公开(公告)号：US20090115986A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：US11916162

申请日：2006-05-23

申请人： Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Jean-Claude Perrin ,  Julian Kaller ,  Aurelian Dodoc ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Conradi ,  Toralf Gruner ,  Thomas Okon ,  Alexander Epple

发明人： Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Jean-Claude Perrin ,  Julian Kaller ,  Aurelian Dodoc ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Conradi ,  Toralf Gruner ,  Thomas Okon ,  Alexander Epple

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B17/08

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/08 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70941

摘要： Microlithography projection objectives for imaging into an image plane a pattern arranged in an object plane are described with respect to suppressing false light in such projection objectives.

摘要翻译： 关于在这样的投影物镜中抑制假光，描述用于成像到平面中的布置在物体平面中的图案的微光刻投影物镜。

公开(公告)号：USRE44216E1

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：US12604821

申请日：2009-10-23

申请人： Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joern Greif-Wuestenbecker ,  Thomas Scheruebl ,  Wolfgang Harnisch ,  Norbert Rosenkranz ,  Ulrich Matejka

发明人： Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joern Greif-Wuestenbecker ,  Thomas Scheruebl ,  Wolfgang Harnisch ,  Norbert Rosenkranz ,  Ulrich Matejka

IPC分类号： G02B23/00

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G02B5/3025 ,  G02B21/0016 ,  G03F7/70666 ,  Y10S359/90

摘要： An optical imaging system for inspection microscopes with which lithography masks can be checked for defects particularly through emulation of high-aperture scanner systems. The microscope imaging system for emulating high-aperture imaging systems comprises imaging optics, a detector and an evaluating unit, wherein polarizing optical elements are selectively arranged in the illumination beam path for generating different polarization states of the illumination beam and/or in the imaging beam path for selecting different polarization components of the imaging beam, an optical element with a polarization-dependent intensity attenuation function can be introduced into the imaging beam path, images of the mask and/or sample are received by the detector for differently polarized beam components and are conveyed to the evaluating unit for further processing.

摘要翻译： 用于检查显微镜的光学成像系统，通过该光学成像系统可以通过光学掩模来检查缺陷，特别是通过高光阑扫描器系统的仿真。 用于模拟高光圈成像系统的显微镜成像系统包括成像光学器件，检测器和评估单元，其中偏振光学元件选择性地布置在照明光束路径中，用于产生照明光束和/或成像光束的不同偏振状态 用于选择成像光束的不同偏振分量的路径，具有偏振相关强度衰减功能的光学元件可以被引入到成像光束路径中，掩模和/或采样的图像被检测器接收用于不同偏振光束分量， 被传送到评估单元进行进一步处理。

公开(公告)号：US08294991B2

公开(公告)日：2012-10-23

申请号：US12687299

申请日：2010-01-14

申请人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner ,  Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Jochen Paul

发明人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner ,  Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Jochen Paul

IPC分类号： G02B27/00

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G02B5/205 ,  G02B5/283 ,  G02B26/001 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70566

摘要： An optical system of a microlithographic projection exposure apparatus permits comparatively flexible and fast influencing of the intensity distribution and/or the polarization state. The optical system includes at least one layer system that is at least one-side bounded by a lens or a mirror. The layer system is an interference layer system of several layers and has at least one liquid or gaseous layer portion with a maximum thickness of one micrometer (μm), and a manipulator for manipulation of the thickness profile of the layer portion.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的光学系统允许强度分布和/或偏振状态的相对灵活和快速的影响。 光学系统包括至少一个由透镜或反射镜限定的一个层系统。 层系统是几层的干涉层系统，并且具有至少一个最大厚度为1微米（μm）的液体或气体层部分，以及用于操纵层部分的厚度分布的操纵器。

公开(公告)号：US20090207487A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12413981

申请日：2009-03-30

申请人： Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Alexander Epple

发明人： Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B17/08 ,  G06F17/00

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70983

摘要： The disclosure relates to a method of manufacturing a projection objective, and a projection objective, such as a projection objective configured to be used in a microlithographic process. The method can include defining an initial design for the projection objective and optimizing the design using a merit function. The method can be used in the manufacturing of projection objectives which may be used in a microlithographic process of manufacturing miniaturized devices.

摘要翻译： 本公开涉及一种制造投影物镜的方法，以及投影物镜，例如被配置为在微光刻工艺中使用的投影物镜。 该方法可以包括定义投影物镜的初始设计，并使用优值函数优化设计。 该方法可用于制造可用于制造小型化装置的微光刻工艺中的投影物镜。

公开(公告)号：US09733395B2

公开(公告)日：2017-08-15

申请号：US13112357

申请日：2011-05-20

申请人： Vladimir Kamenov ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Karl-Stefan Weissenrieder ,  Heiko Feldmann ,  Achim Zirkel ,  Alexandra Pazidis ,  Bruno Thome ,  Stephan Six

发明人： Vladimir Kamenov ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Karl-Stefan Weissenrieder ,  Heiko Feldmann ,  Achim Zirkel ,  Alexandra Pazidis ,  Bruno Thome ,  Stephan Six

IPC分类号： G03B27/68 ,  G02B1/11 ,  G03F7/20

CPC分类号： G02B1/11 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70958

摘要： The disclosure relates to a microlithographic projection exposure apparatus, such as are used for the production of large-scale integrated electrical circuits and other microstructured components. The disclosure relates in particular to coatings of optical elements in order to increase or reduce the reflectivity.

公开(公告)号：US20100290024A1

公开(公告)日：2010-11-18

申请号：US12836176

申请日：2010-07-14

申请人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

发明人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/0081 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70558 ,  Y10S359/90

摘要： The invention relates to a method-for improving the imaging properties of a micro lithography projection objective, wherein the projection objective has a plurality of lenses between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator (ml, Mn) for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜的成像特性的方法，其中所述投影物镜在物平面和像平面之间具有多个透镜，所述多个透镜的第一透镜被分配有第一操纵器 （ml，Mn），用于使透镜主动变形，第一透镜被变形以至少部分地校正像差，多个透镜中的至少一个第二透镜进一步被分配至少一个第二操纵器，并且第二透镜在 除了第一个镜头。 此外，描述了用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。

公开(公告)号：US20080310029A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US11915191

申请日：2006-05-24

申请人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

发明人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G02B17/08 ,  G02B27/18

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/0081 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70558 ,  Y10S359/90

摘要： The invention relates to a method -for improving the imaging properties of a micro lithography projection objective (50), wherein the projection objective has a plurality of lenses (L1, L2, L3, L4, L5, L6, L7, L8) between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator (ml, Mn) for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜（50）的成像特性的方法，其中投影物镜在物体之间具有多个透镜（L1，L2，L3，L4，L5，L6，L7，L8） 平面和图像平面，多个透镜的第一透镜被分配用于主动变形透镜的第一操纵器（ml，Mn），第一透镜被变形以至少部分地校正像差，至少一个第二透镜 多个透镜还被分配至少一个第二操纵器，并且第二透镜除了第一透镜之外也变形。 此外，描述了用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。

公开(公告)号：US09360775B2

公开(公告)日：2016-06-07

申请号：US13364565

申请日：2012-02-02

申请人： Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Alexander Epple

发明人： Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Alexander Epple

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70983

摘要： The disclosure relates to a method of manufacturing a projection objective, and a projection objective, such as a projection objective configured to be used in a microlithographic process. The method can include defining an initial design for the projection objective and optimizing the design using a merit function. The method can be used in the manufacturing of projection objectives which may be used in a microlithographic process of manufacturing miniaturized devices.

摘要翻译： 本公开涉及一种制造投影物镜的方法，以及投影物镜，例如被配置为在微光刻工艺中使用的投影物镜。 该方法可以包括定义投影物镜的初始设计，并使用优值函数优化设计。 该方法可用于制造可用于制造小型化装置的微光刻工艺中的投影物镜。

公开(公告)号：US08310752B2

公开(公告)日：2012-11-13

申请号：US12413981

申请日：2009-03-30

申请人： Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Alexander Epple

发明人： Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B17/00

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70983

摘要： The disclosure relates to a method of manufacturing a projection objective, and a projection objective, such as a projection objective configured to be used in a microlithographic process. The method can include defining an initial design for the projection objective and optimizing the design using a merit function. The method can be used in the manufacturing of projection objectives which may be used in a microlithographic process of manufacturing miniaturized devices.

摘要翻译： 本公开涉及一种制造投影物镜的方法，以及投影物镜，例如被配置为在微光刻工艺中使用的投影物镜。 该方法可以包括定义投影物镜的初始设计，并使用优值函数优化设计。 该方法可用于制造可用于制造小型化装置的微光刻工艺中的投影物镜。

公开(公告)号：US20100134891A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：US12687299

申请日：2010-01-14

申请人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner ,  Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Jochen Paul

发明人： Ralf Mueller ,  Toralf Gruner ,  Michael Totzeck ,  Heiko Feldmann ,  Hans-Jochen Paul

IPC分类号： G02B27/18 ,  G02B5/28

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G02B5/205 ,  G02B5/283 ,  G02B26/001 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70566

摘要： The disclosure concerns an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus. To permit comparatively flexible and fast influencing of intensity distribution and/or the polarization state, an optical system includes at least one layer system that is at least one-side bounded by a lens or a mirror. The layer system is an interference layer system of several layers and has at least one liquid or gaseous layer portion with a maximum thickness of one micrometer (μm), and a manipulator for manipulation of the thickness profile of the layer portion.

摘要翻译： 本公开涉及微光刻投影曝光装置的光学系统。 为了允许强度分布和/或偏振状态的相对灵活和快速的影响，光学系统包括至少一个由透镜或反射镜限定的层系统。 层系统是几层的干涉层系统，并且具有至少一个最大厚度为1微米（μm）的液体或气体层部分，以及用于操纵层部分的厚度分布的操纵器。