩模版。 两部分盖子包括一个可拆卸的保护装置，用于保护光罩免受污染。 盖可以保持在可以用于将盖通过光刻系统从大气部分输送到真空部分的盒或盒中。 在真空部分中，可移动的盖可以在曝光过程中移动，在曝光过程期间可以在晶片上形成掩模版上的图案。