公开(公告)号：US20110109897A1

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：US13002017

申请日：2009-07-01

申请人： Benoit Bataillou ,  Pascal Bancken ,  David van Steenwinckel ,  Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu

发明人： Benoit Bataillou ,  Pascal Bancken ,  David van Steenwinckel ,  Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu

IPC分类号： G01N33/48 ,  G01B9/02 ,  G01N21/45

CPC分类号： C09K11/06 ,  G01N15/1459 ,  G01N21/45 ,  G01N2021/458

摘要： An apparatus comprising at least one measuring cell (10) is disclosed. The measuring cell comprises a first cavity (16 and a second cavity (18) perpendicular to the first cavity, the first cavity and the second cavity comprising an overlap at first respective ends and a reflective surface (20) at the opposite respective ends. A beam splitter (15) is located in the overlap and an electromagnetic radiation source (12) is arranged to project a beam of electromagnetic radiation onto the beam splitter (15) such that the beam is projected into each of the cavities. A phase detector (22) for detecting a phase difference between the respective electromagnetic radiation reflected by the first and second cavity (16; 18) is also provided. In addition, the apparatus has a fluid channel (26), at least a part of which runs parallel to the first cavity (16) such that the electromagnetic radiation projected into the first cavity extends into said part of the fluid channel. This allows for the interferometric detection of particles in the fluid channel.

摘要翻译： 公开了一种包括至少一个测量单元（10）的装置。 所述测量单元包括第一空腔（16和垂直于所述第一空腔的第二空腔），所述第一空腔和所述第二空腔包括在第一相应端部处的重叠部分和在相对的相应端部处的反射表面（20） 分束器（15）位于重叠中，并且电磁辐射源（12）被布置成将电磁辐射束投射到分束器（15）上，使得射束投射到每个空腔中。相位检测器 还提供了用于检测由第一和第二空腔（16; 18）反射的各个电磁辐射之间的相位差的装置（22），另外，该装置具有流体通道（26），其流体通道的至少一部分平行于 所述第一空腔（16）使得投射到所述第一空腔中的电磁辐射延伸到所述流体通道的所述部分中，这允许对所述流体通道中的颗粒进行干涉检测。

公开(公告)号：US20110031903A1

公开(公告)日：2011-02-10

申请号：US12863744

申请日：2009-01-27

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Pascal Bracken ,  Benoit Bataillou ,  David Van Steenwinckel

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Pascal Bracken ,  Benoit Bataillou ,  David Van Steenwinckel

IPC分类号： H05B37/02 ,  G01K7/01 ,  G06F15/00

CPC分类号： H05B33/0818 ,  G01K7/01 ,  H05B33/0866 ,  H05B33/089

摘要： A method of estimating the junction temperature of a light emitting diode comprises driving a forward bias current through the diode, the current comprising a square wave which toggles between high and low current values (Ihigh, llow), the high current value (lhigh) comprising an LED operation current, and the low current value (IIOW) comprising a non-zero measurement current. The forward bias voltage drop (Vf) is sampled and the forward bias voltage drop (Vflow) is determined at the measurement current (IIOW)—The temperature is derived from the determined forward bias voltage drop.

摘要翻译： 估计发光二极管的结温的方法包括驱动通过二极管的正向偏置电流，该电流包括在高电流值和低电流值（Ihigh，llow）之间切换的方波，高电流值（lhigh）包括 LED操作电流和包括非零测量电流的低电流值（IIOW）。 正向偏置电压降（Vf）被采样，并且在测量电流（IIOW）下确定正向偏置电压降（Vflow） - 温度来自所确定的正向偏压电压降。

公开(公告)号：US08723443B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13257266

申请日：2010-02-25

申请人： Peter Hubertus Franciscus Deurenberg ,  Gert-Jan Koolen ,  Gian Hoogzaad ,  Radu Surdeanu ,  Pascal Bancken ,  Benoit Bataillou ,  Viet Nguyen Hoang

发明人： Peter Hubertus Franciscus Deurenberg ,  Gert-Jan Koolen ,  Gian Hoogzaad ,  Radu Surdeanu ,  Pascal Bancken ,  Benoit Bataillou ,  Viet Nguyen Hoang

IPC分类号： H05B33/00

CPC分类号： H05B33/086 ,  H05B33/0815 ,  H05B33/0848

摘要： A method is disclosed of controlling a LED, comprising driving the LED with a DC current for a first time, interrupting the DC current for a second time such that the first time and the second time sum to a period, determining at least one characteristic of the LED while the DC current is interrupted, and controlling the DC current during a subsequent period in dependence on the at least one characteristic. The invention thus benefits from the simplicity of DC operation. By operating at the LED in a DC mode, rather than say in a PWM mode, the requirement to be able to adjust the duty cycle is avoided. By including interruptions to the DC current, it is possible to utilize the LED itself to act as a sensor in order to determine a characteristic of the LED. The need for additional sensors is thereby avoided.

摘要翻译： 公开了一种控制LED的方法，包括第一次用DC电流驱动LED，第二次中断DC电流，使得第一时间和第二时间总和到一个周期，确定至少一个特性 所述LED在DC电流中断期间，并且根据所述至少一个特性在随后的时段期间控制所述DC电流。 因此，本发明由于DC操作的简单性而受益。 通过在DC模式下操作LED，而不是在PWM模式下说明，可以避免能够调整占空比的要求。 通过包含直流电流的中断，可以利用LED本身作为传感器，以便确定LED的特性。 从而避免了对附加传感器的需要。

公开(公告)号：US20120001570A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13257266

申请日：2010-02-25

申请人： Peter Hubertus Franciscus Deurenberg ,  Gert-Jan Koolen ,  Gian Hoogzaad ,  Radu Surdeanu ,  Pascal Bancken ,  Benoit Bataillou ,  Viet Nguyen Hoang

发明人： Peter Hubertus Franciscus Deurenberg ,  Gert-Jan Koolen ,  Gian Hoogzaad ,  Radu Surdeanu ,  Pascal Bancken ,  Benoit Bataillou ,  Viet Nguyen Hoang

IPC分类号： H05B37/02

CPC分类号： H05B33/086 ,  H05B33/0815 ,  H05B33/0848

摘要： A method is disclosed of controlling a LED, comprising driving the LED with a DC current for a first time, interrupting the DC current for a second time such that the first time and the second time sum to a period, determining at least one characteristic of the LED whilst the DC current is interrupted, and controlling the DC current during a subsequent period in dependence on the at least one characteristic. The invention thus benefits from the simplicity of DC operation. By operating at the LED in a DC mode, rather than say in a PWM mode, the requirement to be able to adjust the duty cycle is avoided. By including interruptions to the DC current, it is possible to utilise the LED itself to act as a sensor in order to determine a characteristic of the LED. The need for additional sensors is thereby avoided.

摘要翻译： 公开了一种控制LED的方法，包括第一次用DC电流驱动LED，第二次中断DC电流，使得第一时间和第二时间总和到一个周期，确定至少一个特性 所述LED在DC电流中断期间，并且根据所述至少一个特性在随后的时段期间控制所述DC电流。 因此，本发明由于DC操作的简单性而受益。 通过在DC模式下操作LED，而不是在PWM模式下说明，可以避免能够调整占空比的要求。 通过包含直流电流的中断，可以利用LED本身作为传感器，以便确定LED的特性。 从而避免了对附加传感器的需要。

公开(公告)号：US08772073B2

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：US12988110

申请日：2009-04-14

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L27/146 ,  H01L21/3105

CPC分类号： H01L27/14685 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/31111 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14629

摘要： A method of providing a dielectric material (18) having regions (18′, 18″) with a varying thickness in an IC manufacturing process is disclosed. The method comprises forming a plurality of patterns in respective regions (20′, 20″) of the dielectric material (18), each pattern increasing the susceptibility of the dielectric material (18) to a dielectric material removal step by a predefined amount and exposing the dielectric material (18) to the dielectric material removal step. In an embodiment, the IC comprises a plurality of pixilated elements (12) and a plurality of light interference elements (24), each comprising a first mirror element (16) and a second mirror element (22), a region of the dielectric material (18) separating the first mirror element (16) and the second element (22), and each being arranged over one of said pixilated elements (12), the method further comprising forming the respective first mirror elements (16) in a dielectric layer (14) over a substrate (10) comprising the plurality of pixilated elements; depositing the dielectric material over the dielectric layer; and forming the respective second mirror elements such that each second mirror element is separated from a respective first mirror element by a region of the exposed dielectric material. Hence, an IC having a layer of a dielectric material (18) comprising regions of different thicknesses can be obtained requiring only a few process steps.

摘要翻译： 公开了一种在IC制造过程中提供具有变化厚度的区域（18'，18“）的介电材料（18）的方法。 该方法包括在介电材料（18）的相应区域（20'，20“）中形成多个图案，每个图案将电介质材料（18）的敏感性增加到电介质材料去除步骤预定量并暴露 介电材料（18）到介电材料去除步骤。 在一个实施例中，IC包括多个像素化元件（12）和多个光干涉元件（24），每个元件包括第一镜元件（16）和第二镜元件（22），介电材料的区域 （18）分离第一镜元件（16）和第二元件（22），并且每个被布置在一个所述像素化元件（12）上，所述方法还包括在电介质层中形成相应的第一镜元件（16） （14）包括多个像素化元件的衬底（10）上; 在电介质层上沉积电介质材料; 以及形成各个第二反射镜元件，使得每个第二反射镜元件通过暴露的电介质材料的区域与相应的第一反射镜元件分离。 因此，可以获得具有包括不同厚度的区域的电介质材料层（18）的IC，只需要几个工艺步骤。

公开(公告)号：US08471565B2

公开(公告)日：2013-06-25

申请号：US12876063

申请日：2010-09-03

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Pascal Bancken ,  Radu Surdeanu

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Pascal Bancken ,  Radu Surdeanu

IPC分类号： G01R31/00

CPC分类号： H05B33/0818 ,  G01R31/2635 ,  G01R31/2642 ,  H05B33/0851

摘要： A method of estimating the output light flux of a light emitting diode, comprises applying a drive current waveform to the LED over a period of time comprising a testing period. The forward voltage across the LED is monitored during the testing period, and the output light flux is estimated as a function of changes in the forward voltage.

摘要翻译： 一种估计发光二极管的输出光通量的方法包括在包括测试周期的时间段内向LED施加驱动电流波形。 在测试期间监控LED两端的正向电压，并将输出光通量估计为正向电压变化的函数。

公开(公告)号：US08368105B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12922072

申请日：2009-03-09

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

IPC分类号： H01L33/00

CPC分类号： H01L27/14625 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14636 ,  H01L27/14685

摘要： The present invention relates to a manufacturing method of an integrated circuit (IC) comprising a substrate (10) comprising a pixelated element (12) and a light path (38) to the pixelated element (12). The IC comprises a first dielectric layer (14) covering the substrate (10) but not the pixilated element (12), a first metal layer (16) covering a part of the first dielectric layer (14), a second dielectric layer (18) covering a further part of first dielectric layer (14), a second metal layer (20) covering a part of the second dielectric layer (18) and extending over the pixelated element (12) and a part of the first metal layer (16), the first metal layer (16) and the second metal layer (20) forming an air-filled light path (38) to the pixelated element (12). The air-filled light path (38) is formed by creation of holes in the first dielectric layer (14) and the second dielectric layer (18), filling the holes with sacrificial materials, and removal of the sacrificial materials after deposition and patterning of the second metal layer (20). This yields an IC having a low-loss light path to the pixelated element (12). The light path may act as a color filter, e.g. a Fabry-Perot color filter.

摘要翻译： 本发明涉及一种集成电路（IC）的制造方法，该集成电路（IC）包括基板（10），该基板（10）包括像素化元件（12）和到像素化元件（12）的光路（38）。 所述IC包括覆盖所述衬底（10）而不是所述像素化元件（12）的第一介电层（14），覆盖所述第一介电层（14）的一部分的第一金属层（16），第二介电层（18） ）覆盖第一介电层（14）的另一部分，覆盖第二介电层（18）的一部分并在像素化元件（12）上延伸的第二金属层（20）和第一金属层（16）的一部分 ），第一金属层（16）和第二金属层（20）形成到像素化元件（12）的充气光路（38）。 充气光路（38）通过在第一电介质层（14）和第二电介质层（18）中产生孔而形成，用牺牲材料填充孔，并且在沉积和图案化之后去除牺牲材料 第二金属层（20）。 这产生具有到像素化元件（12）的低损耗光路的IC。 光路可以用作滤色器，例如， 法布里 - 珀罗滤镜。

公开(公告)号：US20110037135A1

公开(公告)日：2011-02-17

申请号：US12988110

申请日：2009-04-14

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

IPC分类号： H01L31/0232 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L27/14685 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/31111 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14629

摘要： A method of providing a dielectric material (18) having regions (18′, 18″) with a varying thickness in an IC manufacturing process is disclosed. The method comprises forming a plurality of patterns in respective regions (20′, 20″) of the dielectric material (18), each pattern increasing the susceptibility of the dielectric material (18) to a dielectric material removal step by a predefined amount and exposing the dielectric material (18) to the dielectric material removal step. In an embodiment, the IC comprises a plurality of pixilated elements (12) and a plurality of light interference elements (24), each comprising a first mirror element (16) and a second mirror element (22), a region of the dielectric material (18) separating the first mirror element (16) and the second element (22), and each being arranged over one of said pixilated elements (12), the method further comprising forming the respective first mirror elements (16) in a dielectric layer (14) over a substrate (10) comprising the plurality of pixilated elements; depositing the dielectric material over the dielectric layer; and forming the respective second mirror elements such that each second mirror element is separated from a respective first mirror element by a region of the exposed dielectric material. Hence, an IC having a layer of a dielectric material (18) comprising regions of different thicknesses can be obtained requiring only a few process steps.

摘要翻译： 公开了一种在IC制造过程中提供具有变化厚度的区域（18'，18“）的介电材料（18）的方法。 该方法包括在介电材料（18）的相应区域（20'，20“）中形成多个图案，每个图案将电介质材料（18）的敏感性增加到电介质材料去除步骤预定量并暴露 电介质材料（18）到介电材料去除步骤。 在一个实施例中，IC包括多个像素化元件（12）和多个光干涉元件（24），每个元件包括第一镜元件（16）和第二镜元件（22），介电材料的区域 （18）分离第一镜元件（16）和第二元件（22），并且每个被布置在一个所述像素化元件（12）上，所述方法还包括在电介质层中形成相应的第一镜元件（16） （14）包括多个像素化元件的衬底（10）上; 在电介质层上沉积电介质材料; 以及形成各个第二反射镜元件，使得每个第二反射镜元件通过暴露的电介质材料的区域与相应的第一反射镜元件分离。 因此，可以获得具有包括不同厚度的区域的电介质材料层（18）的IC，只需要几个工艺步骤。

公开(公告)号：US08376801B2

公开(公告)日：2013-02-19

申请号：US12922127

申请日：2009-03-09

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

IPC分类号： H01J9/24

CPC分类号： H05B33/10 ,  Y10T428/24298 ,  Y10T428/24331

摘要： The present invention relates to a luminescent component (30) and a manufacturing method thereof. The luminescent component (30) comprises a first transparent carrier (18), a second transparent carrier (24), a substrate (10) sandwiched between said transparent carriers (18; 24), the substrate (10) comprising a conduit from the first transparent layer (18) to the second transparent carrier (24), the conduit being filled with a luminescent solution (20). This facilitates the use of colloidal solutions of quantum dots in such a luminescent component (30). Preferably, the substrate (10) is direct bonded to the transparent carriers (18, 24) using direct wafer bonding techniques.

摘要翻译： 本发明涉及发光成分（30）及其制造方法。 发光组件（30）包括第一透明载体（18），第二透明载体（24），夹在所述透明载体（18; 24）之间的基底（10），所述基底（10） 透明层（18）连接到第二透明载体（24），导管填充有发光溶液（20）。 这有助于在这种发光组分（30）中使用量子点的胶体溶液。 优选地，使用直接晶片接合技术将衬底（10）直接接合到透明载体（18,24）。

公开(公告)号：US20110012158A1

公开(公告)日：2011-01-20

申请号：US12922072

申请日：2009-03-09

申请人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

发明人： Viet Nguyen Hoang ,  Radu Surdeanu ,  Benoit Bataillou

IPC分类号： H01L33/58 ,  H01L31/18 ,  H01L31/0232 ,  H01L33/00

CPC分类号： H01L27/14625 ,  H01L27/14621 ,  H01L27/14636 ,  H01L27/14685

摘要： The present invention relates to a manufacturing method of an integrated circuit (IC) comprising a substrate (10) comprising a pixelated element (12) and a light path (38) to the pixelated element (12). The IC comprises a first dielectric layer (14) covering the substrate (10) but not the pixilated element (12), a first metal layer (16) covering a part of the first dielectric layer (14), a second dielectric layer (18) covering a further part of first dielectric layer (14), a second metal layer (20) covering a part of the second dielectric layer (18) and extending over the pixelated element (12) and a part of the first metal layer (16), the first metal layer (16) and the second metal layer (20) forming an air-filled light path (38) to the pixelated element (12). The air-filled light path (38) is formed by creation of holes in the first dielectric layer (14) and the second dielectric layer (18), filling the holes with sacrificial materials, and removal of the sacrificial materials after deposition and patterning of the second metal layer (20). This yields an IC having a low-loss light path to the pixelated element (12). The light path may act as a color filter, e.g. a Fabry-Perot color filter.

摘要翻译： 本发明涉及一种集成电路（IC）的制造方法，该集成电路（IC）包括基板（10），该基板（10）包括像素化元件（12）和到像素化元件（12）的光路（38）。 所述IC包括覆盖所述衬底（10）而不是所述像素化元件（12）的第一介电层（14），覆盖所述第一介电层（14）的一部分的第一金属层（16），第二介电层（18） ）覆盖第一介电层（14）的另一部分，覆盖第二介电层（18）的一部分并在像素化元件（12）上延伸的第二金属层（20）和第一金属层（16）的一部分 ），第一金属层（16）和第二金属层（20）形成到像素化元件（12）的充气光路（38）。 充气光路（38）通过在第一电介质层（14）和第二电介质层（18）中产生孔而形成，用牺牲材料填充孔，并且在沉积和图案化之后去除牺牲材料 第二金属层（20）。 这产生具有到像素化元件（12）的低损耗光路的IC。 光路可以用作滤色器，例如， 法布里 - 珀罗滤镜。