公开(公告)号：US5326826A

公开(公告)日：1994-07-05

申请号：US841532

申请日：1992-02-26

申请人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

发明人： Horst Roeschert ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Juergen Fuchs ,  Ralph Dammel

IPC分类号： C08F8/30 ,  C08F12/00 ,  C08F12/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/20 ,  G03F7/039 ,  C03F7/023 ,  C08F30/08

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F8/30

摘要： Radiation-sensitive polymers, a mixture containing these radiation-sensitive polymers as binder, and a process for the preparation of the radiation-sensitive polymer binders are disclosed. A positive radiation-sensitive recording material containing the radiation-sensitive polymer is also disclosed.

摘要翻译： 公开了辐射敏感聚合物，含有这些辐射敏感聚合物作为粘合剂的混合物，以及制备辐射敏感性聚合物粘合剂的方法。 还公开了含有辐射敏感性聚合物的正性辐射敏感记录材料。

公开(公告)号：US5066567A

公开(公告)日：1991-11-19

申请号：US500201

申请日：1990-03-28

申请人： Hans-Joachim Merrem ,  Gerhard Buhr ,  Ruediger Lenz

发明人： Hans-Joachim Merrem ,  Gerhard Buhr ,  Ruediger Lenz

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03C1/72 ,  G03C1/73 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/09

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A positive-working photosensitive composition is disclosed that comprises a photosensitive compound which is either of the o-quinone diazide type or comprises a photolytic acid donor in combination with a compound containing a C-O-C group, a binder which is soluble or swellable in an aqueous-alkaline solution and a dye of the general formula I ##STR1## The photosensitive composition of the present invention has a higher photosensitivity than comparable compositions containing other dyes.

公开(公告)号：US5338641A

公开(公告)日：1994-08-16

申请号：US26077

申请日：1993-03-04

申请人： Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Juergen Lingnau ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert

发明人： Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Juergen Lingnau ,  Ralph Dammel ,  Horst Roeschert

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F7/022 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0163

摘要： A positive-working radiation-sensitive mixture is disclosed which contains as essential constituents:a) an .alpha.,.alpha.-bis(sulfonyl)diazomethane, which forms a strong acid on irradiation, of the general formula ##STR1## in which R is an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heteroaryl radical,b) a compound having at least one C--O--C or C--O--Si--bond which can be cleaved by acid, andc) a water-insoluble binder which is soluble or at least swellable in aqueous alkaline solutions.The radiation-sensitive mixture according to the invention is notable for a high sensitivity over a wide spectral range. It also exhibits a high thermal stability and does not form any corrosive photolysis products on exposure to light.

摘要翻译： 公开了一种正面工作的辐射敏感性混合物，其包含作为必需组分的：a）在辐射下形成强酸的α，α-双（磺酰基）重氮甲烷，其通式为其中R为 任选取代的烷基，环烷基，芳基或杂芳基，b）具有至少一个可被酸裂解的COC或CO-Si键的化合物，和c）在水溶性或至少可溶胀的水不溶性粘合剂中 碱性溶液。 根据本发明的辐射敏感性混合物在宽光谱范围内对于高灵敏度是显着的。 它还具有很高的热稳定性，并且在曝光时不会形成任何腐蚀性光解产物。

公开(公告)号：US5256517A

公开(公告)日：1993-10-26

申请号：US694353

申请日：1991-05-01

申请人： Horst Roeschert ,  Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Ralph Dammel ,  Walter Spiess

发明人： Horst Roeschert ,  Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Ralph Dammel ,  Walter Spiess

IPC分类号： G03F7/016 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0163

摘要： A positive-working radiation-sensitive mixture is described which essentially contains a photoactive component and a water-insoluble binder which is soluble, or at least swellable, in aqueous alkaline solution, wherein a compound is used, as photoactive component, which contains .alpha.-diazo-.beta.-keto ester units and sulfonate units of the formula I ##STR1## in which R.sup.1 and R.sup.2, independently of one another, are an unsubstituted or substituted aliphatic, cycloaliphatic, araliphatic or aromatic radical having 4 to 20 carbon atoms, it being possible for individual CH.sub.2 groups to be replaced by oxygen or sulfur atoms or by N or NH groups and/or contain keto groups,X is an unsubstituted or substituted aliphatic, cycloaliphatic, carbocyclic, heterocyclic or araliphatic radical having 2 to 22 carbon atoms, it being possible for individual CH.sub.2 groups to be replaced by oxygen or sulfur atoms or by the groups --NR.sup.3 --, --C(O)--0--, --C(O)--NR.sup.3 --, ##STR2## --NR.sup.3 --C(O)--NR.sup.4 --, --O--C(O)--NR.sup.3 --, ##STR3## or --O--C(O)--O--, or CH groups to be replaced by ##STR4## in which R.sup.3 and R.sup.4, independently of one another, are hydrogen or an unsubstituted or substituted aliphatic, carbocyclic or araliphatic radical,m is an integer from 3 to 8,n is an integer from 1 to 3, and m>n.The radiation-sensitive mixture is especially suitable for exposure to radiation having a wavelength of about 190 to 300 nm.

摘要翻译： 描述了一种正性辐射敏感性混合物，其基本上含有光活性组分和在碱性水溶液中可溶或至少可溶胀的水不溶性粘合剂，其中使用化合物作为光敏组分，其含有α- 其中R 1和R 2彼此独立地是具有4至20个碳原子的未取代或取代的脂族，脂环族，芳脂族或芳族基团的重氮基 - β-酮酯单元和磺酸酯单元 各个CH 2基团可以被氧或硫原子或N或NH基团和/或含有酮基取代，X是未取代或取代的具有2至22个碳原子的脂族，脂环族，碳环，杂环或芳脂族基团 各个CH 2基团可以被氧或硫原子或基团-NR 3 - ， - C（O）-O-，-C（O）-NR 3 - ， - NR 3 -C （O）-NR 4 - ， - OC（O）-NR 3 - ， - 或 - OC （O）-O-或CH基团，其中R 3和R 4彼此独立地为氢或未取代或取代的脂族，碳环或芳脂族基团，m为3至8的整数 ，n为1〜3的整数，m> n。 辐射敏感混合物特别适用于暴露于波长为约190至300nm的辐射。

公开(公告)号：US4996301A

公开(公告)日：1991-02-26

申请号：US464003

申请日：1990-01-12

申请人： Peter Wilharm ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski

发明人： Peter Wilharm ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski

IPC分类号： G03F7/039 ,  A61K8/00 ,  A61Q17/04 ,  C07C245/18 ,  C07C271/10 ,  C07C271/20 ,  C07C271/24 ,  C07C275/10 ,  C07C275/26 ,  C07C275/32 ,  C07C275/40 ,  C07C323/12 ,  C07D209/48 ,  C07D251/34 ,  C07D295/14 ,  C08F2/50 ,  C09K3/00 ,  G03C1/52 ,  G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

CPC分类号： C07C245/18 ,  G03F7/0163 ,  C07C2101/14

摘要： Polyfunctional .alpha.-diazo-.beta.-keto esters of the general formula I are described ##STR1## in which R.sup.1 denotes an aliphatic, cycloaliphatic or araliphatic or aromatic radical having 4 to 20 carbon atoms, in which individual CH.sub.2 groups can be replaced by oxygen or sulfur atoms or by N-- or NH groups and/or contain keto groups,X denotes an aliphatic, cycloaliphatic, carbocyclic, heterocyclic or araliphatic radical having 2 to 22 carbon atoms, in which individual CH.sub.2 groups can be replaced by oxygen or sulfur atoms or by the groups ##STR2## in which R.sup.2 and R.sup.3 independently of one another represent hydrogen or an aliphatic, carbocyclic or araliphatic radical,m denotes an integer from 2 to 10 andn denotes an integer from 0 to 2,whereinm-n is .gtoreq.2.The compounds mentioned are used as photoactive components in radiation-sensitive mixtures.

摘要翻译： 具有通式I的多官能α重氮基-β-酮描述为其中R 1表示具有4至20个碳原子的脂族，脂环族或芳脂族或芳族基团，其中各个CH 2基团可以被替换 通过氧或硫原子或通过N-或NH基团和/或含有酮基，X表示具有2至22个碳原子的脂族，脂环族，碳环，杂环或芳脂族基团，其中各个CH 2基团可被氧或 硫原子或NR 2 C（O）NR 3，OC（O）NR 2，其中R 2和R 3彼此独立地表示氢或脂族，碳环或芳脂族基团，基团 表示2〜10的整数，n表示0〜2的整数，mn为≥2。 所述化合物用作辐射敏感混合物中的光敏组分。

公开(公告)号：US4576903A

公开(公告)日：1986-03-18

申请号：US685085

申请日：1984-12-21

申请人： Winfried Baron ,  Kurt Marquard ,  Hans-Joachim Merrem ,  Raimund Sindlinger ,  Klaus-Peter Thiel

发明人： Winfried Baron ,  Kurt Marquard ,  Hans-Joachim Merrem ,  Raimund Sindlinger ,  Klaus-Peter Thiel

IPC分类号： G03C1/72 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03C5/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/322

摘要： A developer suitable for use with positive photoresists is based on a buffered aqueous-alkaline solution containing non-ionic surfactants and contains in the solution 1-100 ppm of the surfactants, preferably of the ethoxylated-alkylphenol type. The resultant photoresist shows outstanding properties with respect to the resolution and edge sharpness obtainable in the developed resist image and with respect to its developing activity, developing capacity and stability.

摘要翻译： 适用于阳性光致抗蚀剂的显影剂基于含有非离子表面活性剂的缓冲的含水碱性溶液，并且在溶液中含有1-100ppm的表面活性剂，优选乙氧基化 - 烷基酚型。 所得到的光致抗蚀剂显示出在开发的抗蚀剂图像中可获得的分辨率和边缘清晰度以及相对于其显影活性，显影能力和稳定性的突出特性。