公开(公告)号：US20050029492A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10635046

申请日：2003-08-05

申请人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

发明人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

IPC分类号： C11D1/72 ,  C11D3/16 ,  C11D3/20 ,  C09K13/06

CPC分类号： C11D3/2031 ,  C11D1/72 ,  C11D3/164 ,  C11D3/2027

摘要： A dense cleaning fluid for removing contaminants from an substrate and a method comprising same is disclosed herein. In one embodiment of the present invention, the dense cleaning fluid comprises a dense fluid and at least one acetylenic diol or acetylenic alcohol surfactant.

摘要翻译： 本文公开了用于从基底去除污染物的致密清洁流体和包含其的方法。 在本发明的一个实施方案中，致密清洁流体包含致密流体和至少一种炔属二醇或炔属醇表面活性剂。

公开(公告)号：US20050029490A1

公开(公告)日：2005-02-10

申请号：US10737203

申请日：2003-12-16

申请人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

发明人： Hoshang Subawalla ,  Gene Parris ,  Christopher Mammarella ,  Bridget O'Brien ,  Keith Fabregas ,  Madhukar Rao ,  Christine Kretz

IPC分类号： C11D1/72 ,  C11D3/16 ,  C11D3/20 ,  C09K5/00

CPC分类号： C11D3/2031 ,  C11D1/72 ,  C11D3/164 ,  C11D3/2027

摘要： A dense cleaning fluid for removing contaminants from a substrate and a method comprising same is disclosed herein. In one embodiment of the present invention, the dense cleaning fluid comprises a dense fluid and at least one acetylenic diol or acetylenic alcohol surfactant.

摘要翻译： 用于从基底去除污染物的致密清洁流体及其包含方法在此公开。 在本发明的一个实施方案中，致密清洁流体包含致密流体和至少一种炔属二醇或炔属醇表面活性剂。