公开(公告)号：US20090011362A1

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：US12147615

申请日：2008-06-27

申请人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki TSUBAKI ,  Kenji WADA

发明人： Shinji TARUTANI ,  Hideaki TSUBAKI ,  Kenji WADA

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/203 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/70466

摘要： A pattern forming method performs a multiple exposure process, the multiple exposure process comprising: exposing a resist film with actinic rays or radiation a plurality of times, wherein a contact angle of the resist film for water is 75° or more.

摘要翻译： 图案形成方法执行多次曝光处理，所述多次曝光处理包括：用光化射线或辐射多次曝光抗蚀剂膜，其中用于水的抗蚀剂膜的接触角为75°以上。

公开(公告)号：US20120237723A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：US13410809

申请日：2012-03-02

申请人： Kenji WADA

发明人： Kenji WADA

IPC分类号： B32B3/24 ,  B29C45/14 ,  B32B3/10 ,  H05K3/10 ,  C01B31/00

CPC分类号： B32B15/02 ,  B29C45/1418 ,  B29C45/14811 ,  B32B15/08 ,  B32B2605/003 ,  Y10T428/24331 ,  Y10T428/24917

摘要： A film member and a film molded product are disclosed that include a film layer, a decorative layer having a predetermined image, a metal wiring layer having a metal wiring, and a shape retaining layer.

摘要翻译： 公开了一种膜构件和膜模制品，其包括膜层，具有预定图像的装饰层，具有金属布线的金属布线层和形状保持层。

公开(公告)号：US20120003436A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13172937

申请日：2011-06-30

申请人： Toshiyuki SAIE ,  Kenji WADA ,  Masaomi MAKINO ,  Hisamitsu TOMEBA ,  Mitsuji YOSHIBAYASHI

发明人： Toshiyuki SAIE ,  Kenji WADA ,  Masaomi MAKINO ,  Hisamitsu TOMEBA ,  Mitsuji YOSHIBAYASHI

IPC分类号： B32B3/10 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/033 ,  H01L2924/3025 ,  Y10T428/24802 ,  H01L2924/00

摘要： A photosensitive composition contains (A) a hollow or porous particle, (B) a compound capable of generating an active species upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a compound capable of changing in the solubility for an alkali developer by the action of the active species.

摘要翻译： 光敏组合物含有（A）中空或多孔颗粒，（B）能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生活性物质的化合物，和（C）能够通过以下方式改变碱显影剂的溶解度的化合物： 活性物种的作用。

公开(公告)号：US20090023096A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12176589

申请日：2008-07-21

申请人： Shinji TARUTANI ,  Kenji WADA ,  Hideaki TSUBAKI

发明人： Shinji TARUTANI ,  Kenji WADA ,  Hideaki TSUBAKI

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38

摘要： A positive resist composition, includes: (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (B) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid, the resin containing 80 mol % or more of an aromatic group-free copolymerization component; and (C) a compound capable of decomposing under an action of an acid to generate an acid, wherein an absolute value of difference in pKa between the acid generated from the component (A) and the acid generated from the component (C) is 2 or less, and an absolute value of difference in molecular weight between the acid generated from the component (A) and the acid generated from the component (C) is 50 or less.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （B）在酸的作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂，所述树脂含有80摩尔％以上的无芳族基团的共聚成分; 和（C）能够在酸的作用下分解以产生酸的化合物，其中由组分（A）产生的酸与由组分（C）产生的酸之间的pKa的差异绝对值为2 （A）生成的酸与由成分（C）生成的酸之间的分子量差的绝对值为50以下。