公开(公告)号：US5518860A

公开(公告)日：1996-05-21

申请号：US463887

申请日：1995-06-05

申请人： Satoshi Niikura ,  Jun Koshiyama ,  Tetsuya Kato ,  Kouichi Takahashi ,  Hidekatsu Kohara ,  Toshimasa Nakayama

发明人： Satoshi Niikura ,  Jun Koshiyama ,  Tetsuya Kato ,  Kouichi Takahashi ,  Hidekatsu Kohara ,  Toshimasa Nakayama

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/085 ,  H01L21/027 ,  G03F7/023 ,  G03C1/61

CPC分类号： G03F7/0226

摘要： A positive-working photoresist composition comprising a cresol novolac resin as the film-forming agent and a quinonediazido group-containing compound as the photosensitizing agent is admixed with a limited amount of a hydroxyalkyl-substituted pyridine compound so that great improvements can be obtained in the adhesive bonding of the resist layer to the substrate surface and in the stability of the composition by storage still without the problem due to the sublimed material from the resist layer during the patterning process.

摘要翻译： 将包含作为成膜剂的甲酚酚醛清漆树脂和含有醌二叠氮基的化合物作为光敏剂的正性光致抗蚀剂组合物与有限量的羟烷基取代的吡啶化合物混合，从而可以在 通过存储，抗蚀剂层与基材表面的粘合粘合和组合物的稳定性，在图案化工艺期间由于来自抗蚀剂层的升华材料而没有问题。

公开(公告)号：US6106994A

公开(公告)日：2000-08-22

申请号：US210716

申请日：1998-12-14

申请人： Satoshi Niikura ,  Hidekatsu Kohara ,  Toshimasa Nakayama

发明人： Satoshi Niikura ,  Hidekatsu Kohara ,  Toshimasa Nakayama

IPC分类号： C07C303/28 ,  C07C309/76 ,  G03F7/022 ,  G03C1/492 ,  C07C50/08 ,  C07C303/00

CPC分类号： C07C303/28 ,  G03F7/022

摘要： A process for producing a polyphenol diester comprises esterifying a polyphenol compound and a naphthoquinone-1,2-diazidesulfonyl halide in the presence of for example monomethyldicyclohexylamine, and a positive photosensitive composition contains the resultant ester. According to this process, a diester of any polyphenol compound can be obtained with ease in a good yield, and a composition using the diester can achieve a high definition and a satisfactory exposure margin.

摘要翻译： 一种生产多酚二酯的方法包括在例如单甲基二环己基胺的存在下酯化多酚化合物和萘醌-1,2-二氮杂磺酰卤，并且正性感光组合物含有所得的酯。 根据该方法，可以容易地以良好的收率获得任何多酚化合物的二酯，并且使用二酯的组合物可以实现高清晰度和令人满意的曝光余量。

公开(公告)号：US06964838B2

公开(公告)日：2005-11-15

申请号：US10035137

申请日：2002-01-04

申请人： Masaki Kurihara ,  Takako Suzuki ,  Kenji Maruyama ,  Satoshi Niikura ,  Kousuke Doi

发明人： Masaki Kurihara ,  Takako Suzuki ,  Kenji Maruyama ,  Satoshi Niikura ,  Kousuke Doi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023

CPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/0226

摘要： A composition includes (A) an alkali-soluble resin, (B) a quinonediazide ester of a compound represented by the following formula: and (C) a compound represented by the following formula: This composition is a positive photoresist composition that is excellent in sensitivity and definition and causes less shrink.

摘要翻译： 组合物包括（A）碱溶性树脂，（B）由下式表示的化合物的醌二叠氮化物：（C）由下式表示的化合物：该组合物是阳性光致抗蚀剂组合物， 敏感性和定义，并且减少收缩。

公开(公告)号：US20050244740A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：US10522036

申请日：2004-05-19

申请人： Kenji Maruyama ,  Masaki Kurihara ,  Ken Miyagi ,  Satoshi Niikura ,  Satoshi Shimatani ,  Masahiro Masujima ,  Kazuyuki Nitta ,  Toshihiro Yamaguchi ,  Kousuke Doi

发明人： Kenji Maruyama ,  Masaki Kurihara ,  Ken Miyagi ,  Satoshi Niikura ,  Satoshi Shimatani ,  Masahiro Masujima ,  Kazuyuki Nitta ,  Toshihiro Yamaguchi ,  Kousuke Doi

IPC分类号： G03C1/492 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

摘要： The present invention provides a chemical amplification type positive photoresist composition which is excellent in storage stability as a resist solution in a bottle. A novolak resin or a hydroxystyrenic resin is reacted with a crosslinking agent to give a slightly alkali-soluble or alkali-insoluble resin having such a property that solubility in an aqueous alkali solution is enhanced in the presence of an acid, which is then dissolved in an organic solvent, together with (B) a compound generating an acid under irradiation with radiation to obtain a chemical amplification type positive photoresist composition wherein the content of an acid component is 10 ppm or less.

摘要翻译： 本发明提供了作为瓶中的抗蚀剂溶液的储存稳定性优异的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物。 将酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯类树脂与交联剂反应，得到轻微碱溶性或碱不溶性树脂，其具有在酸存在下在碱溶液中的溶解度增强的性质，然后将其溶解于 有机溶剂与（B）在辐射照射下产生酸的化合物一起获得化学扩增型正性光致抗蚀剂组合物，其中酸成分的含量为10ppm以下。

公开(公告)号：US07358028B2

公开(公告)日：2008-04-15

申请号：US10522036

申请日：2004-05-19

申请人： Kenji Maruyama ,  Masaki Kurihara ,  Ken Miyagi ,  Satoshi Niikura ,  Satoshi Shimatani ,  Masahiro Masujima ,  Kazuyuki Nitta ,  Toshihiro Yamaguchi ,  Kousuke Doi

发明人： Kenji Maruyama ,  Masaki Kurihara ,  Ken Miyagi ,  Satoshi Niikura ,  Satoshi Shimatani ,  Masahiro Masujima ,  Kazuyuki Nitta ,  Toshihiro Yamaguchi ,  Kousuke Doi

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

摘要： The present invention provides a chemical amplification type positive photoresist composition which is excellent in storage stability as a resist solution in a bottle. A novolak resin or a hydroxystyrenic resin is reacted with a crosslinking agent to give a slightly alkali-soluble or alkali-insoluble resin having such a property that solubility in an aqueous alkali solution is enhanced in the presence of an acid, which is then dissolved in an organic solvent, together with (B) a compound generating an acid under irradiation with radiation to obtain a chemical amplification type positive photoresist composition wherein the content of an acid component is 10 ppm or less.

摘要翻译： 本发明提供了作为瓶中的抗蚀剂溶液的储存稳定性优异的化学增幅型正性光致抗蚀剂组合物。 将酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯类树脂与交联剂反应，得到轻微碱溶性或碱不溶性树脂，其具有在酸存在下在碱溶液中的溶解度增强的性质，然后将其溶解于 有机溶剂与（B）在辐射照射下产生酸的化合物一起获得化学扩增型正性光致抗蚀剂组合物，其中酸成分的含量为10ppm以下。

公开(公告)号：US20070117045A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11622988

申请日：2007-01-12

申请人： Kenji Maruyama ,  Masaki Kurihara ,  Ken Miyagi ,  Satoshi Niikura ,  Satoshi Shimatani ,  Masahiro Masujima ,  Kazuyuki Nitta ,  Toshihiro Yamaguchi ,  Kousuke Doi

发明人： Kenji Maruyama ,  Masaki Kurihara ,  Ken Miyagi ,  Satoshi Niikura ,  Satoshi Shimatani ,  Masahiro Masujima ,  Kazuyuki Nitta ,  Toshihiro Yamaguchi ,  Kousuke Doi

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

摘要： The present invention provides a chemical amplification type positive photoresist composition which is excellent in storage stability as a resist solution in a bottle A novolak resin or a hydroxystyrenic resin is reacted with a crosslinking agent to give a slightly alkali-soluble or alkali-insoluble resin having such a property that solubility in an aqueous alkali solution is enhanced in the presence of an acid, which is then dissolved in an organic solvent, together with (B) a compound generating an acid under irradiation with radiation to obtain a chemical amplification type positive photoresist composition wherein the content of an acid component is 10 ppm or less.

摘要翻译： 本发明提供一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，其作为瓶中的抗蚀剂溶液具有优异的储存稳定性将酚醛清漆树脂或羟基乙烯基树脂与交联剂反应，得到略微碱溶性或碱不溶性树脂，其具有 在碱的存在下，在溶解于有机溶剂中的酸的存在下，与（B）在辐射照射下产生酸的化合物一起溶解在碱溶液中的这种性质得到化学扩增型正性光致抗蚀剂 组分，其中酸成分的含量为10ppm以下。

公开(公告)号：US06869742B2

公开(公告)日：2005-03-22

申请号：US10109899

申请日：2002-04-01

申请人： Jyunichi Mizuta ,  Kouji Yonemura ,  Akira Katano ,  Satoshi Niikura ,  Kousuke Doi

发明人： Jyunichi Mizuta ,  Kouji Yonemura ,  Akira Katano ,  Satoshi Niikura ,  Kousuke Doi

IPC分类号： C08K5/13 ,  C08K5/42 ,  C08L61/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0226

摘要： A positive photoresist composition includes (A) an alkali-soluble novolak resin containing 1,2-naphthoquinonediazidosulfonyl groups substituting for part of hydrogen atoms of phenolic hydroxyl groups, (B) an ester of, for example, a compound represented by the following formula with a naphthoquinonediazidosulfonyl compound, and (C) a sensitizer:

摘要翻译： 正型光致抗蚀剂组合物包括（A）含有取代酚羟基的一部分氢原子的1,2-萘醌二叠氮基磺酰基的碱溶性酚醛清漆树脂，（B）例如由下式表示的化合物的酯与 萘醌二叠氮磺酰化合物，（C）敏化剂：