公开(公告)号：US20090269942A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12458009

申请日：2009-06-29

申请人： Hyeon Jin Shin ,  Hyun Dam Jeong ,  Jong Baek Seon ,  Sang Kook Mah ,  Jin Heong Yim ,  Jae Jun Lee ,  Kwang Hee Lee ,  Jung Bae Kim

发明人： Hyeon Jin Shin ,  Hyun Dam Jeong ,  Jong Baek Seon ,  Sang Kook Mah ,  Jin Heong Yim ,  Jae Jun Lee ,  Kwang Hee Lee ,  Jung Bae Kim

IPC分类号： H01L21/312 ,  C07F7/21

CPC分类号： C07F7/21 ,  Y10T428/31663

摘要： A multi-functional cyclic siloxane compound (A), a siloxane-based (co)polymer prepared from the compound (A), or compound (A) and at least one of a Si monomer having organic bridges (B), an acyclic alkoxy silane monomer (C), and a linear siloxane monomer (D); and a process for preparing a dielectric film using the polymer. The siloxane compound of the present invention is highly reactive, so the polymer prepared from the compound is excellent in mechanical properties, thermal stability and crack resistance, and has a low dielectric constant resulting from compatibility with conventional pore-generating materials. Furthermore, a low content of carbon and high content of SiO2 enhance its applicability to the process of producing a semiconductor, wherein it finds great use as a dielectric film.

摘要翻译： 多官能环状硅氧烷化合物（A），由化合物（A）或化合物（A）制备的硅氧烷类（共）聚合物和至少一种具有有机桥（B）的Si单体，无环烷氧基 硅烷单体（C）和直链硅氧烷单体（D）; 以及使用该聚合物制备电介质膜的方法。 本发明的硅氧烷化合物具有高反应性，因此由该化合物制备的聚合物的机械性能，热稳定性和抗裂性优异，并且由于与常规孔产生材料的相容性而具有低的介电常数。 此外，低含量的碳和高含量的SiO 2增强了其在制造半导体的过程中的适用性，其中它被广泛用作电介质膜。

公开(公告)号：US07576230B2

公开(公告)日：2009-08-18

申请号：US10878119

申请日：2004-06-29

申请人： Hyeon Jin Shin ,  Hyun Dam Jeong ,  Jong Baek Seon ,  Sang Kook Mah ,  Jin Heong Yim ,  Jae Jun Lee ,  Kwang Hee Lee ,  Jung Bae Kim

发明人： Hyeon Jin Shin ,  Hyun Dam Jeong ,  Jong Baek Seon ,  Sang Kook Mah ,  Jin Heong Yim ,  Jae Jun Lee ,  Kwang Hee Lee ,  Jung Bae Kim

IPC分类号： C07F7/08 ,  C08G77/04

CPC分类号： C07F7/21 ,  Y10T428/31663

摘要： A multi-functional cyclic siloxane compound (A), a siloxane-based (co)polymer prepared from the compound (A), or compound (A) and at least one of a Si monomer having organic bridges (B), an acyclic alkoxy silane monomer (C), and a linear siloxane monomer (D); and a process for preparing a dielectric film using the polymer. The siloxane compound of the present invention is highly reactive, so the polymer prepared from the compound is excellent in mechanical properties, thermal stability and crack resistance, and has a low dielectric constant resulting from compatibility with conventional pore-generating materials. Furthermore, a low content of carbon and high content of SiO2 enhance its applicability to the process of producing a semiconductor, wherein it finds great use as a dielectric film.

摘要翻译： 多官能环状硅氧烷化合物（A），由化合物（A）或化合物（A）制备的硅氧烷类（共）聚合物和至少一种具有有机桥（B）的Si单体，无环烷氧基 硅烷单体（C）和直链硅氧烷单体（D）; 以及使用该聚合物制备电介质膜的方法。 本发明的硅氧烷化合物具有高反应性，因此由该化合物制备的聚合物的机械性能，热稳定性和抗裂性优异，并且由于与常规孔产生材料的相容性而具有低的介电常数。 此外，低含量的碳和高含量的SiO 2增强了其在制造半导体的过程中的适用性，其中它被广泛用作电介质膜。

公开(公告)号：US07338689B2

公开(公告)日：2008-03-04

申请号：US11218753

申请日：2005-09-06

申请人： Hyeon Jin Shin ,  Hyun Dam Jeong

发明人： Hyeon Jin Shin ,  Hyun Dam Jeong

IPC分类号： B05D3/02

CPC分类号： H01L23/5329 ,  C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/3122 ,  H01L21/31695 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/31663 ,  H01L2924/00

摘要： Disclosed herein is a composition for forming a low dielectric thin film, which includes silane monomers having only any one of stereoisomer, or a siloxane polymer produced by polymerizing the monomers, and a method of producing the low dielectric thin film using the same. When using the composition, mechanical properties are excellent because tacticity of a matrix is improved, and formation of pores is increased due to a molecular free volume, thus it is possible to produce a low dielectric thin film having low dielectricity.

摘要翻译： 本文公开了用于形成低电介质薄膜的组合物，其包括仅具有任何一种立体异构体的硅烷单体或通过聚合单体制备的硅氧烷聚合物，以及使用其制备低电介质薄膜的方法。 当使用组合物时，机械性能是优异的，因为基质的立构规整性得到改善，并且由于无分子体积而增加孔的形成，因此可以制备具有低介电性的低电介质薄膜。