公开(公告)号：US20050181620A1

公开(公告)日：2005-08-18

申请号：US11081196

申请日：2005-03-16

申请人： Michael Parent ,  Patricia Savu ,  Richard Flynn ,  Zhongxing Zhang ,  William Lamanna ,  Zai-Ming Qiu ,  George I. Moore

发明人： Michael Parent ,  Patricia Savu ,  Richard Flynn ,  Zhongxing Zhang ,  William Lamanna ,  Zai-Ming Qiu ,  George I. Moore

IPC分类号： C09K13/08 ,  H01L21/311 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

CPC分类号： C09K13/08 ,  H01L21/31111

摘要： Novel aqueous, acid etch solutions comprising a fluorinated surfactant are provided. The etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the etching of silicon oxide-containing substrates.

公开(公告)号：US06841333B2

公开(公告)日：2005-01-11

申请号：US10286330

申请日：2002-11-01

申请人： William M. Lamanna ,  Gregory D. Clark ,  Richard M. Flynn ,  Zai-Ming Qiu

发明人： William M. Lamanna ,  Gregory D. Clark ,  Richard M. Flynn ,  Zai-Ming Qiu

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C07C25/13 ,  C07C43/00 ,  C07C319/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

摘要： Photoacid generator salts comprising photoactive cationic moieties and segmented, highly fluorinated-hydrocarbon anionic moieties are disclosed which provide high photoacid strength and can be tailored for solubility and polarity. The present invention further relates to photoacid generators as they are used in photoinitiated acid-catalyzed processes for uses such as photoresists for microlithography and photopolymerization.

摘要翻译： 公开了包含光活性阳离子部分和分段的高度氟化烃阴离子部分的光酸产生剂盐，其提供高光酸强度并且可以针对溶解度和极性而定制。 本发明还涉及光酸产生剂，因为它们用于光引发酸催化的用于微光刻和光聚合的光致抗蚀剂的用途。

公开(公告)号：US06753380B2

公开(公告)日：2004-06-22

申请号：US09803708

申请日：2001-03-09

申请人： Zai-Ming Qiu

发明人： Zai-Ming Qiu

IPC分类号： C08L6702

CPC分类号： C09D167/00 ,  C07C311/09 ,  C08G63/6824 ,  C08L67/00 ,  C08L101/00 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/31504 ,  C08L2666/02

摘要： Fluorochemical ester compositions comprising one or more compounds or oligomers having at least on fluorine-containing repeatable unit and at least one fluorine-containing terminal group are described. The compositions are useful as coatings or incorporated as melt additives. The fluorochemical compositions impart oil and water repellency to the substrate. In other aspects, this invention relates to processes for imparting oil and water repellency characteristics to substrates and articles.

摘要翻译： 含有一种或多种具有至少含氟可重复单元和至少一个含氟末端基团的化合物或低聚物的含氟化合物组合物被描述。 该组合物可用作涂料或作为熔融添加剂掺入。 含氟化合物赋予基底油和拒水性。 在其它方面，本发明涉及赋予基材和制品防油拒斥特性的方法。

公开(公告)号：US06255536B1

公开(公告)日：2001-07-03

申请号：US09470497

申请日：1999-12-22

申请人： Allan T. Worm ,  George G. I. Moore ,  Miguel A. Guerra ,  Werner Schwertfeger ,  Klaus Hintzer ,  Zai-Ming Qiu ,  Erik D. Hare

发明人： Allan T. Worm ,  George G. I. Moore ,  Miguel A. Guerra ,  Werner Schwertfeger ,  Klaus Hintzer ,  Zai-Ming Qiu ,  Erik D. Hare

IPC分类号： C07F4311

CPC分类号： C07C41/24 ,  C07C41/18 ,  C07C41/48 ,  C07C67/307 ,  C07C2601/14 ,  C07C69/708 ,  C07C43/17 ,  C07C43/192 ,  C07C43/313

摘要： The present invention describes a novel process for the preparation of perfluorovinyl ethers. The process involves providing a hydrocarbon precursor that may be partially halogenated, fluorinating the precursor to provide a perfluorinated intermediate, and converting the perfluorinated intermediate to the desired perfluorinated ether. Novel perfluorovinyl ethers are also provided.

摘要翻译： 本发明描述了制备全氟乙烯基醚的新方法。 该方法包括提供可以部分卤化的烃前体，氟化前体以提供全氟化中间体，并将全氟化中间体转化为所需的全氟化醚。 还提供了新的全氟乙烯基醚。

公开(公告)号：US09580526B2

公开(公告)日：2017-02-28

申请号：US13885185

申请日：2011-12-09

申请人： Zai-Ming Qiu ,  Gregg D. Dahlke ,  Tatsuo Fukushi ,  Werner M. Grootaert ,  Miguel A. Guerra

发明人： Zai-Ming Qiu ,  Gregg D. Dahlke ,  Tatsuo Fukushi ,  Werner M. Grootaert ,  Miguel A. Guerra

IPC分类号： C08F14/16 ,  C08F8/34 ,  C08F114/16 ,  C08F8/44 ,  C08F28/02

CPC分类号： C08F114/16 ,  C08F8/12 ,  C08F8/26 ,  C08F8/34 ,  C08F8/44 ,  C08F14/16 ,  C08F28/02 ,  C08F114/185 ,  C08F214/182 ,  C08F2800/20 ,  C08F2810/50 ,  C08F214/184 ,  C08F228/02

摘要： Described herein is a composition comprising a fluorinated polysulfinic acid or a salt thereof having the following formula (I): wherein X1, X2, and X3 are independently selected from H, F, Cl, Br, I, CF3, and CH3 and wherein at least one of X1, X2, or X3 is H; R1 is a linking group; Z1 and Z2 are independently selected from Br, Cl, I, F, CF3, and a perfluorinated alkyl group; M is a cation; p is 0 or 1; and n is at least 2. Also described is a method of making the partially fluorinated polysulfinic acid or salt thereof.

摘要翻译： 本文描述的是包含具有下式（I）的氟化聚亚磺酸或其盐的组合物：其中X 1，X 2和X 3独立地选自H，F，Cl，Br，I，CF 3和CH 3，并且其中 X 1，X 2或X 3中的至少一个为H; R1是连接基团; Z 1和Z 2独立地选自Br，Cl，I，F，CF 3和全氟化烷基; M是阳离子; p为0或1; 并且n至少为2.还描述了制备部分氟化聚亚磺酸或其盐的方法。

公开(公告)号：US09200175B2

公开(公告)日：2015-12-01

申请号：US11321679

申请日：2005-12-29

申请人： Cheng-Chung Chang ,  Zai-Ming Qiu ,  Naiyong Jing

发明人： Cheng-Chung Chang ,  Zai-Ming Qiu ,  Naiyong Jing

IPC分类号： C09D133/16 ,  B32B27/06 ,  C09D133/14 ,  C08L39/00

CPC分类号： C09D133/16 ,  B32B27/06 ,  C08L39/00 ,  C08L2205/02 ,  C08L2312/00 ,  C09D133/14 ,  Y10T442/20 ,  Y10T442/2279 ,  Y10T442/2287 ,  Y10T442/2615 ,  Y10T442/273 ,  Y10T442/2738 ,  C08L2666/20

摘要： The invention features an article comprising a reactive substrate that forms a covalent or hydrogen bond with a surface layer. The surface layer of the article comprises the reaction product of at least one monoterminated (per)fluoropolyether (meth)acryl compound and at least one monomer or oligomer having at least two (meth)acryl groups.

摘要翻译： 本发明的特征在于包含与表面层形成共价键或氢键的反应性底物的制品。 制品的表面层包含至少一个单发（全）氟聚醚（甲基）丙烯酸化合物和至少一种具有至少两个（甲基）丙烯酰基的单体或低聚物的反应产物。

公开(公告)号：US08946465B2

公开(公告)日：2015-02-03

申请号：US13994819

申请日：2011-12-13

申请人： Miquel A. Guerra ,  Gregg D. Dahlke ,  Denis Duchesne ,  Tatsuo Fukushi ,  Werner M. A. Grootaert ,  Zai-Ming Qiu

发明人： Miquel A. Guerra ,  Gregg D. Dahlke ,  Denis Duchesne ,  Tatsuo Fukushi ,  Werner M. A. Grootaert ,  Zai-Ming Qiu

IPC分类号： C07C313/04 ,  C08G75/00 ,  C07C303/22 ,  C08F214/18

CPC分类号： C08G75/00 ,  C07C303/22 ,  C07C313/04 ,  C08F214/18 ,  C07C309/82

摘要： There is provided a method for preparing oligomers and co-oligomers of highly fluorinated sulfuric acids and salts thereof.

摘要翻译： 提供了制备高度氟化亚磺酸及其盐的低聚物和共低聚物的方法。

公开(公告)号：US08748060B2

公开(公告)日：2014-06-10

申请号：US13389043

申请日：2010-09-14

申请人： Zai-Ming Qiu

发明人： Zai-Ming Qiu

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/11 ,  C08G65/00 ,  C08G65/336 ,  C09D133/16 ,  C07F7/10 ,  C07F7/08 ,  C08F220/24 ,  C08F30/08

CPC分类号： C08G65/007 ,  C08F220/24 ,  C08G18/792 ,  C08G18/8087 ,  C08G18/809 ,  C08G65/22 ,  C08G65/336 ,  C09D4/06 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0758

摘要： A coating including an oligomer is disclosed, the oligomer being the reaction product of an epoxy silane, a multifunctional (meth)acrylate; and a polymerizable fluorochemical. The polymerizable fluorochemical can be fluorinated (meth)acrylate or a polymerizable fluorinated urethane. Phototools having a layer of the coating on a substrate can be made. A method of making a printed assembly such as a printed circuit board is also disclosed.

摘要翻译： 公开了包含低聚物的涂层，所述低聚物是环氧硅烷，多官能（甲基）丙烯酸酯的反应产物; 和可聚合的含氟化合物。 可聚合氟化物可以是氟化（甲基）丙烯酸酯或可聚合的氟化氨基甲酸酯。 可以制造具有在基底上的涂层层的照相工具。 还公开了一种制造诸如印刷电路板的印刷组件的方法。

公开(公告)号：US08703385B2

公开(公告)日：2014-04-22

申请号：US13370767

申请日：2012-02-10

申请人： Zai-Ming Qiu ,  Douglas C. Fall

发明人： Zai-Ming Qiu ,  Douglas C. Fall

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08G77/46 ,  C08L83/12 ,  Y10T428/31507

摘要： A low surface energy photoresist composition is described that comprises a silicone-polyether block copolymer, wherein the silicone block comprises 35 wt. % or more of said copolymer. When compounded with a photoresist composition, the composition enables the release of a phototool from the photoresist layer.

摘要翻译： 描述了一种低表面能光致抗蚀剂组合物，其包含硅氧烷 - 聚醚嵌段共聚物，其中硅氧烷嵌段包含35wt。 ％以上的所述共聚物。 当与光致抗蚀剂组合物复合时，组合物能够从光致抗蚀剂层释放光学工具。

公开(公告)号：US20130288162A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：US13457657

申请日：2012-04-27

申请人： Zai-Ming Qiu ,  Douglas C. Fall

发明人： Zai-Ming Qiu ,  Douglas C. Fall

IPC分类号： G03F1/48 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038

摘要： A low surface energy photoresist composition is described that comprises a silicone-polyether block copolymer, wherein the silicone block comprises 35 wt. % or more of said copolymer. When compounded with a photoresist composition, the composition enables the release of a phototool from the photoresist layer.

摘要翻译： 描述了一种低表面能光致抗蚀剂组合物，其包含硅氧烷 - 聚醚嵌段共聚物，其中硅氧烷嵌段包含35wt。 ％以上的所述共聚物。 当与光致抗蚀剂组合物复合时，组合物能够从光致抗蚀剂层释放光学工具。