公开(公告)号：US07599811B2

公开(公告)日：2009-10-06

申请号：US10582247

申请日：2004-12-09

申请人： Frits Jurgen Van Hout ,  Josephus Antonius Maria Van Bommel ,  Peter Dirksen ,  Mark Kroon ,  Casparus Anthonius Henricus Juffermans ,  Renatus Maria Adrianus Mathias Van Den Eijnden

发明人： Frits Jurgen Van Hout ,  Josephus Antonius Maria Van Bommel ,  Peter Dirksen ,  Mark Kroon ,  Casparus Anthonius Henricus Juffermans ,  Renatus Maria Adrianus Mathias Van Den Eijnden

IPC分类号： G06F15/00

CPC分类号： G03F7/70591 ,  G03F7/7085

摘要： A sensor arrangement may be used to measure properties, such as optical properties, of a device arranged to process substrates. The sensor arrangement includes a substrate having the following: a plurality of sensor elements provided as an integrated circuit in the substrate, for each one of the plurality of sensor elements associated electronic circuitry comprising a processing circuit connected to the sensor element and an input/output interface connected to the processing circuit, and a power supply unit configured to supply operating power only to the electronic circuitry associated with one or more of the plurality of sensor elements which are in use. The at least one sensor element and possibly the processing electronics, the input/output unit, and/or the power supply unit may be provided as one or more integrated circuits or other structures in the substrate.

摘要翻译： 可以使用传感器装置来测量布置成处理衬底的器件的性质，例如光学性质。 所述传感器装置包括具有以下基板：多个传感器元件，作为所述基板中的集成电路设置，所述多个传感器元件中的每一个相关联的电子电路包括连接到所述传感器元件的处理电路和输入/输出 接口连接到处理电路，以及电源单元，被配置为仅向与所使用的多个传感器元件中的一个或多个相关联的电子电路提供工作电力。 至少一个传感器元件以及可能的处理电子器件，输入/输出单元和/或电源单元可以被提供为衬底中的一个或多个集成电路或其他结构。

公开(公告)号：US20080305970A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US12097082

申请日：2006-12-15

申请人： Peter Dirksen ,  Yuri Aksenov ,  Fredericus Christiaan Van Den Heuvel ,  Johannes Arnoldus Jacobus Maria Kwinten

发明人： Peter Dirksen ,  Yuri Aksenov ,  Fredericus Christiaan Van Den Heuvel ,  Johannes Arnoldus Jacobus Maria Kwinten

IPC分类号： G01N33/00 ,  B32B15/04 ,  G03F7/20 ,  C40B50/08

CPC分类号： G03F7/70616 ,  B01L3/502707 ,  B01L2200/12 ,  B01L2300/0654 ,  B01L2300/0819 ,  G03F7/70608 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7019 ,  G03F9/7076 ,  G06F3/016 ,  G11C16/16

摘要： The invention relates to a device comprising a first material (10) and a second material. (20) whereby the first and the second material are so provided towards each other as to form at least one focusing microstructure with a focal point (30) located outside of the first material.

摘要翻译： 本发明涉及包括第一材料（10）和第二材料的装置。 （20），由此第一和第二材料朝向彼此设置成形成至少一个具有位于第一材料外部的焦点（30）的聚焦微结构。

公开(公告)号：US07037626B2

公开(公告)日：2006-05-02

申请号：US10478339

申请日：2002-05-16

申请人： Peter Dirksen ,  Casparus Anthonius Henricus Juffermans ,  Johannes Van Wingerden

发明人： Peter Dirksen ,  Casparus Anthonius Henricus Juffermans ,  Johannes Van Wingerden

IPC分类号： G01F9/00

CPC分类号： H01L21/32139 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F7/0035

摘要： For lithographically manufacturing a device with a very high density, a design mask pattern (120) is distributed on a number of sub-patterns (120a, 120b, 120c) by means of a new method. The sub-patterns do not comprise “forbidden” structures (135) and can be transferred by conventional apparatus to a substrate layer to be patterned. For the transfer, a new stack of layers is used, which comprise a pair of a processing layer (22; 26) and an inorganic anti-reflection layer (24; 28) for each sub-pattern. After a first processing layer (26) has been patterned with a first sub-pattern, it is coated with a new resist layer (30) which is exposed with a second sub-pattern, and a second processing layer (22) under the first processing layer is processed with the second sub-pattern.

摘要翻译： 为了光刻制造具有非常高密度的器件，通过新的方法将设计掩模图案（120）分布在多个子图案（120a，120b，120c）上。 子图案不包括“禁止”结构（135）并且可以通过常规设备传送到待图案化的基底层。 为了传送，使用新的层叠层，其包括用于每个子图案的一对处理层（22; 26）和无机抗反射层（24; 28）。 在第一处理层（26）已经被图案化为第一子图案之后，其被涂覆有用第二子图案曝光的新抗蚀剂层（30）和在第一子图案下方的第二处理层（22） 用第二子图案处理处理层。

公开(公告)号：US06331368B2

公开(公告)日：2001-12-18

申请号：US09844122

申请日：2001-04-27

申请人： Peter Dirksen ,  Casparus A. H. Juffermans

发明人： Peter Dirksen ,  Casparus A. H. Juffermans

IPC分类号： G03F800

CPC分类号： G03F7/706 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70358

摘要： Aberrations of an imaging system (PL) can be detected in an accurate and reliable way by imaging, by means of the imaging system, a test object having circular phase structure (22) on a photoresist (PR), developing the resis and scanning it with a scanning detection device (SEM) which is coupled to an image processor (IP). The circular phase structure is imaged in a ring structure (25) and each of several possible aberrations, like coma, astigmatism, three-point aberration, etc. causes a specific change in the shape of the inner contour (CI) and the outer contour (CE) of the ring and/or a change in the distance between these contours, so that the aberrations can be detected independently of each other.

摘要翻译： 通过成像系统，在光致抗蚀剂（PR）上成像具有圆形相位结构（22）的测试对象，可以以准确和可靠的方式检测成像系统（PL）的像差，从而显影和扫描成像系统 具有耦合到图像处理器（IP）的扫描检测装置（SEM）。 圆形相结构被成像为环形结构（25），并且几个可能的像差中的每一个像昏迷，散光，三点像差等都导致内部轮廓（CI）和外部轮廓的形状的特定变化 （CE）和/或这些轮廓之间的距离的变化，使得可以彼此独立地检测像差。

公开(公告)号：US06248486B1

公开(公告)日：2001-06-19

申请号：US09407532

申请日：1999-09-29

申请人： Peter Dirksen ,  Casparus A. H. Juffermans

发明人： Peter Dirksen ,  Casparus A. H. Juffermans

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F7/706 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70358

摘要： Aberrations of an imaging system can be detected in an accurate and reliable way by imaging, by means of the imaging system, a circular phase structure on a photoresist, developing the resist and scanning it with a scanning detection device which is coupled to an image processor. The circular phase structure is imaged in a ring structure and each of several possible aberrations, like coma, astigmatism, three-point aberration, etc. causes a specific change in the shape of the inner contour and the outer contour of the ring and/or a change in the distance between these contours, so that the aberrations can be detected independently of each other. The new method may be used for measuring a projection system for a lithographic projection apparatus.

摘要翻译： 可以以准确和可靠的方式检测成像系统的像差，通过成像系统在光致抗蚀剂上成像圆形相结构，显影抗蚀剂并用耦合到图像处理器的扫描检测装置进行扫描 。 圆形相结构以环形结构成像，并且几个可能的像差中的每一个像昏迷，散光，三点像差等都导致环的内部轮廓和外部轮廓的形状的特定变化和/或 这些轮廓之间的距离发生变化，从而彼此独立地检测像差。 该新方法可用于测量光刻投影装置的投影系统。

公开(公告)号：US5910847A

公开(公告)日：1999-06-08

申请号：US800446

申请日：1997-02-18

申请人： Jan E. Van der Werf ,  Peter Dirksen ,  Manfred G. Tenner

发明人： Jan E. Van der Werf ,  Peter Dirksen ,  Manfred G. Tenner

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F9/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70558 ,  G03F7/70675

摘要： A method and apparatus for forming a pattern on a substrate (w), either or not via a mask pattern (c), are described. The radiation dose can be measured accurately and reliably by measuring a latent image of a new, asymmetrical test mark (TM) by means of an optical alignment device present in the apparatus or associated therewith, this latent image being formed by means of production radiation (PB) in the radiation-sensitive layer on the substrate.

摘要翻译： 描述了通过掩模图案（c）或者通过掩模图案（c）在衬底（w）上形成图案的方法和装置。 通过借助存在于设备中或与其相关联的光学对准装置测量新的不对称测试标记（TM）的潜像，可以准确可靠地测量辐射剂量，该潜像通过生产辐射（ PB）在衬底上的辐射敏感层中。

公开(公告)号：US5674650A

公开(公告)日：1997-10-07

申请号：US509909

申请日：1995-08-01

申请人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf

发明人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7026

摘要： A method and apparatus for repetitively imaging a mask pattern (C) on a substrate (W) are described. The focusing of the projection lens system used for imaging and various other parameters of the apparatus and the projection lens system (PL), as well as illumination doses can be measured accurately and reliably, and measuring devices of the apparatus can be calibrated, by measuring an image of a new asymmetrical test mark formed in the photoresist on the substrate (W) by means of a projection beam (PB).

摘要翻译： 对用于对基板（W）上的掩模图案（C）进行重复成像的方法和装置进行说明。 用于成像的投影透镜系统和设备和投影透镜系统（PL）的各种其他参数以及照明剂量的聚焦可以被准确可靠地测量，并且可以通过测量来校准装置的测量装置 通过投影光束（PB）形成在基板（W）上的光致抗蚀剂中的新的不对称测试标记的图像。