公开(公告)号：US08268528B2

公开(公告)日：2012-09-18

申请号：US12628794

申请日：2009-12-01

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition is provided comprising (A) an additive polymer of acyl-protected hexafluoroalcohol structure, (B) a base polymer having a structure derived from lactone ring, hydroxyl group and/or maleic anhydride, the base polymer becoming soluble in alkaline developer under the action of acid, (C) a photoacid generator, and (D) an organic solvent. The additive polymer is transparent to radiation of wavelength up to 200 nm, and its properties can be tailored by a choice of the polymer structure.

摘要翻译： 提供了抗蚀剂组合物，其包含（A）酰基保护的六氟醇结构的添加剂聚合物，（B）具有衍生自内酯环，羟基和/或马来酸酐的结构的基础聚合物，所述基础聚合物在碱性显影剂中变得可溶 酸的作用，（C）光致酸发生剂，和（D）有机溶剂。 添加剂聚合物对波长高达200nm的辐射是透明的，并且其性质可以通过选择聚合物结构来定制。

公开(公告)号：US07670750B2

公开(公告)日：2010-03-02

申请号：US11905727

申请日：2007-10-03

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  C08F16/24 ,  C08F18/20 ,  C08F216/12

CPC分类号： G03F7/11 ,  C09D133/066 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： A resist protective coating material comprises a polymer comprising repeat units having formulae (1a) and (1b) and having a Mw of 1,000-500,000. R1a and R1b are H, F or alkyl or fluoroalkyl, R2a, R2b, R3a and R3b are H or alkyl, or R2a and R2b, and R3a and R3b may bond together to form a ring, 0

摘要翻译： 抗蚀剂保护涂层材料包括包含具有式（1a）和（1b）的重复单元并且具有1,000-500,000的Mw的聚合物。 R1a和R1b是H，F或烷基或氟烷基，R2a，R2b，R3a和R3b是H或烷基，或R2a和R2b，R3a和R3b可以键合在一起形成环，0

公开(公告)号：US08114570B2

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：US12410357

申请日：2009-03-24

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Masaki Ohashi

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Masaki Ohashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07D307/00 ,  C07C309/03 ,  C07C309/19

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C25/18 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07D333/46 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+  (1a) RO is OH or C1-C20 organoxy, R1 is a divalent C1-C20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 光生酸发生剂在暴露于高能量辐射时产生式（1a）的磺酸。 ROC（= O）R1-COOCH2CF2SO3-H +（1a）RO是OH或C1-C20有机氧基，R1是二价C1-C20脂族基团或与RO形成环状结构。 光致酸产生剂与树脂相容并且可以控制酸扩散，因此适用于化学增幅抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07981589B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US12146375

申请日：2008-06-25

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeru Watanabe

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F32/04 ,  C08F32/08

CPC分类号： C07C69/67 ,  C07C69/753 ,  C07C2601/08 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Fluorinated monomers of formula (1) are useful in producing polymers for the formulation of radiation-sensitive resist compositions. R1 is H or monovalent C1-C20 hydrocarbon group, R2 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R3 and R4 are H or a monovalent C1-C8 hydrocarbon group, or R3 and R4 may form an aliphatic hydrocarbon ring, and A is a divalent C1-C6 hydrocarbon group

摘要翻译： 式（1）的氟化单体可用于制备用于制备辐射敏感抗蚀剂组合物的聚合物。 R1是H或一价C1-C20烃基，R2是H，F，甲基或三氟甲基，R3和R4是H或一价C1-C8烃基，或R3和R4可以形成脂族烃环，A是 二价C1-C6烃基

公开(公告)号：US07531289B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11258894

申请日：2005-10-27

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Masaki Ohashi ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F18/20 ,  C07D315/00

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07D307/20 ,  C07D309/10 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： Cyclic structure-bearing fluorinated monomers having formula (1) wherein Z is a divalent organic group containing a polymerizable unsaturated group are useful to produce polymers for the manufacture of radiation-sensitive resist compositions which are fully transparent to radiation having a wavelength of up to 300 nm and have improved development properties.

摘要翻译： 具有式（1）的带有结构式的氟化单体，其中Z是含有可聚合不饱和基团的二价有机基团，可用于制备用于制造辐射敏感性抗蚀剂组合物的聚合物，其对波长高达300nm的辐射是完全透明的 nm，具有改善的显影性能。

公开(公告)号：US07276324B2

公开(公告)日：2007-10-02

申请号：US10984933

申请日：2004-11-10

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Katsuya Takemura ,  Kazumi Noda ,  Katsuhiro Kobayashi

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Katsuya Takemura ,  Kazumi Noda ,  Katsuhiro Kobayashi

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382

摘要： Chemically amplified resist compositions comprising nitrogen-containing organic compounds having an aromatic carboxylic acid ester structure have an excellent resolution and provide a precise pattern profile and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有芳族羧酸酯结构的含氮有机化合物的化学扩增抗蚀剂组合物具有优异的分辨率并提供精确的图案轮廓，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US20070218402A1

公开(公告)日：2007-09-20

申请号：US11713709

申请日：2007-03-05

申请人： Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

发明人： Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108

摘要： Fluorine-containing silicon compounds having the general formula (1): wherein X1, X2, and X3 each are hydrogen, hydroxyl, halogen, a straight, branched or cyclic alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms, or a monovalent organic group of 1 to 20 carbon atoms having a straight, branched, cyclic or polycyclic skeleton, Y is a divalent organic group, R1 and R2 are each independently hydrogen or a monovalent organic group of 1 to 20 carbon atoms having a straight, branched, cyclic or polycyclic skeleton, or R1 and R2 may bond together to form a ring with the carbon atom to which they are attached silicone resins obtained from the compounds of formula (1) has an appropriate acidity to enable formation of a finer pattern while minimizing the pattern collapse by swelling when used in a resist composition.

摘要翻译： 具有通式（1）的含氟硅化合物：其中X 1，X 2和X 3各自为氢，羟基， 卤素，1〜6个碳原子的直链，支链或环状烷氧基，或具有直链，支链，环状或多环骨架的1〜20个碳原子的一价有机基团，Y为二价有机基团， 1和R 2各自独立地为氢或具有直链，支链，环状或多环骨架的1至20个碳原子的一价有机基团，或R 1 >和R 2可以键合在一起形成与它们所连接的碳原子形成的环，由式（1）化合物获得的有机硅树脂具有适当的酸度以使得能够形成更精细的图案，同时 当在抗蚀剂组合物中使用时，通过溶胀使图案崩溃最小化。

公开(公告)号：US07261995B2

公开(公告)日：2007-08-28

申请号：US11110927

申请日：2005-04-21

申请人： Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Katsuya Takemura ,  Kazumi Noda

发明人： Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Katsuya Takemura ,  Kazumi Noda

IPC分类号： G03C1/73

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07D493/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758

摘要： Chemically amplified resist compositions comprising nitrogen-containing organic compounds having a 7-oxanorbornane-2-carboxylic ester structure have resolution and provide a precise pattern profile and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有7-氧代 - 降冰片烷-2-羧酸酯结构的含氮有机化合物的化学扩增抗蚀剂组合物具有分辨率并提供精确的图案轮廓，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US20070179309A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：US11699390

申请日：2007-01-30

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Tsunehiro Nishi ,  Masaki Ohashi ,  Takeru Watanabe

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Tsunehiro Nishi ,  Masaki Ohashi ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： C07C69/63 ,  C07C31/34

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C07C29/147 ,  C07C69/54 ,  C07C69/653 ,  C07C69/753 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C07C31/44 ,  C07C31/42 ,  C07C35/48

摘要： Fluoroalcohol compounds of formula (4) are prepared by reacting a fluorine compound of formula (1) with reducing agents or organometallic reagents of formulas (2) and (3) wherein R1 is H or a monovalent C1-C20 hydrocarbon group in which any —CH2— moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, R2 is H or a monovalent C1-C6 hydrocarbon group, R3 and R4 are H or a monovalent C1-C8 hydrocarbon group, and M1 is Li, Na, K, Mg, Zn, Al, B, or Si. From the fluoroalcohol compounds, fluorinated monomers can be produced in a simple and economic way, which are useful in producing polymers for the formulation of radiation-sensitive resist compositions.

摘要翻译： 通式（1）的氟化合物与式（2）和（3）的还原剂或式（2）和（3）的有机金属试剂反应制备式（4）的氟化醇，其中R 1是H或单价C 其中任何-CH 2 - 部分可被-O-或-C（ - ） - 取代的 - ， - R 2是H或一价C 1 -C 6烃基，R 3和R 4 > 4是H或一价C 1 -C 8烃基，M 1是Li，Na，K， Mg，Zn，Al，B或Si。 从氟代醇化合物可以以简单且经济的方式制备氟化单体，其可用于制备用于制备辐射敏感抗蚀剂组合物的聚合物。

公开(公告)号：US06509481B2

公开(公告)日：2003-01-21

申请号：US10117218

申请日：2002-04-08

申请人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

发明人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： C07D31500

CPC分类号： C07D307/12 ,  C07D307/06

摘要： Tetrahydrofuran compounds of formula (1) wherein the broken line represents a single bond, a divalent organic group, or a structure in which the alicyclic structure in the form of norbornene or tetracyclo[4.4.0.12,5.17,10]dodecene and the tetrahydrofuran cyclic structure share one or two constituent carbon atoms, and k is 0 or 1 are novel and useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography

摘要翻译： 式（1）的四氢呋喃化合物，其中虚线表示单键，二价有机基团或其中降冰片烯或四环[4.4.0.12,5.17,10]十二碳烯形式的脂环结构和四氢呋喃环状 结构共享一个或两个组成碳原子，并且k为0或1是新颖的并且可用作形成用于化学增强抗蚀剂组合物中的基础树脂的单体，其适用于微图案光刻