CATALYST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR OXYCHLORINATION
    1.
    发明申请
    CATALYST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR OXYCHLORINATION 有权
    催化组合物和氧化方法

    公开(公告)号:US20070112235A1

    公开(公告)日:2007-05-17

    申请号:US11558449

    申请日:2006-11-10

    IPC分类号: C07C17/152

    摘要: Oxychlorination catalyst compositions which include a catalytically effective amount of an oxychlorination catalyst and a diluent having certain chemical composition and/or physical properties are disclosed. Processes using such oxychlorination catalyst compositions are also described. Some oxychlorination catalyst compositions and processes disclosed herein can increase the optimal operating temperature, and thereby increase the production capacity of an existing reactor, such as a fluid-bed reactor, compared to other oxychlorination catalyst compositions.

    摘要翻译: 公开了包含催化有效量的氧氯​​化催化剂和具有一定化学组成和/或物理性能的稀释剂的氧氯化催化剂组合物。 还描述了使用这种氧氯化催化剂组合物的方法。 与其他氧氯化催化剂组合物相比,本文公开的一些氧氯化催化剂组合物和方法可以提高最佳操作温度,从而提高现有反应器(例如流化床反应器)的生产能力。

    Chemical vapor deposition of fluorine-doped zinc oxide
    2.
    发明授权
    Chemical vapor deposition of fluorine-doped zinc oxide 有权
    氟掺杂氧化锌的化学气相沉积

    公开(公告)号:US6071561A

    公开(公告)日:2000-06-06

    申请号:US242093

    申请日:1999-06-16

    IPC分类号: C23C16/40

    CPC分类号: C23C16/407

    摘要: Fims of fluorine-doped zinc oxide are deposited from vaporized precursor compounds comprising a chelate of a dialkylzinc, such as an amine chelate, an oxygen source, and a fluorine source. The coatings are highly electrically conductive, transparent to visible light, reflective to infrared radiation, absorbing to ultraviolet light, and free of carbon impurity.

    摘要翻译: PCT No.PCT / US97 / 11552 Sec。 371日期1999年6月16日第 102(e)日期1999年6月16日PCT提交1997年8月13日PCT公布。 公开号WO98 / 08245 日期1998年2月26日氟掺杂氧化锌的方法由包含二烷基锌螯合物如胺螯合物,氧源和氟源的气化前体化合物沉积。 涂层具有高导电性,对可见光透明,反射红外辐射,吸收紫外光,无碳杂质。

    Chemical vapor deposition of aluminum oxide
    3.
    发明授权
    Chemical vapor deposition of aluminum oxide 有权
    化学气相沉积氧化铝

    公开(公告)号:US6037003A

    公开(公告)日:2000-03-14

    申请号:US284526

    申请日:1999-06-11

    IPC分类号: C23C16/40

    CPC分类号: C23C16/403

    摘要: An aluminum oxide film is deposited on a heated substrate by CVD from one or more alkylaluminum alkoxide compounds having composition R.sub.n Al.sub.2 (OR').sub.6-n, wherein R and R' are alkyl groups and n is in the range of 1 to 5.

    摘要翻译: PCT No.PCT / US97 / 18576 Sec。 371日期1999年6月11日第 102(e)日期1999年6月11日PCT 1997年10月15日PCT公布。 第WO98 / 16667号公报 日期1998年4月23日氧化铝膜通过CVD由一种或多种具有组成为RnAl 2(OR')6-n的烷基铝烷氧化物化合物沉积在加热的衬底上,其中R和R'是烷基,n在 1〜5。