公开(公告)号：US20070145297A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11444535

申请日：2006-06-01

申请人： Johannes Maria Freriks ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Johannes Maria Freriks ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70925

摘要： A cleaning arrangement for a lithographic apparatus module may be provided in a collector. The cleaning arrangement includes a hydrogen radical source configured to provide a hydrogen radical containing gas to at least part of the module and a pump configured to pump gas through the module such that a flow speed of the hydrogen radical containing gas provided through at least part of the module is at least 1 m/s. The cleaning arrangement may also include a gas shutter configured to modulate a flow of the hydrogen radical containing gas to at least part of the module, a buffer volume of at least 1 m3 in communication with the module, and a pump configured to provide a gas pressure in the buffer volume between 0.001 mbar (0.1 Pa) and 1 mbar (100 Pa). The cleaning arrangement may further include a gas return system.

摘要翻译： 用于光刻设备模块的清洁装置可以设置在收集器中。 清洁装置包括被配置为向至少部分模块提供含氢自由基气体的氢根源，以及构造成将气体泵送通过模块的泵，使得通过至少部分的至少一部分提供含氢自由基气体的流速 该模块至少为1米/秒。 清洁装置还可以包括配置成将含氢自由基气体的流动调制到模块的至少一部分的气闸，与模块连通的至少1m 3的缓冲体积， 以及配置成在0.001mbar（0.1Pa）和1mbar（100Pa）之间的缓冲体积中提供气体压力的泵。 清洁装置还可以包括气体返回系统。

公开(公告)号：US07196343B2

公开(公告)日：2007-03-27

申请号：US11025851

申请日：2004-12-30

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Levinus Pieter Bakker ,  Derk Jan Wilfred Klunder

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Levinus Pieter Bakker ,  Derk Jan Wilfred Klunder

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B27/14

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B1/113 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067

摘要： An optical element including an anti-reflection (AR) coating is configured to reflect Extreme-Ultra-Violet (EUV) radiation only.

摘要翻译： 包括抗反射（AR）涂层的光学元件被配置为仅反射极紫外（EUV）辐射。

公开(公告)号：US09869465B2

公开(公告)日：2018-01-16

申请号：US13497289

申请日：2010-09-17

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Oscar Hendrikus Willemsen ,  Marcellinus Petrus Carolus Michael Krijn

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Oscar Hendrikus Willemsen ,  Marcellinus Petrus Carolus Michael Krijn

IPC分类号： F21S8/00 ,  F21V33/00 ,  E04F15/02 ,  E04B5/46 ,  E04F15/10 ,  F21V23/04

CPC分类号： F21V33/006 ,  E04B5/46 ,  E04F15/02 ,  E04F15/10 ,  E04F2290/026 ,  F21V23/0442 ,  F21V23/0471 ,  F21V23/0485

摘要： A floor covering system (10) with (a) a PVC-based floor covering (100) and (b) a lighting system (200) arranged to generate light (210). The PVC-based floor covering (100) has a user side (101) and an opposite back side (102). The lighting system (200) is arranged at the back side (102) of the PVC-based floor covering (100). The PVC-based floor covering (100) has a light transmission for light (210) generated by the lighting system (200) in the range of 0.5% to 30%, especially in the range of 1% to 20%.

公开(公告)号：US09195144B2

公开(公告)日：2015-11-24

申请号：US13059057

申请日：2009-07-09

申请人： Martin Jacobus Johan Jak ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Wouter Anthon Soer ,  Andrei Mikhailovich Yakunin

发明人： Martin Jacobus Johan Jak ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Wouter Anthon Soer ,  Andrei Mikhailovich Yakunin

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03F7/20 ,  G21K1/10

CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/10

摘要： A spectral purity filter is configured to allow transmission therethrough of extreme ultraviolet (EUV) radiation and to refract or reflect non-EUV secondary radiation. The spectral purity filter may be part of a source module and/or a lithographic apparatus.

摘要翻译： 光谱纯度滤光器被配置为允许透射通过其中的极紫外（EUV）辐射并折射或反射非EUV次级辐射。 光谱纯度滤光片可以是源模块和/或光刻设备的一部分。

公开(公告)号：US20140292103A1

公开(公告)日：2014-10-02

申请号：US14237902

申请日：2012-08-13

申请人： Eberhard Waffenschmidt ,  Theodorus Johannes Petrus Van Den Biggelaar ,  Adrianus Sempel ,  Oscar Hendrikus Willemsen ,  Dave Willem Van Goor ,  Henricus Theodorus Van Der Zanden ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Eberhard Waffenschmidt ,  Theodorus Johannes Petrus Van Den Biggelaar ,  Adrianus Sempel ,  Oscar Hendrikus Willemsen ,  Dave Willem Van Goor ,  Henricus Theodorus Van Der Zanden ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： H04B5/00

CPC分类号： H04B5/0012 ,  G09G5/00 ,  H02J7/0042 ,  H02J7/025 ,  H02J50/05 ,  H02J50/12 ,  H04B5/0037

摘要： An article of manufacture for supplying a power to a load connected in a capacitive power transfer system comprises a sheet (210) of a non-conductive material; and a plurality of conductive stripes (220), each two adjacent conductive stripes being electrically insulated from each other, wherein the sheet forms an insulating layer of the capacitive power transfer system and the plurality of conductive stripes form at least a pair of transmitter electrodes of the capacitive power transfer system.

摘要翻译： 向连接在电容性电力传输系统中的负载供电的制品包括非导电材料的片材（210） 和多个导电条（220），每个两个相邻的导电条彼此电绝缘，其中所述片形成所述电容性功率传输系统的绝缘层，并且所述多个导电条形成至少一对发射极 电容式电力传输系统。

公开(公告)号：US08502166B2

公开(公告)日：2013-08-06

申请号：US12864910

申请日：2009-01-26

申请人： Marius Iosif Boamfa ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Derk Jan Wilfred Klunder

发明人： Marius Iosif Boamfa ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Derk Jan Wilfred Klunder

IPC分类号： G01N21/64

CPC分类号： G01N21/648

摘要： An illumination detection system includes an excitation radiation source and associated radiation processing arrangement for focusing the excitation radiation from the radiation processing arrangement onto an analysis region of a sample. A radiation collection arrangement collects radiation from the analysis region of the sample resulting from the excitation, and a detector detects the collected radiation. The focused excitation radiation includes an excitation line which is evanescent in the sample. This combines the advantages of line scanning (reduced analysis time) and evanescent excitation (reduced background signal) and therewith enables increase measurement speed and precision for point of care application.

摘要翻译： 照明检测系统包括激发辐射源和相关联的辐射处理装置，用于将来自辐射处理装置的激发辐射聚焦到样品的分析区域上。 辐射收集装置从由激发产生的样品的分析区域收集辐射，并且检测器检测收集的辐射。 聚焦的激发辐射包括在样品中消逝的激发线。 这结合了线扫描的优点（减少的分析时间）和渐逝激励（降低的背景信号），并且因此可以提高护理点应用的测量速度和精度。

公开(公告)号：US20130120975A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：US13805074

申请日：2011-06-16

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： F21S8/00 ,  F21S8/04 ,  E04B1/00

CPC分类号： F21S8/00 ,  E04B1/00 ,  E04F2290/026 ,  F21S8/04 ,  F21V33/006 ,  F21Y2115/10 ,  G09F9/33 ,  G09F19/22 ,  G09F19/228 ,  G09F2019/225 ,  Y10T29/49826

摘要： The invention provides a stack arrangement (100) comprising a support (30) and a support cover (20). The support cover (20) may be wall paper, and carpet, PVC flooring, linoleum flooring and plaster. At a position (1) between the support (30) and the support cover (20) a lighting unit (10) is configured to provide light (15) through the support cover (20). The support cover (20) and the support (30) are adhesively bonded to each other. The lighting unit (10) is releasably bonded to at least one of the support (30) and the support cover (20) via a release liner unit (40). The release liner unit (40) comprises a release liner (141) for releasable binding.

摘要翻译： 本发明提供一种包括支撑件（30）和支撑盖（20）的堆叠装置（100）。 支撑罩（20）可以是墙纸，地毯，PVC地板，油毡地板和石膏。 在支撑件（30）和支撑盖（20）之间的位置（1）处，照明单元（10）构造成通过支撑盖（20）提供光（15）。 支撑盖（20）和支撑件（30）彼此粘合。 照明单元（10）通过释放衬垫单元（40）可释放地结合到支撑件（30）和支撑盖（20）中的至少一个上。 释放衬垫单元（40）包括用于可释放结合的释放衬垫（141）。

公开(公告)号：US08390788B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12500198

申请日：2009-07-09

申请人： Wouter Anthon Soer ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Andrey Mikhailovich Yakunin ,  Martin Jacobus Johan Jak

发明人： Wouter Anthon Soer ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Andrey Mikhailovich Yakunin ,  Martin Jacobus Johan Jak

IPC分类号： G03B27/72 ,  G02B27/44

CPC分类号： G03F7/702 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/10

摘要： According to an aspect of the present invention, a spectral purity filter includes an aperture, the aperture being arranged to diffract a first wavelength of radiation and to allow at least a portion of a second wavelength of radiation to be transmitted through the aperture, the second wavelength of radiation being shorter than the first wavelength of radiation, wherein the aperture has a diameter greater than 20 μm.

公开(公告)号：US08388184B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12743848

申请日：2008-11-17

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： F21S4/00 ,  F21S8/00 ,  F21V21/00 ,  H01R33/00 ,  H02G3/18

CPC分类号： F21S8/032 ,  A47G27/0243 ,  A47G2200/08 ,  B32B37/14 ,  B60N3/042 ,  B60N3/048 ,  D05C17/02 ,  F21V33/006

摘要： The invention provides a light emitting tufted carpet (1). The carpet (1) comprises a primary backing layer (100), an optional secondary backing layer (200), an optional adhesive layer (300), a plurality of carpet integrated LEDs (40) arranged to generate carpet light (41), and a first electric conductor (10) and a second electric conductor (20). The first electric conductor (10) and the second electric conductor (20) are arranged to provide power from a power source (50) to the LEDs (40). The primary backing layer (100) comprises a first felt layer (30′), or the optional secondary backing layer (200) comprises second felt layer (30″), or both the primary backing layer (100) and the optional secondary backing layer (200) comprise felt layers (30′,30″). One or more of the first electric conductor (10) and the second electric conductor (20) are at least partially integrated in one or more of the first felt layer (30′) and the second felt layer (30″).

摘要翻译： 本发明提供一种发光簇绒地毯（1）。 地毯（1）包括主背衬层（100），任选的辅助背衬层（200），可选的粘合层（300），布置成产生地毯光（41）的多个地毯集成LED（40），以及 第一电导体（10）和第二导电体（20）。 第一电导体（10）和第二导电体（20）被布置成从电源（50）向LED（40）提供电力。 主衬里层（100）包括第一毡层（30'），或者任选的第二衬里层（200）包括第二毡层（30“），或者主衬里层（100）和可选的辅衬层 （200）包括毡层（30'，30“）。 第一电导体（10）和第二电导体（20）中的一个或多个至少部分地集成在第一毡层（30'）和第二毡层（30“）中的一个或多个中。

公开(公告)号：US08242471B2

公开(公告)日：2012-08-14

申请号：US12431423

申请日：2009-04-28

申请人： Wouter Anthon Soer ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Erik Roelof Loopstra ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

发明人： Wouter Anthon Soer ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Tjarko Adriaan Rudolf Van Empel ,  Erik Roelof Loopstra ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/005

摘要： A radiation source includes a radiation emitter configured to emit radiation, a collector configured to collect the radiation, and a contamination trap configured to trap contamination emitted by the radiation source. The contamination trap includes a plurality of foils that extend substantially radially, a first magnet ring configured to lie outside of an outer conical trajectory of radiation that is collected by the collector, and a second magnet ring configured to lie within the trajectory of radiation that is collected by the collector. The magnet rings are configured to provide a magnetic field that includes a component that is parallel to the foils.

摘要翻译： 辐射源包括被配置为发射辐射的辐射发射器，被配置为收集辐射的收集器以及被配置为捕获由辐射源发射的污染的污染阱。 污染物捕集器包括大致径向延伸的多个箔片，构造成位于由收集器收集的辐射的外锥形轨迹之外的第一磁环，以及构造成位于辐射轨迹内的第二磁环， 由收藏者收集。 磁环被配置成提供包括与箔片平行的部件的磁场。