公开(公告)号：US5736818A

公开(公告)日：1998-04-07

申请号：US616349

申请日：1996-03-15

申请人： Michael J. Ulczynski ,  Donnie K. Reinhard ,  Jes Asmussen

发明人： Michael J. Ulczynski ,  Donnie K. Reinhard ,  Jes Asmussen

IPC分类号： H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC分类号： H01J37/32532 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32834

摘要： A plasma (56, 333) generating apparatus (10, 320, 450) wherein a stage (250, 300, 300A, 350, 400, 425) is constructed to keep the plasma on the substrate (S). A pair of electrically, non-conductive tubes (252, 252A, 303, 305, 303A, 305A 403, 405) are mounted on a conductive base plate (253,306,406) having holes (255, 306B) for gas flow and one of the tubes supports a conductive support plate (251, 301, 351, 401) for a substrate (S). An electrically conductive disk (304, 404) between the tubes is provided. An outer conductive tube (307, 418) is preferably used with larger diameter chambers. The stage is designed to prevent the plasma from falling below conductive support plate which preferably mounts a graphite insert (302, 352, 402) which supports the substrate.

摘要翻译： 一种等离子体（56,333）发生装置（10,320,450），其中构造了用于将等离子体保持在衬底（S）上的级（250,3300,300,400,450）。 一对电不导电管（252,252A，303,305,303A，305A，403,405）安装在具有用于气流的孔（255,306B）的导电基板（253,306,406）上，并且其中一个管 支撑用于衬底（S）的导电支撑板（251,301,351,401）。 提供了管之间的导电盘（304,404）。 外导电管（307,418）优选用于较大直径的腔室。 该台被设计成防止等离子体落在导电支撑板之下，其优选地安装支撑衬底的石墨插入件（302,352,402）。

公开(公告)号：US5711698A

公开(公告)日：1998-01-27

申请号：US437102

申请日：1995-05-05

申请人： Rabindra N. Chakraborty ,  Michael J. Ferrecchia ,  Paul D. Goldman ,  Donnie K. Reinhard

发明人： Rabindra N. Chakraborty ,  Michael J. Ferrecchia ,  Paul D. Goldman ,  Donnie K. Reinhard

IPC分类号： B01J19/08 ,  C04B41/00 ,  C04B41/53 ,  C04B41/80 ,  C04B41/91 ,  C30B29/04 ,  C30B33/00 ,  H01L21/3065 ,  B24B1/00

CPC分类号： C04B41/009 ,  C04B41/0054 ,  C04B41/5346 ,  C04B41/80 ,  C04B41/91 ,  C30B29/04 ,  C30B33/00 ,  H01L21/3065 ,  C04B2111/00844

摘要： A method for ablating a synthetic diamond having a pitted surface includes applying a colloidal graphite to the surface of the diamond and subjecting it to an oxygen plasma so that preferably approximately 50 microns are removed from the surface of the synthetic diamond. The resulting surface of the diamond is virtually pit free. Preferably, the diamond is then mechanically lapped for finishing.

摘要翻译： 用于烧蚀具有凹坑表面的合成金刚石的方法包括将胶体石墨施加到金刚石的表面并使其经受氧等离子体，使得优选地从合成金刚石的表面除去约50微米。 所得到的钻石表面实际上是无空隙的。 优选地，将金刚石机械研磨以进行精加工。