公开(公告)号：USD817871S1

公开(公告)日：2018-05-15

申请号：US29561080

申请日：2016-04-13

申请人： Wenjie Li

设计人： Wenjie Li

公开(公告)号：US09187520B2

公开(公告)日：2015-11-17

申请号：US14116556

申请日：2012-04-19

申请人： Damei Wang ,  Wenjie Li ,  Jinlei Zhang

发明人： Damei Wang ,  Wenjie Li ,  Jinlei Zhang

IPC分类号： C07K14/62 ,  C07K1/30 ,  C30B7/14 ,  C30B29/58

CPC分类号： C07K1/306 ,  C07K14/62 ,  C30B7/14 ,  C30B29/58

摘要： Disclosed is a method for preparing an insulin glargine (GlyA21-ArgB31-AryB32-human insulin) crystal, comprising crystallizing the insulin glargine at pH 7.0-9.0 and in a crystallization solution containing a recombinant insulin glargine, an organic solvent of a 10-30% concentration by volume, a zinc compound, a phenol derivative, a salt and an organic acid.

摘要翻译： 公开了一种制备甘精胰岛素（GlyA21-ArgB31-AryB32-人胰岛素）晶体的方法，其包括使pH 7.0-9.0的甘精胰岛素结晶和含有重组甘精胰岛素的结晶溶液，10-30的有机溶剂 体积％，锌化合物，酚衍生物，盐和有机酸。

公开(公告)号：US08975447B2

公开(公告)日：2015-03-10

申请号：US14003248

申请日：2012-03-06

申请人： Wenjie Li ,  Zhi-Hui Lu ,  Chris Hugh Senanayake ,  Yongda Zhang

发明人： Wenjie Li ,  Zhi-Hui Lu ,  Chris Hugh Senanayake ,  Yongda Zhang

IPC分类号： C07C33/48 ,  C07C39/38 ,  C07C29/38 ,  C07C29/40 ,  C07C39/14 ,  C07C37/055 ,  C07C41/48 ,  C07C29/143 ,  C07C37/62

CPC分类号： C07C39/14 ,  C07B2200/07 ,  C07C29/143 ,  C07C29/38 ,  C07C37/055 ,  C07C37/62 ,  C07C39/38 ,  C07C41/48 ,  C07C43/313 ,  C07C33/483

摘要： Disclosed are a process and catalysts useful for carrying out asymmetric methlyallylations. The catalysts used in the invention have the formula (IV): wherein X1, X2, R3 and R4 are as defined herein. Compounds made by the process of the invention can be used to prepare pharmaceutically active compounds such as 11-β-hydroxysteroid hydrogenase type 1 (11-β-HSD1) inhibitors including 1,3-disubstituted oxazinan-2-ones.

摘要翻译： 公开了用于进行不对称甲基化反应的方法和催化剂。 用于本发明的催化剂具有式（Ⅳ）：其中X 1，X 2，R 3和R 4如本文所定义。 通过本发明的方法制备的化合物可用于制备药物活性化合物，例如11-＆bgr-羟基类固醇氢化酶1型（11-＆amp; bgr-HSD1）抑制剂，包括1,3-二取代的恶嗪烷-2-酮。

公开(公告)号：US20140155574A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：US14116556

申请日：2012-04-19

申请人： Damei Wang ,  Wenjie Li ,  Jinlei Zhang

发明人： Damei Wang ,  Wenjie Li ,  Jinlei Zhang

IPC分类号： C07K1/30

CPC分类号： C07K1/306 ,  C07K14/62 ,  C30B7/14 ,  C30B29/58

摘要： Disclosed is a method for preparing an insulin glargine (GlyA21-ArgB31-AryB32-human insulin) crystal, comprising crystallizing the insulin glargine at pH 7.0-9.0 and in a crystallization solution containing a recombinant insulin glargine, an organic solvent of a 10-30% concentration by volume, a zinc compound, a phenol derivative, a salt and an organic acid.

摘要翻译： 公开了一种制备甘精胰岛素（GlyA21-ArgB31-AryB32-人胰岛素）晶体的方法，其包括使pH 7.0-9.0的甘精胰岛素结晶和含有重组甘精胰岛素的结晶溶液，10-30的有机溶剂 体积％，锌化合物，酚衍生物，盐和有机酸。

公开(公告)号：US20100297557A1

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：US12658615

申请日：2010-02-08

申请人： James F. Cameron ,  Jin Wuk Sung ,  John P. Amara ,  Greogory P. Prokopowicz ,  David A. Valeri ,  Libor Vyklicky ,  Wu-Song S. Huang ,  Wenjie Li ,  Pushkara R. Varanasi ,  Irene Y. Popova

发明人： James F. Cameron ,  Jin Wuk Sung ,  John P. Amara ,  Greogory P. Prokopowicz ,  David A. Valeri ,  Libor Vyklicky ,  Wu-Song S. Huang ,  Wenjie Li ,  Pushkara R. Varanasi ,  Irene Y. Popova

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08G73/10

CPC分类号： G03F7/2008 ,  C08L25/18 ,  C08L29/02 ,  C08L33/06 ,  C08L33/24 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： Organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that can be developed with an aqueous alkaline developer, including in a single step during development of an overcoated photoresist layer. Preferred coating compositions comprise a tetrapolymer that comprises at least four distinct functional groups.

摘要翻译： 提供了可以用含水碱性显影剂显影的有机涂料组合物，特别是抗反射涂料组合物，包括在外涂光致抗蚀剂层的显影过程中的一个步骤。 优选的涂料组合物包含包含至少四个不同官能团的四元共聚物。

公开(公告)号：US07639170B2

公开(公告)日：2009-12-29

申请号：US11510112

申请日：2006-08-25

申请人： Xiangdong Chen ,  Wenjie Li ,  Bin Zhang

发明人： Xiangdong Chen ,  Wenjie Li ,  Bin Zhang

IPC分类号： G08C19/12

CPC分类号： H04L12/2803 ,  H04L12/281 ,  H04L12/2814 ,  H04L12/282

摘要： A system and method for the network operation of a universal remote controller (URC) and the URC for realizing said system have been disclosed in the invention, said system comprises: a user service subsystem, a data storing and exchanging device and a user operation subsystem. The network operation method for said URC comprises: collecting the parameters of an existing user's remote controller (RC) via a RC sampling device, analyzing and processing the parameter data as a code program, and transferring to the server device via the Internet in order to store and exchange the data; reading the required program from the server device by the URC via the user terminal device and the Internet to realize the function of the URC. In said URC, the URC is provided with a USB interface circuit for downloading the data on the network into the URC. The invention solves the problem of a number of confused RCs in modern families The network services of the URC can be provided so that a uniform way can be found for the after-service of a plurality of types of RCs.

摘要翻译： 本发明公开了一种用于通用遥控器（URC）和用于实现所述系统的URC的网络操作的系统和方法，所述系统包括：用户服务子系统，数据存储交换设备和用户操作子系统 。 用于所述URC的网络操作方法包括：经由RC采样装置收集现有用户遥控器（RC）的参数，分析和处理参数数据作为代码程序，并通过因特网传送到服务器设备，以便 存储和交换数据; 通过URC通过用户终端设备和Internet从服务器设备读取所需的程序，实现URC的功能。 在所述URC中，URC设置有用于将网络上的数据下载到URC中的USB接口电路。 本发明解决了现代家庭中一些混乱的问题，可以提供URC的网络服务，以便为多种类型的RC的后台服务找到统一的方式。

公开(公告)号：US07638266B2

公开(公告)日：2009-12-29

申请号：US10916755

申请日：2004-08-12

申请人： Marie Angelopoulos ,  Gregory Breyta ,  Wu-Song Huang ,  Robert Neal Lang ,  Wenjie Li ,  David R. Medeiros ,  Wayne Martin Moreau ,  Karen Elizabeth Petrillo

发明人： Marie Angelopoulos ,  Gregory Breyta ,  Wu-Song Huang ,  Robert Neal Lang ,  Wenjie Li ,  David R. Medeiros ,  Wayne Martin Moreau ,  Karen Elizabeth Petrillo

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： C08F220/14 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/095

摘要： A barrier layer for fabricating at least one of a device and a mask includes a polymeric photoacid generator formed between a substrate and a resist layer. The barrier layer may be used, for example, in forming a resist image, and forming a patterned material feature on a substrate.

摘要翻译： 用于制造器件和掩模中的至少一个的阻挡层包括形成在衬底和抗蚀剂层之间的聚合物光酸发生器。 阻挡层可以用于例如形成抗蚀剂图像，并且在衬底上形成图案化材料特征。

公开(公告)号：US07335456B2

公开(公告)日：2008-02-26

申请号：US10855045

申请日：2004-05-27

申请人： Wenjie Li ,  Margaret C. Lawson ,  Pushkara Rao Varanasi

发明人： Wenjie Li ,  Margaret C. Lawson ,  Pushkara Rao Varanasi

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/3154

摘要： A top coat material for applying on top of a photoresist material is disclosed. The top coat material includes a polymer, which includes at least one fluorosulfonamide monomer unit having one of the following two structures: wherein: M is a polymerizable backbone moiety; Z is a linking moiety selected from the group consisting of —C(O)O—, —C(O)—, —OC(O)—, and —O—C(O)—C(O)—O—; R1 is selected from the group consisting of an alkylene, an arylene, a semi- or perfluorinated alkylene, and a semi- or perfluorinated arylene; p and q are 0 or 1; R2 is selected from the group consisting of hydrogen, fluorine, an alkyl group of 1 to 6 carbons, and a semi- or perfluorinated alkyl group of 1 to 6 carbons; n is an integer from 1 to 6; and R3 is selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl, an aryl, a semi- or perfluorinated alkyl, and a semi- or perfluorinated aryl. The top coat material may be used in lithography processes, wherein the top coat material is applied on a photoresist layer. The top coat material is preferably soluble in aqueous alkaline developer. The top coat material is also preferably insoluble in water, and is therefore particularly useful in immersion lithography techniques using water as the imaging medium.

摘要翻译： 公开了一种用于涂覆在光致抗蚀剂材料上的顶涂层材料。 面漆材料包括聚合物，其包括至少一种具有以下两种结构之一的氟磺酰胺单体单元：其中：M是可聚合主链部分; Z是选自-C（O）O-，-C（O） - ， - OC（O） - 和-O-C（O）-C（O）-O-的连接部分; R 1选自亚烷基，亚芳基，半或全氟亚烷基，以及半或全氟化亚芳基; p和q为0或1; R 2选自氢，氟，1至6个碳的烷基和1至6个碳的半或全氟化烷基; n是1至6的整数; 和R 3 3选自氢，烷基，芳基，半或全氟烷基和半或全氟芳基。 面漆材料可以用在光刻工艺中，其中将顶涂层材料施加在光致抗蚀剂层上。 顶涂层材料优选可溶于含水碱性显影剂。 面漆材料也优选不溶于水，因此特别适用于使用水作为成像介质的浸渍光刻技术。

公开(公告)号：US20080038676A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11875223

申请日：2007-10-19

申请人： Wenjie Li ,  Margaret Lawson ,  Pushkara Varanasi

发明人： Wenjie Li ,  Margaret Lawson ,  Pushkara Varanasi

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/3154

摘要： A top coat material for applying on top of a photoresist material is disclosed. The top coat material includes a polymer, which includes at least one fluorosulfonamide monomer unit having one of the following two structures: wherein: M is a polymerizable backbone moiety; Z is a linking moiety selected from the group consisting of —C(O)O—, —C(O)—, —OC(O)—, and —O—C(O)—C(O)—O—; R1 is selected from the group consisting of an alkylene, an arylene, a semi- or perfluorinated alkylene, and a semi- or perfluorinated arylene; p and q are 0 or 1; R2 is selected from the group consisting of hydrogen, fluorine, an alkyl group of 1 to 6 carbons, and a semi- or perfluorinated alkyl group of 1 to 6 carbons; n is an integer from 1 to 6; and R3 is selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl, an aryl, a semi- or perfluorinated alkyl, and a semi- or perfluorinated aryl. The top coat material may be used in lithography processes, wherein the top coat material is applied on a photoresist layer. The top coat material is preferably soluble in aqueous alkaline developer. The top coat material is also preferably insoluble in water, and is therefore particularly useful in immersion lithography techniques using water as the imaging medium.

摘要翻译： 公开了一种用于涂覆在光致抗蚀剂材料上的顶涂层材料。 面漆材料包括聚合物，其包括至少一种具有以下两种结构之一的氟磺酰胺单体单元：其中：M是可聚合主链部分; Z是选自-C（O）O-，-C（O） - ， - OC（O） - 和-O-C（O）-C（O）-O-的连接部分; R 1选自亚烷基，亚芳基，半或全氟亚烷基，以及半或全氟化亚芳基; p和q为0或1; R 2选自氢，氟，1至6个碳的烷基和1至6个碳的半或全氟化烷基; n是1至6的整数; 和R 3 3选自氢，烷基，芳基，半或全氟烷基和半或全氟芳基。 面漆材料可以用在光刻工艺中，其中将顶涂层材料施加在光致抗蚀剂层上。 顶涂层材料优选可溶于含水碱性显影剂。 面漆材料也优选不溶于水，因此特别适用于使用水作为成像介质的浸渍光刻技术。

公开(公告)号：US20050175928A1

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：US10773930

申请日：2004-02-06

申请人： Wenjie Li ,  Pushkara Varanasi ,  Alyssandrea Hamad

发明人： Wenjie Li ,  Pushkara Varanasi ,  Alyssandrea Hamad

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03C1/76 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0382 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A negative photoresist composition and a method of patterning a substrate through use of the negative photoresist composition. The composition includes: a radiation sensitive acid generator; an additive; and a resist polymer derived from at least one first monomer including a hydroxy group. The first monomer may be acidic or approximately pH neutral. The resist polymer may be further derived from a second monomer having an aqueous base soluble moiety. The additive may include one or more alicyclic structures. The acid generator is adapted to generate an acid upon exposure to radiation. The resist polymer is adapted to chemically react with the additive in the presence of the acid to generate a non-crosslinking reaction product that is insoluble in an aqueous alkaline developer solution.

摘要翻译： 负性光致抗蚀剂组合物和通过使用负性光致抗蚀剂组合物构图基板的方法。 组合物包括：辐射敏感酸发生剂; 添加剂 和衍生自至少一种包含羟基的第一单体的抗蚀剂聚合物。 第一单体可以是酸性的或大致pH中性的。 抗蚀剂聚合物可以进一步衍生自具有碱性水溶性部分的第二单体。 添加剂可以包括一种或多种脂环族结构。 酸产生器适于在暴露于辐射时产生酸。 抗蚀剂聚合物适于在酸存在下与添加剂发生化学反应以产生不溶于碱性显影剂水溶液的非交联反应产物。