公开(公告)号：US06670498B2

公开(公告)日：2003-12-30

申请号：US10288514

申请日：2002-11-06

申请人： Tsunehiro Nishi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Tsunehiro Nishi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07C6974

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C69/716 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045

摘要： An ester compound of the following formula (1) is provided. R1 is H, methyl or CH2CO2R3, R2 is H, methyl or CO2R3, R3 is C1-C15 alkyl, R4 is branched or cyclic, tertiary C5-C20 alkyl group, Z is a divalent C1-C10 hydrocarbon group, and k is 0 or 1. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

摘要翻译： 提供下式（1）的酯化合物：R 1是H，甲基或CH 2 CO 2 R 3，R 2是H，甲基或CO 2 R 3，R 3是C 1 -C 15烷基 R 4是支链或环状的，叔C5-C20烷基，Z是二价C1-C10烃基，k是0或1.含有由酯化合物得到的聚合物作为基础树脂的抗蚀剂组合物是 对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，分辨率和耐蚀刻性，适用于使用电子束或深UV的微图案。

公开(公告)号：US06660448B2

公开(公告)日：2003-12-09

申请号：US09986274

申请日：2001-11-08

申请人： Seiichiro Tachibana ,  Mutsuo Nakashima ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Seiichiro Tachibana ,  Mutsuo Nakashima ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C08F2400

CPC分类号： C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The invention provides a polymer comprising recurring units containing bridged aliphatic rings in the backbone and having a hydroxyl, acyloxy or alkoxylcarbonyloxy group as well as a lactone structure bonded through a spacer, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV.

公开(公告)号：US06500961B2

公开(公告)日：2002-12-31

申请号：US09867656

申请日：2001-05-31

申请人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07D30720

CPC分类号： C07D307/33 ,  G03F7/0395

摘要： Lactone compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is H or an acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, Z is a divalent C1-15 organic group which forms a lactone ring with the carbonyloxy group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

摘要翻译： 式（1）的内酯化合物可用作单体以形成适用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物的基础树脂.R1为H或C1-6烷基，R2为H或1-15碳的酰基或烷氧基羰基 可以被卤素原子取代的原子，Z是与羰基氧基形成内酯环的二价C1-15有机基团，k为0​​或1，m为0-5的整数。

公开(公告)号：US06472543B2

公开(公告)日：2002-10-29

申请号：US09897985

申请日：2001-07-05

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07D40700

CPC分类号： C07D315/00 ,  G03F7/0395

摘要： Lactone compounds of formula (1) are novel and useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. Letter k is 0 or 1 and m is an integer of 1-8.

摘要翻译： 式（1）的内酯化合物是新颖的并且可用作单体以形成适用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物的基础树脂。引发剂k为0或1，m为1-8的整数。

公开(公告)号：US06403823B2

公开(公告)日：2002-06-11

申请号：US09842006

申请日：2001-04-26

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07C6974

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C67/343 ,  C07C69/732

摘要： Ester compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is an unsubstituted or halo-substituted acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms, R3 is an acid labile group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

摘要翻译： 式（1）的酯化合物可用作单体以形成适用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物的基础树脂.R1是H或C1-6烷基，R2是未取代的或卤素取代的酰基或烷氧基羰基， -15个碳原子，R3是酸不稳定基团，k是0或1，m是0-5的整数。

公开(公告)号：US20120077121A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13235719

申请日：2011-09-19

申请人： Koji HASEGAWA ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

发明人： Koji HASEGAWA ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C69/675 ,  C07C69/732 ,  C08F228/02 ,  C08F22/20 ,  C08F220/22 ,  C08F220/38 ,  G03F7/004 ,  C07C69/734

CPC分类号： C07C69/675 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： Fluoroalcohol compounds of formula (1) are useful in producing polymers which are used as the base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and improved development characteristics. R1 is hydrogen or a monovalent C1-C20 hydrocarbon group in which any constituent —CH2— moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, Aa is a (k1+1)-valent C1-C20 hydrocarbon or fluorinated hydrocarbon group, and k1 is 1, 2 or 3.

摘要翻译： 式（1）的氟醇化合物可用于制备用作基础树脂的聚合物，以配制具有高达500nm波长的辐射透明度和改进的显影特性的对透射性的辐射敏感性抗蚀剂组合物。 R1是氢或一价C1-C20烃基，其中任何组成的-CH 2 - 部分可以被-O-或-C（= O） - 代替，A a是（k1 + 1）价的C1-C20烃或 氟化烃基，k1为1,2或3。

公开(公告)号：US08053165B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US12405670

申请日：2009-03-17

申请人： Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

发明人： Takeshi Kinsho ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07C69/54 ,  C07C2601/08 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A hydroxyl-containing monomer of formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2 and R3 are monovalent C1-C15 hydrocarbon groups, or R2 and R3 may form an aliphatic ring. The monomers are useful for the synthesis of polymers which have high transparency to radiation of up to 500 nm and the effect of controlling acid diffusion so that the polymers may be used as a base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having a high resolution.

摘要翻译： 提供式（1）的含羟基的单体，其中R 1是H，F，甲基或三氟甲基，R 2和R 3是一价C 1 -C 15烃基，或者R 2和R 3可以形成脂族环。 单体可用于合成对高达500nm的辐射具有高透明度的聚合物，以及控制酸扩散的效果，使得聚合物可用作基础树脂以配制具有高分辨率的辐射敏感性抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07132215B2

公开(公告)日：2006-11-07

申请号：US10671948

申请日：2003-09-29

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  C07D313/02 ,  C08F24/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F20/30 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Novel ester compounds having formula (1) wherein A1 is a polymerizable functional group having a double bond, A2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R1 and R2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R1 and R2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

摘要翻译： 具有式（1）的新型酯化合物，其中A 1是具有双键的可聚合官能团，A 2 O 2是呋喃基，四氢呋喃二基或草甘膦二基，R 1， / O 2和R 2各自为单价烃基，或R 1和R 2可以键合在一起形成脂族烃环， 碳原子和R 3是氢或可以含有杂原子的一价烃基可聚合成聚合物。 包含聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改进的灵敏度，分辨率和耐蚀刻性，并且适用于电子束或深紫外线的微图案化。

公开(公告)号：US20060234160A1

公开(公告)日：2006-10-19

申请号：US11453030

申请日：2006-06-15

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F20/30 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Novel ester compounds having formula (1) wherein A1 is a polymerizable functional group having a double bond, A2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R1 and R2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R1 and R2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

摘要翻译： 具有式（1）的新型酯化合物，其中A 1是具有双键的可聚合官能团，A 2 O 2是呋喃基，四氢呋喃二基或草甘膦二基，R 1， / O 2和R 2各自为单价烃基，或R 1和R 2可以键合在一起形成脂族烃环， 碳原子和R 3是氢或可以含有杂原子的一价烃基可聚合成聚合物。 包含聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改进的灵敏度，分辨率和耐蚀刻性，并且适用于电子束或深紫外线的微图案化。

公开(公告)号：US07037995B2

公开(公告)日：2006-05-02

申请号：US10671791

申请日：2003-09-29

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： C08F220/12

CPC分类号： C07D307/77 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28

摘要： Novel tertiary (meth)acrylate compounds having a lactone structure are polymerizable into polymers having improved transparency, especially at the exposure wavelength of an excimer laser and dry etching resistance. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have a high resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

摘要翻译： 具有内酯结构的新型叔（甲基）丙烯酸酯化合物可聚合成具有改善的透明度的聚合物，特别是在准分子激光的曝光波长和耐干蚀刻性下。 包含聚合物的抗蚀剂组合物对高能量辐射敏感，具有高分辨率，并且借助电子束或深紫外线照射微图案。