公开(公告)号：US20100136482A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：US12628794

申请日：2009-12-01

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition is provided comprising (A) an additive polymer of acyl-protected hexafluoroalcohol structure, (B) a base polymer having a structure derived from lactone ring, hydroxyl group and/or maleic anhydride, the base polymer becoming soluble in alkaline developer under the action of acid, (C) a photoacid generator, and (D) an organic solvent. The additive polymer is transparent to radiation of wavelength up to 200 nm, and its properties can be tailored by a choice of the polymer structure.

摘要翻译： 提供了抗蚀剂组合物，其包含（A）酰基保护的六氟醇结构的添加剂聚合物，（B）具有衍生自内酯环，羟基和/或马来酸酐的结构的基础聚合物，所述基础聚合物在碱性显影剂中变得可溶 酸的作用，（C）光致酸发生剂，和（D）有机溶剂。 添加剂聚合物对波长高达200nm的辐射是透明的，并且其性质可以通过选择聚合物结构来定制。

公开(公告)号：US07592407B2

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：US11259179

申请日：2005-10-27

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： C07C69/52

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D309/10 ,  C08F220/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  Y02P20/55

摘要： A polymerizable fluorinated compound having formula (2a) or (2b) wherein R1 and R2 are H or C1-C20 alkyl or fluoroalkyl, R3 is H, F or C1-C4 alkyl or fluoroalkyl, and R is H or a protective group is polymerized into a fluorinated polymer which is used as a base polymer to formulate a resist composition having transparency to laser light of wavelength≦300 nm, alkali development amenability, and dry etch resistance.

摘要翻译： 具有式（2a）或（2b）的可聚合氟化化合物，其中R 1和R 2是H或C 1 -C 20烷基或氟代烷基，R 3是H，F或C 1 -C 4烷基或氟代烷基，R是H或保护基团是聚合的 转化成氟化聚合物，其用作基础聚合物以配制对波长<= 300nm的激光具有透明度的抗蚀剂组合物，碱显影易化性和耐干蚀刻性。

公开(公告)号：US20090208873A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12371455

申请日：2009-02-13

申请人： Yuji HARADA ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji HARADA ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F118/02 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer obtained through copolymerization of a monomer having a hexafluoroalcohol pendant whose hydroxyl moiety has been protected and a monomer having an acid labile group is useful as an additive to a photoresist composition for immersion lithography. When processed by immersion lithography, the resist composition exhibits good water repellency and water slip and produces few development defects.

摘要翻译： 通过使具有羟基部分被保护的六氟醇侧基的单体和具有酸不稳定基团的单体的共聚合得到的聚合物可用作浸渍光刻用光致抗蚀剂组合物的添加剂。 当通过浸渍光刻处理时，抗蚀剂组合物表现出良好的拒水性和水滑动，并且产生很少的显影缺陷。

公开(公告)号：US20080085466A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11905727

申请日：2007-10-03

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： G03C1/73 ,  C08G63/06 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/11 ,  C09D133/066 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

摘要： A resist protective coating material comprises a polymer comprising repeat units having formulae (1a) and (1b) and having a Mw of 1,000-500,000. R1a and R1b are H, F or alkyl or fluoroalkyl, R2a, R2b, R3a and R3b are H or alkyl, or R2a and R2b, and R3a and R3b may bond together to form a ring, 0

摘要翻译： 抗蚀剂保护涂层材料包括包含具有式（1a）和（1b）的重复单元并且具有1,000-500,000的Mw的聚合物。 R 1a和R 1b是H，F或烷基或氟代烷基，R 2a，R 2b，R b， R 3a和R 3b是H或烷基，或R 2a和R 2b和R 3a， / SUP>和R 3b可以键合在一起形成环，0

公开(公告)号：US07332616B2

公开(公告)日：2008-02-19

申请号：US11672917

申请日：2007-02-08

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai

IPC分类号： C07D333/64 ,  C07D333/72 ,  C07D409/02 ,  C07D307/00 ,  C07C69/52 ,  C07C67/02 ,  C07C43/18

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C69/54 ,  C07C2602/42 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397

摘要： The present invention provides a polymer which has at least one or more of a repeating unit represented by a following general formula (1a), a repeating unit represented by a following general formula (2a) and a repeating unit represented by a following general formula (3b), and a repeating unit represented by a following general formula (1c), and a positive resist composition which contains as a base resin the polymer. Thereby, there can be provided a positive-resist composition having high sensitivity and high resolution in exposure with a high energy beam, wherein line edge roughness is small since swelling at the time of development is suppressed, and the residue after development is few.

摘要翻译： 本发明提供一种聚合物，其具有以下通式（1a）表示的重复单元，下述通式（2a）表示的重复单元和下述通式（ 3b）和由以下通式（1c）表示的重复单元和含有聚合物作为基础树脂的正性抗蚀剂组合物。 因此，可以提供一种在高能量束曝光时具有高灵敏度和高分辨率的正光刻胶组合物，其中线边缘粗糙度小，因为在显影时的膨胀被抑制，并且显影后的残留物很少。

公开(公告)号：US20070231738A1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：US11730289

申请日：2007-03-30

申请人： Tatsushi Kaneko ,  Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada

发明人： Tatsushi Kaneko ,  Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： There is disclosed a resist composition comprising, at least, a polymer including repeating units represented by the following general formula (1). There can-be provided a resist composition that has a good barrier property against water, prevents resist components from leaching to water, has high receding contact angle against water, does not require a protective film, has an excellent process applicability, suitable for the liquid immersion lithography and makes it possible to form micropatterns with high precision.

摘要翻译： 公开了一种抗蚀剂组合物，其至少包含由以下通式（1）表示的重复单元的聚合物。 可以提供对水具有良好的阻隔性的抗蚀剂组合物，防止抗蚀剂成分浸出到水中，对水具有高后退接触角，不需要保护膜，具有优异的工艺适用性，适用于液体 浸没式光刻技术，可以高精度地形成微图案。

公开(公告)号：US07276623B2

公开(公告)日：2007-10-02

申请号：US11440107

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： C07C69/00 ,  G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046

摘要： Ester compounds having formula (1) wherein R1 is fluorine or C1-C10 fluoroalkyl, R2 is C1-C10 alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group are novel. They can be polymerized into polymers which are used to formulate resist compositions, which are processed by the lithography involving ArF exposure, offering many advantages including improved resolution and transparency, minimal line edge roughness, improved etch resistance, and especially minimal surface roughness after etching.

摘要翻译： 式（1）其中R 1是氟或C 1 -C 10氟烷基的酯化合物，其中R 1是氢或C 1 -C 10 - 是C 1 -C 10亚烷基或氟代亚烷基，R 3是酸不稳定基团是新的。 它们可以聚合成用于配制抗蚀剂组合物的聚合物，其通过涉及ArF曝光的光刻加工，提供许多优点，包括改进的分辨率和透明度，最小的线边缘粗糙度，改善的耐蚀刻性，以及蚀刻后特别是最小的表面粗糙度。

公开(公告)号：US20060269870A1

公开(公告)日：2006-11-30

申请号：US11440107

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046

摘要： Ester compounds having formula (1) wherein R1 is fluorine or C1-C10 fluoroalkyl, R2 is C1-C10 alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group are novel. They can be polymerized into polymers which are used to formulate resist compositions, which are processed by the lithography involving ArF exposure, offering many advantages including improved resolution and transparency, minimal line edge roughness, improved etch resistance, and especially minimal surface roughness after etching.

摘要翻译： 式（1）其中R 1是氟或C 1 -C 10氟烷基的酯化合物，其中R 1是氢或C 1 -C 10 - 是C 1 -C 10亚烷基或氟代亚烷基，R 3是酸不稳定基团是新的。 它们可以聚合成用于配制抗蚀剂组合物的聚合物，其通过涉及ArF曝光的光刻加工，提供许多优点，包括改进的分辨率和透明度，最小的线边缘粗糙度，改善的耐蚀刻性，以及蚀刻后特别是最小的表面粗糙度。

公开(公告)号：US06866983B2

公开(公告)日：2005-03-15

申请号：US10406222

申请日：2003-04-04

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108

摘要： A resist composition comprising a blend of a polymer comprising recurring units k and m of formula (1) wherein R1 and R2 each are hydrogen or an acid labile group, 0

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含包含式（1）的重复单元k和m的聚合物的共混物，其中R 1和R 2各自为氢或酸不稳定基团，0

公开(公告)号：US20130065183A1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：US13606297

申请日：2012-09-07

申请人： Tomohiro Kobayashi ,  Jun Hatakeyama ,  Masashi Iio ,  Yuuki Suka ,  Koji Hasegawa ,  Yuji Harada

发明人： Tomohiro Kobayashi ,  Jun Hatakeyama ,  Masashi Iio ,  Yuuki Suka ,  Koji Hasegawa ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A resist composition is provided comprising a polymer comprising recurring units having a protected hydroxyl group, a photoacid generator, an organic solvent, and a hydroxyl-free polymeric additive comprising fluorinated recurring units. A negative pattern is formed by coating the resist composition, prebaking to form a resist film, exposing, baking, and developing the exposed film in an organic solvent-based developer to selectively dissolve the unexposed region of resist film.

摘要翻译： 提供了抗蚀剂组合物，其包含聚合物，其包含具有被保护的羟基的重复单元，光致酸产生剂，有机溶剂和包含氟化重复单元的无羟基聚合物添加剂。 通过涂覆抗蚀剂组合物，预烘烤以形成抗蚀剂膜，在有机溶剂基显影剂中曝光，烘烤和显影曝光的膜以选择性地溶解抗蚀剂膜的未曝光区域，形成负图案。