公开(公告)号：US09057964B2

公开(公告)日：2015-06-16

申请号：US13236873

申请日：2011-09-20

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

IPC分类号： G02B17/06 ,  G03F7/20 ,  G02B17/08

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0663 ,  G02B17/0888

摘要： Imaging optics includes a first mirror in the imaging beam path after the object field, a last mirror in the imaging beam path before the image field, and a fourth to last mirror in the imaging beam path before the image field. In an unfolded imaging beam path between the object plane and the image plane, an impingement point of the chief ray on a used region of each of the plurality of mirrors has a mirror spacing from the image plane. The mirror spacing of the first mirror is greater than the mirror spacing of the last mirror. The mirror spacing of the fourth to last mirror is greater than the mirror spacing of the first mirror. Chief rays that emanate from points of the object field that are spaced apart from another have a mutually diverging beam course, giving a negative back focus of the entrance pupil.

摘要翻译： 成像光学器件包括在物场之后的成像光束路径中的第一反射镜，在图像场之前的成像光束路径中的最后一个反射镜，以及在图像场之前的成像光束路径中的第四个至最后一个镜像。 在物平面和图像平面之间的展开成像光束路径中，多个反射镜中的每一个的使用区域上的主光线的冲击点具有与图像平面相反的反射镜间隔。 第一个镜子的镜子间距大于最后一个镜子的反射镜间距。 第四到最后一个镜子的镜子间距大于第一个镜子的镜子间距。 从与物体间隔开的物体点发出的主光线具有相互发散的光束路线，给入射光瞳的负后焦距。

公开(公告)号：US20120069315A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：US13236873

申请日：2011-09-20

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Claus Zahlten ,  Christoph Menke ,  Marco Pretorius ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Rostalski

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/70 ,  G02B17/06

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0663 ,  G02B17/0888

摘要： Imaging optics includes a first mirror in the imaging beam path after the object field, a last mirror in the imaging beam path before the image field, and a fourth to last mirror in the imaging beam path before the image field. In an unfolded imaging beam path between the object plane and the image plane, an impingement point of the chief ray on a used region of each of the plurality of mirrors has a mirror spacing from the image plane. The mirror spacing of the first mirror is greater than the mirror spacing of the last mirror. The mirror spacing of the fourth to last mirror is greater than the mirror spacing of the first mirror. Chief rays that emanate from points of the object field that are spaced apart from another have a mutually diverging beam course, giving a negative back focus of the entrance pupil.

摘要翻译： 成像光学器件包括在物场之后的成像光束路径中的第一反射镜，在图像场之前的成像光束路径中的最后一个反射镜，以及在图像场之前的成像光束路径中的第四个至最后一个镜像。 在物平面和图像平面之间的展开成像光束路径中，多个反射镜中的每一个的使用区域上的主光线的冲击点具有与图像平面相反的反射镜间隔。 第一个镜子的镜子间距大于最后一个镜子的反射镜间距。 第四到最后一个镜子的镜子间距大于第一个镜子的镜子间距。 从与物体间隔开的物体点发出的主光线具有相互发散的光束路线，给入射光瞳的负后焦距。

公开(公告)号：US20120147347A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13326516

申请日：2011-12-15

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Marco Pretorius ,  Christoph Menke ,  Wilhelm Ulrich ,  Martin Endres

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Marco Pretorius ,  Christoph Menke ,  Wilhelm Ulrich ,  Martin Endres

IPC分类号： G03B27/54 ,  G02B17/06 ,  B01J19/12 ,  B82Y20/00

CPC分类号： G02B17/0663 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70233

摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field in an object plane into an image field in an image plane. A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio greater than 1. A ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field can be less than 0.9.

摘要翻译： 成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面中的对象场成像到图像平面中的图像场。 至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。 物体场的纵横比大于1.物体场的最小和最大横向尺寸的比可以小于0.9。

公开(公告)号：US20120069314A1

公开(公告)日：2012-03-22

申请号：US13235866

申请日：2011-09-19

申请人： Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Marco Pretorius ,  Christoph Menke ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Mann

发明人： Johannes Zellner ,  Aurelian Dodoc ,  Marco Pretorius ,  Christoph Menke ,  Wilhelm Ulrich ,  Hans-Juergen Mann

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/70 ,  G02B17/06

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G03F7/70233

摘要： An imaging optics has a plurality of mirrors which image an object field in an object plane in an image field in an image plane. A pupil plane is arranged in the imaging beam path between the object field and the image field. A stop is arranged in the pupil plane. The pupil plane is tilted at an angle (α) with respect to the object plane, where α is greater than 0.1°. The imaging optics results allows for a manageable combination of small imaging errors, manageable production and good throughput.

摘要翻译： 成像光学器件具有多个反射镜，其对图像平面中的图像场中的物体平面中的物体场进行成像。 在对象场和图像场之间的成像光束路径中布置瞳面。 在瞳孔平面上设置一个停止点。 瞳平面相对于物平面角度（α）倾斜，其中α大于0.1°。 成像光学结果允许小的成像错误，可管理的生产和良好的吞吐量的可管理的组合。

公开(公告)号：US20090021830A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12132796

申请日：2008-06-04

申请人： Michael Totzeck ,  Susanne Beder ,  Wilfried Clauss ,  Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc

发明人： Michael Totzeck ,  Susanne Beder ,  Wilfried Clauss ,  Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc

IPC分类号： G02B17/08 ,  G02B27/28 ,  G02B27/18

CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B27/286 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

摘要： In some embodiments, the disclosure provides a projection lens configured to configured to image radiation from an object plane of the projection lens to an image plane of the projection lens. The projection lens can, for example, be used in a microlithographic projection exposure apparatus. The projection lens includes a last lens on the image plane side. The last lens includes at least one intrinsically birefringent material. The material can be, for example, magnesium oxide, a garnet, lithium barium fluoride and/or a spinel. The last lens can have a thickness d which satisfies the condition 0.8*y0, max

摘要翻译： 在一些实施例中，本公开提供一种投影透镜，其被配置为被配置为将来自投影透镜的物平面的辐射成像到投影透镜的像平面。 投影透镜例如可以用在微光刻投影曝光装置中。 投影透镜在图像平面侧包括最后一个透镜。 最后一个透镜包括至少一个本质上双折射材料。 该材料可以是例如氧化镁，石榴石，氟化锂钡和/或尖晶石。 最后一个透镜可以具有满足条件0.8 * y0，max

公开(公告)号：US20080204877A1

公开(公告)日：2008-08-28

申请号：US12042621

申请日：2008-03-05

申请人： Michael Totzeck ,  Susanne Beder ,  Wilfried Clauss ,  Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc

发明人： Michael Totzeck ,  Susanne Beder ,  Wilfried Clauss ,  Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc

IPC分类号： G02B27/28

CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B27/286 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

摘要： In some embodiments, the disclosure provides an optical system, in particular an illumination system or a projection lens of a microlithographic exposure system, having an optical system axis and at least one element group including three birefringent elements each of which includes optically uniaxial material and having an aspheric surface, wherein a first birefringent element of the group has a first orientation of its optical crystal axis, a second birefringent element of the group has a second orientation of its optical crystal axis, wherein the second orientation can be described as emerging from a rotation of the first orientation, the rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof, and a third birefringent element of the group has a third orientation of its optical crystal axis, wherein the third orientation can be described as emerging from a rotation of the second orientation, the rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof.

摘要翻译： 在一些实施例中，本公开提供了一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，其具有光学系统轴线和包括三个双折射元件的至少一个元件组，每个元件组包括光学单轴材料并具有 非球面表面，其中该组的第一双折射元件具有其光学晶体轴的第一取向，该组的第二双折射元件具有其光学晶轴的第二取向，其中第二取向可被描述为从 第一取向的旋转，旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍，并且该组的第三双折射元件具有其光学晶轴的第三取向，其中， 可以将第三取向描述为从第二取向旋转而出现，旋转不对准 以围绕光学系统轴旋转90°的角度或其整数倍。

公开(公告)号：US08031326B2

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：US12042621

申请日：2008-03-05

申请人： Michael Totzeck ,  Susanne Beder ,  Wilfried Clauss ,  Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc

发明人： Michael Totzeck ,  Susanne Beder ,  Wilfried Clauss ,  Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/72

CPC分类号： G02B5/3083 ,  G02B27/286 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70966

摘要： In some embodiments, the disclosure provides an optical system, in particular an illumination system or a projection lens of a microlithographic exposure system, having an optical system axis and at least one element group including three birefringent elements each of which includes optically uniaxial material and having an aspheric surface, wherein a first birefringent element of the group has a first orientation of its optical crystal axis, a second birefringent element of the group has a second orientation of its optical crystal axis, wherein the second orientation can be described as emerging from a rotation of the first orientation, the rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof, and a third birefringent element of the group has a third orientation of its optical crystal axis, wherein the third orientation can be described as emerging from a rotation of the second orientation, the rotation not corresponding to a rotation around the optical system axis by an angle of 90° or an integer multiple thereof.

摘要翻译： 在一些实施例中，本公开提供了一种光学系统，特别是微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜，其具有光学系统轴线和包括三个双折射元件的至少一个元件组，每个元件组包括光学单轴材料并具有 非球面表面，其中该组的第一双折射元件具有其光学晶体轴的第一取向，该组的第二双折射元件具有其光学晶轴的第二取向，其中第二取向可被描述为从 第一取向的旋转，旋转不对应于围绕光学系统轴的旋转90°的角度或其整数倍，并且该组的第三双折射元件具有其光学晶轴的第三取向，其中， 可以将第三取向描述为从第二取向旋转而出现，旋转不对准 以围绕光学系统轴旋转90°的角度或其整数倍。

公开(公告)号：US07697211B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US12257156

申请日：2008-10-23

申请人： David R. Shafer ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Zellner ,  Heiko Feldmann ,  Wilhelm Ulrich ,  Holger Walter ,  Ulrich Loering ,  Daniel Kraehmer ,  Gerhard Fuerter

发明人： David R. Shafer ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Zellner ,  Heiko Feldmann ,  Wilhelm Ulrich ,  Holger Walter ,  Ulrich Loering ,  Daniel Kraehmer ,  Gerhard Fuerter

IPC分类号： G02B27/30

CPC分类号： G02B13/143 ,  G02B13/26 ,  G03F7/70241

摘要： The invention features a system for microlithography that includes a mercury light source configured to emit radiation at multiple mercury emission lines, a projection objective positioned to receive radiation emitted by the mercury light source, and a stage configured to position a wafer relative to the projection objective. During operation, the projection objective directs radiation from the light source to the wafer, where the radiation at the wafer includes energy from more than one of the emission lines. Optical lens systems for use in said projection objective comprise four lens groups, each having two lenses comprising silica, the first and second lens groups on one hand and the third and fourth lens groups on the other hand are positioned symmetrically with respect to a plane perpendicular to the optical axis of said lens system.

摘要翻译： 本发明的特征在于一种用于微光刻的系统，其包括配置成在多个汞发射线处发射辐射的水银光源，设置成接收由水银光源发射的辐射的投影物镜，以及被配置为相对于投影物镜定位晶片的台 。 在操作期间，投影物镜将来自光源的辐射引导到晶片，其中晶片处的辐射包括来自多于一个发射线的能量。 用于所述投影物镜的光学透镜系统包括四个透镜组，每个透镜组具有包括二氧化硅的两个透镜，另一方面，第一和第二透镜组以及第三透镜组和第四透镜组相对于垂直的平面对称地定位 到所述透镜系统的光轴。

公开(公告)号：US09019596B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13361707

申请日：2012-01-30

申请人： Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Alexander Epple

发明人： Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20 ,  G02B17/06

CPC分类号： G03F7/70058 ,  G02B17/06 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0804 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection objective has a first objective part, defining a first part of the optical axis and imaging an object field to form a first real intermediate image. It also has a second, catadioptric objective part forming a second real intermediate image using the radiation from the first objective part. The second objective part has a concave mirror and defines a second part of the optical axis. A third objective part images the second real intermediate image into the image plane and defines a third part of the optical axis. Folding mirrors deflect the radiation from the object plane towards the concave mirror; and deflect the radiation from the concave mirror towards the image plane. The first part of the optical axis defined by the first objective part is laterally offset from and aligned parallel with the third part of the optical axis.

摘要翻译： 反射折射投射物镜具有第一物镜部分，限定光轴的第一部分并对物场进行成像以形成第一实际中间像。 它还具有使用来自第一目标部分的辐射形成第二实际中间图像的第二反射折射物镜部分。 第二目标部分具有凹面镜并且限定光轴的第二部分。 第三目标部分将第二实际中间图像成像到图像平面中并且限定光轴的第三部分。 折叠镜将物体平面上的辐射偏转到凹面镜; 并将来自凹面镜的辐射偏转到图像平面。 由第一目标部分限定的光轴的第一部分与光轴的第三部分横向偏移并与其平行。

公开(公告)号：US07136220B2

公开(公告)日：2006-11-14

申请号：US10805393

申请日：2004-03-22

申请人： Wilhelm Ulrich ,  David R. Shafer ,  Alexander Epple ,  Helmut Beierl ,  Aurelian Dodoc

发明人： Wilhelm Ulrich ,  David R. Shafer ,  Alexander Epple ,  Helmut Beierl ,  Aurelian Dodoc

IPC分类号： G02B17/00 ,  G02B21/00 ,  G02B23/00

CPC分类号： G02B17/0892 ,  G02B17/08 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection lens for imaging a pattern arranged in an object plane onto an image plane, preferably while creating a real intermediate image, including a catadioptric first lens section having a concave mirror and a physical beamsplitter having a beamsplitting surface, as well as a second lens section that is preferably refractive and follows the beamsplitter, between its object plane and image plane. Positive refractive power is arranged in an optical near-field of the object plane, which is arranged at a working distance from the first optical surface of the projection lens. The beamsplitter lies in the vicinity of low marginal-ray heights, which allows configuring projection lenses that are fully corrected for longitudinal chromatic aberration, while employing small quantities of materials, particularly those materials needed for fabricating their beamsplitters.

摘要翻译： 一种反折射投射透镜，用于将布置在物平面中的图案成像到图像平面上，优选地在创建实际中间图像的同时，包括具有凹面镜的反折射第一透镜部分和具有分束表面的物理分束器，以及第二 透镜部分优选地折射并且在分束器之间，在其物平面和图像平面之间。 物体平面的光学近场被布置在距离投影透镜的第一光学表面的工作距离处。 分束器位于低边缘射线高度附近，这允许配置对纵向色差完全校正的投影透镜，同时使用少量材料，特别是制造其分光器所需的材料。