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    Selected poly(oxyalkylated) 1,3,4-thiadiazoles and their use as corrosion inhibitors
    3.
    发明授权
    Selected poly(oxyalkylated) 1,3,4-thiadiazoles and their use as corrosion inhibitors 失效
    选择的聚（烷氧基化）1,3,4-噻二唑及其用作腐蚀抑制剂

    公开(公告)号：US4306988A

    公开(公告)日：1981-12-22

    申请号：US205557

    申请日：1980-11-10

    申请人： Eugene F. Rothgery

    发明人： Eugene F. Rothgery

    IPC分类号： C07D285/12 ,  C07D285/125 ,  C23G1/06

    CPC分类号： C07D285/125 ,  C23F11/165 ,  C23G1/065

    摘要： Disclosed are selected poly(oxyalkylated) 1,3,4-thiadiazoles of the formula: ##STR1## wherein each R is individually selected from hydrogen and methyl; and the sum of y and z is from 2 to about 30. These compounds are shown to be effective corrosion inhibitors in corrosive liquids such as acid metal-treating baths.

    摘要翻译： 公开了下式的选择的聚（烷氧基化）1,3,4-噻二唑：其中每个R独立地选自氢和甲基; 并且y和z的总和为2至约30.这些化合物显示为腐蚀性液体如酸性金属处理液中的有效的腐蚀抑制剂。

    Cleaning composition and method for removing residues
    6.
    发明授权
    Cleaning composition and method for removing residues 有权
    清除组合物和除去残留物的方法

    公开(公告)号：US06191086B1

    公开(公告)日：2001-02-20

    申请号：US09464485

    申请日：1999-12-15

    申请人： Vincent G. Leon ,  Kenji Honda ,  Eugene F. Rothgery

    发明人： Vincent G. Leon ,  Kenji Honda ,  Eugene F. Rothgery

    IPC分类号： C11D162

    CPC分类号： C11D3/046 ,  C11D1/62 ,  C11D3/042 ,  C11D3/245 ,  C11D3/30 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425

    摘要： Non-corrosive cleaning compositions that are aqueous based and useful for removing photoresist, plasma etch and CMP residues from a substrate. One preferred cleaning composition comprises: (i) a hydroxylamine or a hydroxylamine salt compound; (ii) at least one fluorine-containing compound; and (iii) water. Another cleaning composition comprises: (i) a compound selected from the group consisting of: an amine, a quatenary ammonium hydroxide, and ammonium hydroxide; (ii) at least one fluorine-containing compound; and (iii) water.

    摘要翻译： 基于水性的非腐蚀性清洁组合物，可用于从基底去除光致抗蚀剂，等离子体蚀刻和CMP残留物。 一种优选的清洁组合物包括：（i）羟胺或羟胺盐化合物; （ii）至少一种含氟化合物; 和（iii）水。 另一种清洗组合物包括：（i）选自胺，季铵氢氧化物和氢氧化铵的化合物; （ii）至少一种含氟化合物; 和（iii）水。

    Stabilizers for hydroxylammonium nitrate, hydroxylammonium nitrate derivatives, hydroxylamine and compositions containing the same
    7.
    发明授权
    Stabilizers for hydroxylammonium nitrate, hydroxylammonium nitrate derivatives, hydroxylamine and compositions containing the same 失效
    羟基硝酸铵，硝酸羟铵衍生物，羟胺和含有它们的组合物的稳定剂

    公开(公告)号：US06179937B2

    公开(公告)日：2001-01-30

    申请号：US09168330

    申请日：1998-10-01

    申请人： Chares S. Leveritt ,  Steven W. Bunte ,  Eugene F. Rothgery ,  Carl G. Seefried ,  Nathan Klein

    发明人： Chares S. Leveritt ,  Steven W. Bunte ,  Eugene F. Rothgery ,  Carl G. Seefried ,  Nathan Klein

    IPC分类号： C06B3100

    CPC分类号： C06B31/00 ,  C01B21/149 ,  C06B23/006 ,  C06B47/00 ,  C07F15/025

    摘要： The stability of HAN, HAN derivatives or hydroxylamine, and compositions comprising these is considerably enhanced by employing a stabilizing effective amount of a stabilizer selected from (a) a pyridine or pyridone salt, or an acid thereof; (b) a diphosphonate or methylenephosphonate salt, or an acid thereof; or (c) a mixture of two or more stabilizers, wherein at least one is selected from (a) and at least one is selected from (b). Stabilized HAN, HAN derivatives, or hydroxylamine or compositions comprising HAN, an HAN derivative or hydroxylamine, along with a process for providing these stabilized compositions is described. A stabilizer mixture having enhanced, synergistic stabilizing properties is described as well.

    摘要翻译： 通过使用稳定有效量的选自（a）吡啶或吡啶酮盐或其酸的稳定剂，HAN，HAN衍生物或羟胺的稳定性和包含它们的组合物显着增强; （b）二膦酸盐或亚甲基膦酸盐或其酸; 或（c）两种或更多种稳定剂的混合物，其中至少一种选自（a），至少一种选自（b）。 描述了稳定的HAN，HAN衍生物或羟胺或包含HAN，HAN衍生物或羟胺的组合物以及用于提供这些稳定化组合物的方法。 还描述了具有增强的协同稳定性质的稳定剂混合物。

    Method of producing alkyl substituted 5-amidotetrazoles
    10.
    发明授权
    Method of producing alkyl substituted 5-amidotetrazoles 失效
    制备烷基取代的5-氨基四唑的方法

    公开(公告)号：US4921965A

    公开(公告)日：1990-05-01

    申请号：US415940

    申请日：1989-10-02

    申请人： Eugene F. Rothgery ,  Steven A. Manke

    发明人： Eugene F. Rothgery ,  Steven A. Manke

    IPC分类号： C07D257/06

    CPC分类号： C07D257/06

    摘要： In a process for the production of Alkyl substituted 5-amidotetrazole compounds represented by the formula: ##STR1## wherein A represents NHX or NRR'X represents a lower alkyl groupR represents a lower alkyl group, andR' represents a lower alkyl group.reacts 5-aminotetrazole with an alkyl isocyanate or a dialkyl carbamoyl halide in a polar solvent.

    摘要翻译： 在制备由下式表示的烷基取代的5-氨基四唑化合物的方法中：其中A表示NHX或NRR'X表示低级烷基，R表示低级烷基，R'表示低级 烷基。 在极性溶剂中使5-氨基四唑与烷基异氰酸酯或二烷基氨基甲酰卤反应。