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    INFRARED RADIATION REFLECTING LAYER SYSTEM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
    2.
    发明申请
    INFRARED RADIATION REFLECTING LAYER SYSTEM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF 审中-公开
    红外辐射反射层系统及其生产方法

    公开(公告)号：US20090195865A1

    公开(公告)日：2009-08-06

    申请号：US12280151

    申请日：2007-02-15

    申请人： Gerd Kleideiter ,  Michael Geisler ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

    发明人： Gerd Kleideiter ,  Michael Geisler ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

    IPC分类号： G02B5/26 ,  G02B1/10 ,  C23C14/10 ,  C23C14/14

    CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681

    摘要： The invention relates to an infrared radiation reflecting layer system for panes of glass and similar, the properties of said layer system being maintained even after heat treatment, for example, for bending or hardening the panes of glass. Silver is used as the infrared radiation reflecting layer. A combination of NiCrOx and Zn(Al)Ox is used as a lower-layer blocker for the silver. Also, a stoichiometric layer is also used as a pre-blocker layer. A specific work point is selected for a first dielectric layer of TiOxNy. Harmonisation of the thickness of the layers and the degrees of oxidation of NiCrOx and ZnAlOx as double lower-layer blockers and the work point of the TiOxNy-base layer are important for the temperability of the coating.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于玻璃等的红外线辐射反射层系统，即使在热处理之后，例如用于弯曲或硬化玻璃板也保持所述层系的性质。 银被用作红外线辐射反射层。 使用NiCrOx和Zn（Al）Ox的组合作为银的下层阻滞剂。 此外，化学计量层也用作预阻挡层。 选择TiOxNy的第一介电层的具体工作点。 NiCrOx和ZnAlOx作为双层下层阻滞剂的层厚度和氧化度的协调和TiOxNy基层的工作点对于涂层的回火性是重要的。

    Temperable glass coating
    3.
    发明授权
    Temperable glass coating 有权
    耐温玻璃涂层

    公开(公告)号：US08133589B2

    公开(公告)日：2012-03-13

    申请号：US11769934

    申请日：2007-06-28

    申请人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

    发明人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

    IPC分类号： B32B9/00

    CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C2218/154

    摘要： The invention relates to a silver low-E coating for glass which is temperable and can be applied by means of sputter processes onto the glass. The individual layers of the coating are cost-effective standard materials. One embodiment of the invention for example is comprised of a glass substrate, an Si3N4 layer disposed thereon of a thickness of approximately 15 nm, a TiO2 layer of 15 nm thickness on the Si3N4 layer, a 12.5 nm thick Ag layer on the TiO2 layer, a NiCrOx layer of approximately 5 nm thickness on the Ag layer and a terminating 45 nm thick Si3N4 layer.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于玻璃的银低-E涂层，其是可回火的并且可以通过溅射工艺施加到玻璃上。 涂层的各个层是具有成本效益的标准材料。 本发明的一个实施例包括玻璃基板，厚度约为15nm的Si 3 N 4层，Si 3 N 4层上的15nm厚的TiO 2层，TiO 2层上的12.5nm厚的Ag层， 在Ag层上具有大约5nm厚度的NiCrOx层和终止的45nm厚的Si 3 N 4层。

    Temperable Glass Coating
    4.
    发明申请
    Temperable Glass Coating 有权
    耐火玻璃涂层

    公开(公告)号：US20080220261A1

    公开(公告)日：2008-09-11

    申请号：US11769934

    申请日：2007-06-28

    申请人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

    发明人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

    IPC分类号： B32B17/06 ,  C23C14/00

    CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C2218/154

    摘要： The invention relates to a silver low-E coating for glass which is temperable and can be applied by means of sputter processes onto the glass. The individual layers of the coating are cost-effective standard materials. One embodiment of the invention for example is comprised of a glass substrate, an Si3N4 layer disposed thereon of a thickness of approximately 15 nm, a TiO2 layer of 15 nm thickness on the Si3N4 layer, a 12.5 nm thick Ag layer on the TiO2 layer, a NiCrOx layer of approximately 5 nm thickness on the Ag layer and a terminating 45 nm thick Si3N4 layer.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于玻璃的银低-E涂层，其是可回火的并且可以通过溅射工艺施加到玻璃上。 涂层的各个层是具有成本效益的标准材料。 本发明的一个实施方案例如包括玻璃基板，其上设置有大约15nm的厚度的Si 3 N 4 N 4层，TiO 2 在Si 3 N 4 N层上具有15nm厚度的层，TiO 2层上的12.5nm厚的Ag层， 在Ag层上具有约5nm厚度的NiCrO x层，以及终止的45nm厚的Si 3 N 4 N 4层。