公开(公告)号：US20060240365A1

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：US11473068

申请日：2006-06-23

申请人： Matthew Lipson ,  Taras Shvets ,  Richard Bruls

发明人： Matthew Lipson ,  Taras Shvets ,  Richard Bruls

IPC分类号： B05D1/36 ,  B05D3/00 ,  B05D1/18 ,  B05D3/12 ,  G03C5/10 ,  B29C71/04

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B5/003 ,  G02B7/025 ,  Y10T156/10

摘要： A method for protecting a wet lens element from liquid degradation is provided. The method includes applying a thin coating of an organoxy-metallic compound to the side portions of a wet lens element to leave behind an optically inert, light absorbing metal oxide film. A liquid shield coating is applied on top of the metal oxide coating. The two coating layers protect the wet lens element from liquid degradation when the side portion of the wet lens element is submerged into a liquid. In an embodiment, the wet lens element is an immersion lithography wet lens element and the liquid is an immersion lithography liquid.

公开(公告)号：US07081278B2

公开(公告)日：2006-07-25

申请号：US10253655

申请日：2002-09-25

申请人： Matthew Lipson ,  Ronald A Wilklow

发明人： Matthew Lipson ,  Ronald A Wilklow

IPC分类号： B05D3/06 ,  B05D5/06 ,  G02B7/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B5/003 ,  G02B7/025 ,  Y10T156/10

摘要： A method for reducing the scattered light emitted through an optical element is provided that protects adhesive used to hold the optical element in place from light induced deterioration. In one embodiment, the method includes applying a thin coating of an organoxy metallic compound to a region on an optical element where adhesive will be applied and exposing the organoxy metallic compound to ultra-violet light. Exposure to ultra-violet light converts the organoxy metallic compound to its corresponding metal oxide forming an optically inert, light absorbing coating that protects adhesive used to hold the optical element in place from light induced deterioration.

摘要翻译： 提供一种用于减少通过光学元件发射的散射光的方法，其保护用于将光学元件保持在适当位置的粘合剂免受光诱导的劣化。 在一个实施方案中，该方法包括将有机氧化金属化合物的薄涂层施加到将要施加粘合剂的光学元件上的区域，并将有机氧化金属化合物暴露于紫外光。 暴露于紫外光将有机氧化金属化合物转化为相应的金属氧化物，形成光学惰性的光吸收涂层，该涂层保护用于将光学元件保持在适当位置的粘合剂免受光诱导的变质。

公开(公告)号：US20060092396A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US11194576

申请日：2005-08-02

申请人： Matthew Lipson ,  Azat Latypov

发明人： Matthew Lipson ,  Azat Latypov

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70283

摘要： A lithography system comprises an illumination system that supplies radiation and a projection system comprising an optical system and a patterning device located at a pupil plane. The patterning device patterns the radiation and the optical system projects the patterned radiation onto a target portion of a substrate. In one example, an additional patterning device is located at an object plane of the lithography system and patterns the radiation before the patterning device at the pupil plane.

摘要翻译： 光刻系统包括提供辐射的照明系统和包括位于光瞳面的光学系统和图案形成装置的投影系统。 图案形成装置对辐射进行图案化，光学系统将图案化的辐射投影到基板的目标部分上。 在一个示例中，附加图案形成装置位于光刻系统的物平面处，并且在图案形成装置之前在光瞳面上对辐射进行图案化。

公开(公告)号：US20060082745A1

公开(公告)日：2006-04-20

申请号：US10965025

申请日：2004-10-15

申请人： Matthew Lipson ,  Christopher Mason ,  Justin Kreuzer

发明人： Matthew Lipson ,  Christopher Mason ,  Justin Kreuzer

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42

摘要： A system and method comprise a pattern generating portion that is used to pattern an object via a projection system. The pattern generating portion includes active and inactive areas. The pattern generating portion has active and inactive areas. The pattern generating portion includes active and inactive areas. The pattern generating portion patterns light traveling towards the active areas and the projection system projects the patterned light onto the object. The pattern generating portion directs light traveling towards inactive areas away from the object.

摘要翻译： 系统和方法包括用于经由投影系统对对象进行图案化的图案生成部。 图案生成部分包括主动和非活动区域。 图案生成部分具有活动和非活动区域。 图案生成部分包括主动和非活动区域。 图案生成部分图案向着有源区域传播的光线，并且投影系统将图案化的光投射到物体上。 图案生成部分将朝着不活动区域行驶的光引导远离物体。

公开(公告)号：US20060019030A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：US10898160

申请日：2004-07-26

申请人： Matthew Lipson ,  Ronald Wilklow

发明人： Matthew Lipson ,  Ronald Wilklow

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/044 ,  C23C14/24 ,  C23C16/042 ,  C23C16/482 ,  G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

摘要： Systems and methods are used to modify a layer on a substrate that is used to form a pattern generator, so that light reflecting from the modified substrate has a trapezoidal or other custom profile. The layer is modified using various vapor deposition techniques in conjunction with moving or positioning the substrate a desired distance from a blocking device and/or at a desired rate or speed.

摘要翻译： 系统和方法用于修改用于形成图案发生器的衬底上的层，使得从改性衬底反射的光具有梯形或其它定制轮廓。 使用各种气相沉积技术来改变层，结合将基底与阻挡装置和/或以期望的速率或速度移动或定位所需的距离。

公开(公告)号：US20050153064A1

公开(公告)日：2005-07-14

申请号：US10756352

申请日：2004-01-14

申请人： Matthew Lipson

发明人： Matthew Lipson

IPC分类号： H01L21/027 ,  B05D1/32 ,  B05D5/06

CPC分类号： B05D1/322

摘要： A system and method that can be used to cover a portion (e.g., a clear aperture) of an optical element (e.g., a lens) during coating of another portion (e.g., a circumferential portion) of the optical element. This can be done to protect the clear aperture during coating of an adhesive protection layer proximate a circumferential edge of the lens without damaging or altering the clear aperture. The method can include the following steps. An optical element is held so that a first portion of the optical element is covered and a second portion of the optical element is exposed. A first coating is provided on the second portion of the optical element. The optical element is released from being held. A second coating is provided on the optical element. The first and second coatings are removed from the second portion of the optical element.

摘要翻译： 一种可用于在光学元件的另一部分（例如，圆周部分）的涂覆期间覆盖光学元件（例如，透镜）的部分（例如，透明孔径）的系统和方法。 这可以在粘合剂保护层在透镜的周缘边缘附近的涂覆期间保护透明孔径而不损坏或改变透明孔径。 该方法可以包括以下步骤。 保持光学元件使得光学元件的第一部分被覆盖，并且光学元件的第二部分被暴露。 第一涂层设置在光学元件的第二部分上。 光学元件被释放而不被保持。 在光学元件上设置第二涂层。 从光学元件的第二部分去除第一和第二涂层。