公开(公告)号：US07452574B2

公开(公告)日：2008-11-18

申请号：US10375817

申请日：2003-02-27

申请人： Van N. Truskett ,  Christopher J. Mackay ,  B. Jin Choi

发明人： Van N. Truskett ,  Christopher J. Mackay ,  B. Jin Choi

IPC分类号： B05D3/02

CPC分类号： B82Y10/00 ,  B05D5/083 ,  B81C99/008 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/11 ,  G03F7/165

摘要： The present invention provides a method to reduce adhesion between a polymerizable layer and a substrate surface that selectively comes into contact with the polymerizable layer. The method features disposing a coating upon the surface from a composition having a perfluoro silane containing molecule. The perfluoro silane molecule is connected to bonding regions on the surface forming covalent bonding groups, as well as contact regions. The contact regions include fluorinated chains of molecules. The covalent bonding groups are positioned between the surface and the contact regions. The perfluoro silane containing molecule may be applied to the surface as a monomolecular layer from a di-functional perfluoro silane molecule. Exemplary molecules that may be employed as the perfluoro silane containing molecule includes molecules sold under the trade-names FLUOROSYL™ FSD 2500 and FLUOROSYL™ FSD 4500.

摘要翻译： 本发明提供一种降低可聚合层与选择性地与可聚合层接触的基材表面之间粘合的方法。 该方法的特征是从具有全氟硅烷分子的组合物在表面上设置涂层。 全氟硅烷分子与形成共价键合基团的表面上的结合区以及接触区连接。 接触区域包括分子的氟化链。 共价键合基团位于表面和接触区域之间。 含全氟硅烷的分子可以作为单官能全氟硅烷分子的单分子层施加到表面。 可用作全氟硅烷分子的示例性分子包括以商品名FLUOROSYL TM FSD 2500和FLUOROSYL TM FSD 4500出售的分子。

公开(公告)号：US07939131B2

公开(公告)日：2011-05-10

申请号：US10919224

申请日：2004-08-16

申请人： Frank Y. Xu ,  Christopher J. Mackay ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Van N. Truskett ,  Wesley D. Martin ,  Edward B. Fletcher ,  David C. Wang ,  Nicholas A. Stacey ,  Michael P. C. Watts

发明人： Frank Y. Xu ,  Christopher J. Mackay ,  Pankaj B. Lad ,  Ian M. McMackin ,  Van N. Truskett ,  Wesley D. Martin ,  Edward B. Fletcher ,  David C. Wang ,  Nicholas A. Stacey ,  Michael P. C. Watts

IPC分类号： B05D3/12

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  Y10T428/1386

摘要： The present invention includes a method and a composition to form a layer on a substrate having uniform etch characteristics. To that end, the method includes controlling variations in the characteristics of a solid layer, such etch characteristics over the area of the solid layer as a function of the relative rates of evaporation of the liquid components that comprise the composition from which the solid layer is formed.

摘要翻译： 本发明包括在具有均匀蚀刻特性的基底上形成层的方法和组合物。 为此，该方法包括控制固体层的特性的变化，这种固体层面积上的这种蚀刻特性是构成组合物的液体组分的相对蒸发速率的函数的函数，其中固体层是固体层 形成。