公开(公告)号：US20090195865A1

公开(公告)日：2009-08-06

申请号：US12280151

申请日：2007-02-15

申请人： Gerd Kleideiter ,  Michael Geisler ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

发明人： Gerd Kleideiter ,  Michael Geisler ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

IPC分类号： G02B5/26 ,  G02B1/10 ,  C23C14/10 ,  C23C14/14

CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/3681

摘要： The invention relates to an infrared radiation reflecting layer system for panes of glass and similar, the properties of said layer system being maintained even after heat treatment, for example, for bending or hardening the panes of glass. Silver is used as the infrared radiation reflecting layer. A combination of NiCrOx and Zn(Al)Ox is used as a lower-layer blocker for the silver. Also, a stoichiometric layer is also used as a pre-blocker layer. A specific work point is selected for a first dielectric layer of TiOxNy. Harmonisation of the thickness of the layers and the degrees of oxidation of NiCrOx and ZnAlOx as double lower-layer blockers and the work point of the TiOxNy-base layer are important for the temperability of the coating.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于玻璃等的红外线辐射反射层系统，即使在热处理之后，例如用于弯曲或硬化玻璃板也保持所述层系的性质。 银被用作红外线辐射反射层。 使用NiCrOx和Zn（Al）Ox的组合作为银的下层阻滞剂。 此外，化学计量层也用作预阻挡层。 选择TiOxNy的第一介电层的具体工作点。 NiCrOx和ZnAlOx作为双层下层阻滞剂的层厚度和氧化度的协调和TiOxNy基层的工作点对于涂层的回火性是重要的。

公开(公告)号：US08133589B2

公开(公告)日：2012-03-13

申请号：US11769934

申请日：2007-06-28

申请人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

发明人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

IPC分类号： B32B9/00

CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C2218/154

摘要： The invention relates to a silver low-E coating for glass which is temperable and can be applied by means of sputter processes onto the glass. The individual layers of the coating are cost-effective standard materials. One embodiment of the invention for example is comprised of a glass substrate, an Si3N4 layer disposed thereon of a thickness of approximately 15 nm, a TiO2 layer of 15 nm thickness on the Si3N4 layer, a 12.5 nm thick Ag layer on the TiO2 layer, a NiCrOx layer of approximately 5 nm thickness on the Ag layer and a terminating 45 nm thick Si3N4 layer.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于玻璃的银低-E涂层，其是可回火的并且可以通过溅射工艺施加到玻璃上。 涂层的各个层是具有成本效益的标准材料。 本发明的一个实施例包括玻璃基板，厚度约为15nm的Si 3 N 4层，Si 3 N 4层上的15nm厚的TiO 2层，TiO 2层上的12.5nm厚的Ag层， 在Ag层上具有大约5nm厚度的NiCrOx层和终止的45nm厚的Si 3 N 4层。

公开(公告)号：US20080220261A1

公开(公告)日：2008-09-11

申请号：US11769934

申请日：2007-06-28

申请人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

发明人： Matthias List ,  Gerd Kleideiter ,  Udo Schreiber ,  Sven Schramm

IPC分类号： B32B17/06 ,  C23C14/00

CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C2218/154

摘要： The invention relates to a silver low-E coating for glass which is temperable and can be applied by means of sputter processes onto the glass. The individual layers of the coating are cost-effective standard materials. One embodiment of the invention for example is comprised of a glass substrate, an Si3N4 layer disposed thereon of a thickness of approximately 15 nm, a TiO2 layer of 15 nm thickness on the Si3N4 layer, a 12.5 nm thick Ag layer on the TiO2 layer, a NiCrOx layer of approximately 5 nm thickness on the Ag layer and a terminating 45 nm thick Si3N4 layer.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于玻璃的银低-E涂层，其是可回火的并且可以通过溅射工艺施加到玻璃上。 涂层的各个层是具有成本效益的标准材料。 本发明的一个实施方案例如包括玻璃基板，其上设置有大约15nm的厚度的Si 3 N 4 N 4层，TiO 2 在Si 3 N 4 N层上具有15nm厚度的层，TiO 2层上的12.5nm厚的Ag层， 在Ag层上具有约5nm厚度的NiCrO x层，以及终止的45nm厚的Si 3 N 4 N 4层。

公开(公告)号：US20120049128A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13123874

申请日：2009-10-05

申请人： Oliver Graw ,  Udo Schreiber

发明人： Oliver Graw ,  Udo Schreiber

IPC分类号： H01B1/02 ,  C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  H01B1/06

CPC分类号： C09D1/00 ,  C08K3/22 ,  C09D5/24 ,  C09D7/61 ,  C23C14/08 ,  C23C14/086

摘要： The present invention concerns a method for the generation of a transparent conductive oxide display coating (TCO display layer), in particular a transparent conductive oxide display coating as a transparent contact for flat panel displays and the like. The TCO display layer is generated by depositing zinc oxide and additionally aluminium, indium, gallium, boron, nitrogen, phosphorous, chlorine, fluorine or antimony or a combination thereof, with the process atmosphere containing hydrogen. These TCO layers can be realized in a particularly simple and cost-effective way compared to ITO. The properties of the inventive TCO layers are nearly as good as those for ITO, regarding high transmittance and low resistance.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于生产透明导电氧化物显示涂层（TCO显示层）的方法，特别是用作平板显示器等的透明触点的透明导电氧化物显示涂层。 TCO显示层通过将氧化锌和另外的铝，铟，镓，硼，氮，磷，氯，氟或锑或其组合与含有氢的工艺气氛沉积而产生。 与ITO相比，这些TCO层可以以特别简单和成本有效的方式实现。 关于高透射率和低电阻，本发明的TCO层的性质几乎与ITO的性质一样好。

公开(公告)号：US07977255B1

公开(公告)日：2011-07-12

申请号：US12884043

申请日：2010-09-16

申请人： Evelyn Scheer ,  Oliver Graw ,  Roland Weber ,  Udo Schreiber

发明人： Evelyn Scheer ,  Oliver Graw ,  Roland Weber ,  Udo Schreiber

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L21/469 ,  C23C14/00

CPC分类号： H01L29/4908 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02266 ,  H01L21/28008 ,  H01L29/66765

摘要： A method for forming a thin-film transistor gate insulating layer over a substrate disposed in a processing chamber is provided. The method includes: introducing a processing gas for producing a plasma in the processing chamber; heating the substrate to a substrate processing temperature of between 50 and 350° C.; and depositing silicon oxide, silicon oxynitride, or silicon nitride over the heated substrate by sputtering a target assembly at a medium frequency.

摘要翻译： 提供了一种在设置在处理室中的衬底上形成薄膜晶体管栅极绝缘层的方法。 该方法包括：在处理室中引入用于产生等离子体的处理气体; 将基板加热到基板处理温度在50和350℃之间; 以及通过以中频溅射靶组件，在加热的衬底上沉积氧化硅，氮氧化硅或氮化硅。

公开(公告)号：US20100095866A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：US12255019

申请日：2008-10-21

申请人： Udo Schreiber ,  Oliver Graw

发明人： Udo Schreiber ,  Oliver Graw

IPC分类号： C09D1/00 ,  C23C14/34

CPC分类号： C23C14/086 ,  C08K3/08 ,  C08K3/16 ,  C09D1/00 ,  C09D5/24 ,  C09D7/61

摘要： The present invention concerns a method for the generation of a transparent conductive oxide coating (TCO layer), in particular a transparent conductive oxide coating as a transparent contact for solar cells, flat panel displays and the like. The TCO layer is generated by depositing zinc oxide and additionally aluminium, indium, gallium, boron, nitrogen, phosphorous, chlorine, fluorine or antimony or a combination thereof, with the process atmosphere containing hydrogen. These TCO layers can be realized in a particularly simple and cost-effective way compared to ITO. The properties of the inventive TCO layers are nearly as good as those for ITO, regarding high transmittance and low resistance.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于产生透明导电氧化物涂层（TCO层）的方法，特别是作为太阳能电池，平板显示器等的透明接触件的透明导电氧化物涂层。 TCO层通过将氧化锌和另外的铝，铟，镓，硼，氮，磷，氯，氟或锑或其组合沉积在含有氢气的工艺气氛中而产生。 与ITO相比，这些TCO层可以以特别简单且成本有效的方式实现。 关于高透射率和低电阻，本发明的TCO层的性质几乎与ITO的性质一样好。