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    Alignment device and lithographic apparatus provided with such a device
    1.
    发明授权
    Alignment device and lithographic apparatus provided with such a device 失效
    具有这种装置的对准装置和光刻设备

    公开(公告)号：US5917604A

    公开(公告)日：1999-06-29

    申请号：US818143

    申请日：1997-03-13

    申请人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf ,  Manfred G. Tenner

    发明人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf ,  Manfred G. Tenner

    IPC分类号： H01L21/68 ,  G02B27/18 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  H01L23/544 ,  G01B11/00

    CPC分类号： G03F9/70 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002

    摘要： A device is described for aligning a first object provided with a first alignment mark (P) with respect to a second object provided with a second alignment mark (M), which marks have a periodical structure and are imaged onto each other. By selecting beam portions from the radiation from the first alignment mark (P) with the aid of an order diaphragm (55'), which beam portions are deflected through larger angles, the sensitivity of the device to errors can be decreased. Such a device may be used to great advantage in a lithographic apparatus.

    摘要翻译： 描述了一种装置，用于使提供有第一对准标记（P）的第一物体相对于具有第二对准标记（M）的第二物体对准，该标记具有周期性结构并彼此成像。 通过借助于定子光阑（55'）从第一对准标记（P）的辐射中选择光束部分，这些光束部分通过较大的角度被偏转，可以减小器件对误差的灵敏度。 这样的器件可以在光刻设备中被用于很大的优点。

    Radiation-source unit for generating a beam having two directions of polarisation and two frequencies
    3.
    发明授权
    Radiation-source unit for generating a beam having two directions of polarisation and two frequencies 失效
    用于产生具有两个偏振方向和两个频率的光束的辐射源单元

    公开(公告)号：US5485272A

    公开(公告)日：1996-01-16

    申请号：US247933

    申请日：1994-05-24

    申请人： Peter Dirksen ,  Manfred G. Tenner ,  Jan E. van der Werf

    发明人： Peter Dirksen ,  Manfred G. Tenner ,  Jan E. van der Werf

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G02F1/33 ,  G02F2/02 ,  G03F9/00 ,  G11B7/135 ,  H01S5/00

    CPC分类号： G03F9/7049 ,  G02F1/33

    摘要： A radiation-source unit is described which produces a radiation beam (30) with two components (9, 10) which are polarized perpendicularly relative to one another and which have different frequencies. The unit comprises a radiation source, a beam splitter (4), an acousto-optical modulation system (13, 18) for generating the frequency difference, and a beam combiner (25). Since the beam splitter and the beam combiner are transmission elements and their connecting line extends through the center of the modulation system the unit is compact and no alignment problems occur. Moreover, the frequency difference is adjustable over a wide range.

    摘要翻译： 描述了辐射源单元，其产生具有彼此垂直偏振且具有不同频率的两个分量（9,10）的辐射束（30）。 该单元包括辐射源，分束器（4），用于产生频率差的声光调制系统（13,18）和光束组合器（25）。 由于分束器和光束组合器是传输元件，并且其连接线延伸穿过调制系统的中心，所以该单元是紧凑的，并且不会发生对准问题。 此外，频率差可在宽范围内调节。

    Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system
    4.
    发明授权
    Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system 失效
    具有这种系统的差分干涉仪系统和光刻步进扫描装置

    公开(公告)号：US6046792A

    公开(公告)日：2000-04-04

    申请号：US812283

    申请日：1997-03-06

    申请人： Jan E. Van Der Werf ,  Peter Dirksen

    发明人： Jan E. Van Der Werf ,  Peter Dirksen

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

    CPC分类号： G03F7/70358 ,  G01B9/02007 ,  G01B9/02018 ,  G01B9/02019 ,  G01B9/02021 ,  G01B9/02027 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G01B2290/15 ,  G01B2290/70

    摘要： A differential interferometer system for measuring the mutual positions and movements of a first object (WH) and a second object (MH). The system comprises a first interferometer unit (1, 2, 3, 4) having a first measuring reflector (RW) and a second interferometer unit (5, 6, 7, 8) having a second measuring reflector (RM). Since a measuring beam (b.sub.m) passes through both the first and the second interferometer unit and is reflected by both the first and the second measuring reflector, and since the measuring beam and the reference beam (b.sub.r) traverse the same path at least between the two interferometer units, accurate measurements can be preformed very rapidly. The interferometer system may be used to great advantage in a step-and-scan-lithographic projection apparatus.

    摘要翻译： 一种用于测量第一物体（WH）和第二物体（MH）的相互位置和运动的差分干涉仪系统。 该系统包括具有第一测量反射器（RW）和具有第二测量反射器（RM）的第二干涉仪单元（5,6,7,8）的第一干涉仪单元（1,2,3,4）。 由于测量光束（bm）通过第一和第二干涉仪单元并且被第一和第二测量反射器两者反射，并且由于测量光束和参考光束（br）至少穿过相同的路径 两个干涉仪单元，可以非常快速地进行精确的测量。 干涉仪系统可以在步进和扫描光刻投影设备中被用于很大的优点。

    Method of repetitively imaging a mask pattern on a substrate, and apparatus for performing the method
    6.
    发明授权
    Method of repetitively imaging a mask pattern on a substrate, and apparatus for performing the method 失效
    对基板上的掩模图案进行重复成像的方法以及执行该方法的装置

    公开(公告)号：US5674650A

    公开(公告)日：1997-10-07

    申请号：US509909

    申请日：1995-08-01

    申请人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf

    发明人： Peter Dirksen ,  Jan E. Van Der Werf

    IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F9/7084 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7026

    摘要： A method and apparatus for repetitively imaging a mask pattern (C) on a substrate (W) are described. The focusing of the projection lens system used for imaging and various other parameters of the apparatus and the projection lens system (PL), as well as illumination doses can be measured accurately and reliably, and measuring devices of the apparatus can be calibrated, by measuring an image of a new asymmetrical test mark formed in the photoresist on the substrate (W) by means of a projection beam (PB).

    摘要翻译： 对用于对基板（W）上的掩模图案（C）进行重复成像的方法和装置进行说明。 用于成像的投影透镜系统和设备和投影透镜系统（PL）的各种其他参数以及照明剂量的聚焦可以被准确可靠地测量，并且可以通过测量来校准装置的测量装置 通过投影光束（PB）形成在基板（W）上的光致抗蚀剂中的新的不对称测试标记的图像。

    Double patterning for lithography to increase feature spatial density
    9.
    发明授权
    Double patterning for lithography to increase feature spatial density 有权
    用于光刻的双重图案化以增加特征空间密度

    公开(公告)号：US08148052B2

    公开(公告)日：2012-04-03

    申请号：US12514777

    申请日：2007-11-13

    申请人： Anja Monique Vanleenhove ,  Peter Dirksen ,  David Van Steenwinckel ,  Gerben Doornbos ,  Casper Juffermans ,  Mark Van Dal

    发明人： Anja Monique Vanleenhove ,  Peter Dirksen ,  David Van Steenwinckel ,  Gerben Doornbos ,  Casper Juffermans ,  Mark Van Dal

    IPC分类号： G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/823821 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/6681 ,  H01L29/785

    摘要： A method of forming a pattern in at least one device layer in or on a substrate comprises: coating the device layer with a first photoresist layer; exposing the first photoresist using a first mask; developing the first photoresist layer to form a first pattern on the substrate; coating the substrate with a protection layer; treating the protection layer to cause a change therein where it is in contact with the first photoresist, to render the changed protection layer substantially immune to a subsequent exposure and/or developing step; coating the substrate with a second photoresist layer; exposing the second photoresist layer using a second mask; and developing the second photoresist layer to form a second pattern on the substrate without significantly affecting the first pattern in the first photoresist layer, wherein the first and second patterns together define interspersed features having a spatial frequency greater than that of the features defined in each of the first and second patterns separately. The process has particular utility in defining source, drain and fin features of finFET devices with a smaller feature size than otherwise achievable with the prevailing lithography tools.

    摘要翻译： 在衬底中或衬底上的至少一个器件层中形成图案的方法包括：用第一光致抗蚀剂层涂覆器件层; 使用第一掩模曝光第一光致抗蚀剂; 显影第一光致抗蚀剂层以在基底上形成第一图案; 用保护层涂覆基板; 处理保护层以在其中与第一光致抗蚀剂接触的地方发生变化，使得改变的保护层基本上不受随后的曝光和/或显影步骤的影响; 用第二光致抗蚀剂层涂覆基板; 使用第二掩模曝光所述第二光致抗蚀剂层; 并且显影所述第二光致抗蚀剂层以在所述基板上形成第二图案，而不会显着影响所述第一光致抗蚀剂层中的所述第一图案，其中所述第一和第二图案一起限定散布特征，其空间频率大于 第一和第二模式分开。 该方法在定义具有较小的特征尺寸的finFET器件的源极，漏极和鳍片特征方面具有特别的用途，而与主要的光刻工具不同。

    MASK INSPECTION APPARATUS AND METHOD
    10.
    发明申请
    MASK INSPECTION APPARATUS AND METHOD 审中-公开
    屏蔽检查装置和方法

    公开(公告)号：US20120039522A1

    公开(公告)日：2012-02-16

    申请号：US10597615

    申请日：2005-02-02

    申请人： Peter Dirksen ,  Thomas Steffen

    发明人： Peter Dirksen ,  Thomas Steffen

    IPC分类号： G06K9/00

    CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/44

    摘要： Apparatus for optical inspection of an object, comprising: an optical imaging system (5) for generating an actual image of the real object, a calculation unit (12) for calculating an estimated image of an object of desired shape in respect of a known aberration coefficient of the optical imaging system, an image analysis unit (13) for detecting differences between the actual image and the image calculated by the calculation unit (12).

    摘要翻译： 一种用于物体光学检测的装置，包括：用于产生实际物体的实际图像的光学成像系统（5），用于计算已知像差的所需形状的物体的估计图像的计算单元（12） 光学成像系统的系数，用于检测由计算单元（12）计算出的实际图像和图像之间的差异的图像分析单元（13）。