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    Positive-working radiation-sensitive mixture and recording material for exposure to UV radiation containing polyfunctional compound having .alpha.-.beta.-keto ester units and sulfonate units
    6.
    发明授权
    Positive-working radiation-sensitive mixture and recording material for exposure to UV radiation containing polyfunctional compound having .alpha.-.beta.-keto ester units and sulfonate units 失效
    用于暴露于UV辐射的正性辐射敏感混合物和记录材料，其含有具有α-重氮基 - β-酮酯单元和磺酸酯单元的多官能化合物

    公开(公告)号：US5256517A

    公开(公告)日：1993-10-26

    申请号：US694353

    申请日：1991-05-01

    申请人： Horst Roeschert ,  Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Ralph Dammel ,  Walter Spiess

    发明人： Horst Roeschert ,  Georg Pawlowski ,  Hans-Joachim Merrem ,  Ralph Dammel ,  Walter Spiess

    IPC分类号： G03F7/016 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023

    CPC分类号： G03F7/0163

    摘要： A positive-working radiation-sensitive mixture is described which essentially contains a photoactive component and a water-insoluble binder which is soluble, or at least swellable, in aqueous alkaline solution, wherein a compound is used, as photoactive component, which contains .alpha.-diazo-.beta.-keto ester units and sulfonate units of the formula I ##STR1## in which R.sup.1 and R.sup.2, independently of one another, are an unsubstituted or substituted aliphatic, cycloaliphatic, araliphatic or aromatic radical having 4 to 20 carbon atoms, it being possible for individual CH.sub.2 groups to be replaced by oxygen or sulfur atoms or by N or NH groups and/or contain keto groups,X is an unsubstituted or substituted aliphatic, cycloaliphatic, carbocyclic, heterocyclic or araliphatic radical having 2 to 22 carbon atoms, it being possible for individual CH.sub.2 groups to be replaced by oxygen or sulfur atoms or by the groups --NR.sup.3 --, --C(O)--0--, --C(O)--NR.sup.3 --, ##STR2## --NR.sup.3 --C(O)--NR.sup.4 --, --O--C(O)--NR.sup.3 --, ##STR3## or --O--C(O)--O--, or CH groups to be replaced by ##STR4## in which R.sup.3 and R.sup.4, independently of one another, are hydrogen or an unsubstituted or substituted aliphatic, carbocyclic or araliphatic radical,m is an integer from 3 to 8,n is an integer from 1 to 3, and m>n.The radiation-sensitive mixture is especially suitable for exposure to radiation having a wavelength of about 190 to 300 nm.

    摘要翻译： 描述了一种正性辐射敏感性混合物，其基本上含有光活性组分和在碱性水溶液中可溶或至少可溶胀的水不溶性粘合剂，其中使用化合物作为光敏组分，其含有α- 其中R 1和R 2彼此独立地是具有4至20个碳原子的未取代或取代的脂族，脂环族，芳脂族或芳族基团的重氮基 - β-酮酯单元和磺酸酯单元 各个CH 2基团可以被氧或硫原子或N或NH基团和/或含有酮基取代，X是未取代或取代的具有2至22个碳原子的脂族，脂环族，碳环，杂环或芳脂族基团 各个CH 2基团可以被氧或硫原子或基团-NR 3 - ， - C（O）-O-，-C（O）-NR 3 - ， - NR 3 -C （O）-NR 4 - ， - OC（O）-NR 3 - ， - 或 - OC （O）-O-或CH基团，其中R 3和R 4彼此独立地为氢或未取代或取代的脂族，碳环或芳脂族基团，m为3至8的整数 ，n为1〜3的整数，m> n。 辐射敏感混合物特别适用于暴露于波长为约190至300nm的辐射。

    Positively operating radiation-sensitive mixture containing a polyfunctional .alpha.-diazo-.beta.-keto ester and radiation-sensitive recording material containing this mixture
    7.
    发明授权
    Positively operating radiation-sensitive mixture containing a polyfunctional .alpha.-diazo-.beta.-keto ester and radiation-sensitive recording material containing this mixture 失效
    含有多官能（ALPHA）-DIAZO-（BETA）-KETO ESTER和含有该混合物的辐射敏感记录材料的正确操作的辐射敏感性混合物

    公开(公告)号：US5198322A

    公开(公告)日：1993-03-30

    申请号：US466007

    申请日：1990-01-12

    申请人： Peter Wilharm ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel

    发明人： Peter Wilharm ,  Hans-Joachim Merrem ,  Georg Pawlowski ,  Ralph Dammel

    IPC分类号： G03F7/039 ,  A61K8/00 ,  A61Q17/04 ,  C07C245/18 ,  C07C271/10 ,  C07C271/20 ,  C07C271/24 ,  C07C275/10 ,  C07C275/26 ,  C07C275/32 ,  C07C275/40 ,  C07C323/12 ,  C07D209/48 ,  C07D251/34 ,  C07D295/14 ,  C08F2/50 ,  C09K3/00 ,  G03C1/52 ,  G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

    CPC分类号： C07C245/18 ,  G03F7/0163 ,  C07C2101/14

    摘要： A positively operating radiation-sensitive mixture comprising a binder which is insoluble in water but soluble or at least swellable in aqueous alkaline solution, and as a photoactive component a polyfunctional .alpha.-diazo-.beta.-keto ester of the general formula I ##STR1## in which R.sup.1 denotes an aliphatic, cycloaliphatic or araliphatic or aromatic radical having 4 to 20 carbon atoms, in which individual CH.sub.2 groups can be replaced by oxygen or sulfur atoms or by ##STR2## or NH groups and/or contain keto groups, X denotes an aliphatic, cycloaliphatic, carbocyclic, heterocyclic or araliphatic radical having 2 to 22 carbon atoms, in which individual CH.sub.2 groups can be replaced by oxygen or sulfur atoms or by the groups --NR.sup.2 --, --C(O)--O--, --C(O)--NR.sup.2 --, --C(O)-- ##STR3## --NR.sup.2 --C(O)--NR.sup.3 --, --O--C(O)--NR.sup.2 --, --C(O)-- ##STR4## or --O--C(O)--O--, or CH groups can be replaced by ##STR5## in which R.sup.2 and R.sup.3 independently of one another represent hydrogen or an aliphatic, carbocyclic or araliphatic radical,m denotes an integer from 2 to 10 andn denotes an integer from 0 to 2, whereinm-n is .gtoreq.2,is described.The radiation-sensitive mixture is particularly suitable for exposure using radiation of wavelength 190 to 300 nm.

    摘要翻译： 一种正面工作的辐射敏感性混合物，其包含不溶于水但在碱性水溶液中可溶或至少可溶胀的粘合剂，以及作为光活性组分的通式I的多官能α-重氮基β-酮酯（IMAGE）（ I），其中R1表示具有4至20个碳原子的脂族，脂环族或芳脂族或芳族基团，其中各个CH 2基团可以被氧或硫原子替代，或者通过<或>或/或含有酮基， X表示具有2至22个碳原子的脂族，脂环族，碳环，杂环或芳脂族基团，其中各个CH 2基团可被氧或硫原子替代，或由-NR 2 - ， - C（O）-O-， -C（O）-NR 2 - ， - C（O）-NR 2 -C（O）-NR 3 - ， - OC（O）-NR 2 - ， - C（O） （O）-O-或CH基团可以被其中R 2和R 3彼此独立地表示氢或脂族，碳环或芳脂族基团的“IMAGE”代替，m表示 s为2至10的整数，n表示0至2的整数，其中m-n为> / = 2。 辐射敏感的混合物特别适用于使用波长为190至300nm的辐射的曝光。

    Solvents for photoresist removal
    9.
    发明授权
    Solvents for photoresist removal 失效
    溶剂去除光致抗蚀剂

    公开(公告)号：US4765844A

    公开(公告)日：1988-08-23

    申请号：US920665

    申请日：1986-10-20

    申请人： Hans-Joachim Merrem ,  Axel Schmitt

    发明人： Hans-Joachim Merrem ,  Axel Schmitt

    IPC分类号： G03C11/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/26 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  C11D7/32 ,  C09D9/04 ,  C23D17/00

    CPC分类号： G03F7/425

    摘要： The invention relates to solvent systems which are based on water-soluble amino derivatives and propylene glycol components, for removing photoresists. These solvent systems are comprised of(a) from about 10 to 100% by weight of at least one water-soluble amine of the general formula ##STR1## in which R.sup.1, R.sup.2, R.sup.3, R.sup.4 denote H or alkyl groupsn,m denote 0 to 2, ando denotes 1 to 3; and(b) from about 0 to 90% by weight of at least one water-soluble propylene glycol derivative of the general formula ##STR2## in which R.sup.3, R.sup.4 denote H, alkyl or ##STR3## and P denotes 1 to 3.

    摘要翻译： 本发明涉及基于水溶性氨基衍生物和丙二醇组分的溶剂系统，用于除去光致抗蚀剂。 这些溶剂体系包括（a）约10至100重量％的至少一种通式为“IMAGE”的水溶性胺，其中R 1，R 2，R 3，R 4表示H或烷基n，m表示 0〜2，o表示1〜3; 和（b）约0至90重量％的至少一种通式为“IMAGE”的水溶性丙二醇衍生物，其中R3，R4表示H，烷基或“IMAGE”，P表示1至3。

    Coating solution and process for producing glassy layers
    10.
    发明授权
    Coating solution and process for producing glassy layers 失效
    涂层溶液和生产玻璃层的方法

    公开(公告)号：US4842901A

    公开(公告)日：1989-06-27

    申请号：US151547

    申请日：1988-02-02

    申请人： Hans-Joachim Merrem ,  Werner Graf

    发明人： Hans-Joachim Merrem ,  Werner Graf

    IPC分类号： H01L21/316 ,  C03B8/02 ,  C03B19/12 ,  C09D183/02 ,  C23C18/12 ,  G03F1/00 ,  G03F1/14 ,  G03F7/09 ,  H01L21/312

    CPC分类号： H01L21/3121 ,  C09D183/02 ,  G03F7/094

    摘要： A coating solution for producing glassy layers on a substrate comprises a silicic acid ester, an aliphatic alcohol as a solvent, an acid in a catalytically active quantity, and water. The alcohol contains at least 4 carbon atoms and the acid has a pK.sub.a of less than +3. The viscosity of the coating solution is table even at elevated temperatures and the amount of water added is increased. The glassy layers produced from the coating solution exhibit no striations.

    摘要翻译： 用于在基材上生产玻璃层的涂布溶液包括硅酸酯，作为溶剂的脂族醇，催化活性量的酸和水。 醇含有至少4个碳原子，酸的pKa小于+3。 即使在升高的温度下，涂布溶液的粘度是表，并且添加的水的量增加。 由涂层溶液生产的玻璃层不产生条纹。