公开(公告)号：US20130071562A1

公开(公告)日：2013-03-21

申请号：US13235210

申请日：2011-09-16

申请人： Andy Szuromi ,  Daniel Ryan ,  Donald G. Godfrey ,  Mark C. Morris

发明人： Andy Szuromi ,  Daniel Ryan ,  Donald G. Godfrey ,  Mark C. Morris

IPC分类号： B05D3/12 ,  B05D3/02

CPC分类号： C23C26/00 ,  B22F3/1055 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  B22F5/04 ,  B22F7/06 ,  B29C64/00 ,  B29C67/0051 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y70/00 ,  B33Y80/00 ,  C23C10/60 ,  F05D2230/31 ,  Y02P10/295

摘要： A method is provided for manufacturing a component. The method includes forming a diffusion coating on a first intermediate article formed by an additive manufacturing process. The diffusion coating is removed from the first intermediate article forming a second intermediate article having at least one enhanced surface. The diffusion coating is formed by applying a layer of coating material on at least one surface of the first intermediate article and diffusion heat treating the first intermediate article and the layer. The diffusion coating comprises a surface additive layer and a diffusion layer below the surface additive layer. The formation of the diffusion coating and removal thereof may be repeated at least once.

摘要翻译： 提供了用于制造部件的方法。 该方法包括在通过添加剂制造工艺形成的第一中间制品上形成扩散涂层。 扩散涂层从形成具有至少一个增强表面的第二中间制品的第一中间制品中除去。 通过在第一中间制品的至少一个表面上涂覆一层涂料并对第一中间制品和该层进行扩散热处理，形成扩散涂层。 扩散涂层包括表面添加层和在表面添加层下面的扩散层。 扩散涂层的形成和其去除可以重复至少一次。

公开(公告)号：US20120328079A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13169902

申请日：2011-06-27

申请人： Surendra Singh ,  Andy Szuromi ,  Vladimir K. Tolpygo ,  Andy Kinney

发明人： Surendra Singh ,  Andy Szuromi ,  Vladimir K. Tolpygo ,  Andy Kinney

IPC分类号： G01N23/207

CPC分类号： G01N23/207

摘要： Embodiments of methods and systems for inspecting a structure for a crystallographic imperfection are provided. In the method, an X-ray wavelength that is particularly susceptible to diffraction by the crystallographic imperfection is identified. Then an X-ray source is provided to emit X-rays in the identified X-ray wavelength. While placing the structure at a sequence of positions relative to the X-ray source, X-rays are directed at the structure in multiple, non-parallel arrays to create sequential patterns of diffracted X-rays. The patterns of diffracted X-rays are digitally captured and communicated to a computer that compares them to locate the crystallographic imperfection. For a surface imperfection, the imperfection may be marked with a target to allow for physical removal.

摘要翻译： 提供了用于检查晶体缺陷的结构的方法和系统的实施例。 在该方法中，识别出通过晶体缺陷特别容易衍射的X射线波长。 然后提供X射线源以在所识别的X射线波长中发射X射线。 当将结构放置在相对于X射线源的位置序列时，X射线被引导到多个非平行阵列中的结构以产生衍射X射线的顺序图案。 衍射X射线的图案被数字捕获并传送到计算机，以比较它们以定位晶体学缺陷。 对于表面缺陷，缺陷可以用目标标记以允许物理去除。

公开(公告)号：US08506836B2

公开(公告)日：2013-08-13

申请号：US13235210

申请日：2011-09-16

申请人： Andy Szuromi ,  Daniel Ryan ,  Donald G. Godfrey ,  Mark C. Morris

发明人： Andy Szuromi ,  Daniel Ryan ,  Donald G. Godfrey ,  Mark C. Morris

IPC分类号： C23F1/00 ,  C03C15/00 ,  C03C25/68 ,  C25F3/00

CPC分类号： C23C26/00 ,  B22F3/1055 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  B22F5/04 ,  B22F7/06 ,  B29C64/00 ,  B29C67/0051 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y70/00 ,  B33Y80/00 ,  C23C10/60 ,  F05D2230/31 ,  Y02P10/295

摘要： A method is provided for manufacturing a component. The method includes forming a diffusion coating on a first intermediate article formed by an additive manufacturing process. The diffusion coating is removed from the first intermediate article forming a second intermediate article having at least one enhanced surface. The diffusion coating is formed by applying a layer of coating material on at least one surface of the first intermediate article and diffusion heat treating the first intermediate article and the layer. The diffusion coating comprises a surface additive layer and a diffusion layer below the surface additive layer. The formation of the diffusion coating and removal thereof may be repeated at least once.

摘要翻译： 提供了用于制造部件的方法。 该方法包括在通过添加剂制造工艺形成的第一中间制品上形成扩散涂层。 扩散涂层从形成具有至少一个增强表面的第二中间制品的第一中间制品中除去。 通过在第一中间制品的至少一个表面上涂覆一层涂料并对第一中间制品和该层进行扩散热处理来形成扩散涂层。 扩散涂层包括表面添加层和在表面添加层下面的扩散层。 扩散涂层的形成和其去除可以重复至少一次。

公开(公告)号：US08605858B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13169902

申请日：2011-06-27

申请人： Surendra Singh ,  Andy Szuromi ,  Vladimir K. Tolpygo ,  Andy Kinney

发明人： Surendra Singh ,  Andy Szuromi ,  Vladimir K. Tolpygo ,  Andy Kinney

IPC分类号： G01N23/207

CPC分类号： G01N23/207

摘要： Embodiments of methods and systems for inspecting a structure for a crystallographic imperfection are provided. In the method, an X-ray wavelength that is particularly susceptible to diffraction by the crystallographic imperfection is identified. Then an X-ray source is provided to emit X-rays in the identified X-ray wavelength. While placing the structure at a sequence of positions relative to the X-ray source, X-rays are directed at the structure in multiple, non-parallel arrays to create sequential patterns of diffracted X-rays. The patterns of diffracted X-rays are digitally captured and communicated to a computer that compares them to locate the crystallographic imperfection. For a surface imperfection, the imperfection may be marked with a target to allow for physical removal.

摘要翻译： 提供了用于检查晶体缺陷的结构的方法和系统的实施例。 在该方法中，识别出通过晶体缺陷特别容易衍射的X射线波长。 然后提供X射线源以在所识别的X射线波长中发射X射线。 当将结构放置在相对于X射线源的位置序列时，X射线被引导到多个非平行阵列中的结构以产生衍射X射线的顺序图案。 衍射X射线的图案被数字捕获并传送到计算机，以比较它们以定位晶体学缺陷。 对于表面缺陷，缺陷可以用目标标记以允许物理去除。