公开(公告)号：US08578313B2

公开(公告)日：2013-11-05

申请号：US12109118

申请日：2008-04-24

申请人： Zongwu Tang ,  Daniel Zhang ,  Alex Miloslavsky ,  Subarnarekha Sinha ,  Jingyu Xu ,  Kent Y. Kwang ,  Kevin A. Beaudette

发明人： Zongwu Tang ,  Daniel Zhang ,  Alex Miloslavsky ,  Subarnarekha Sinha ,  Jingyu Xu ,  Kent Y. Kwang ,  Kevin A. Beaudette

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

摘要： One embodiment of the present invention provides a system that generates a pattern-clip-based hotspot database for performing automatic pattern-clip-based layout verification. During operation, the system receives a list of pattern clips which specify manufacturing hotspots to be avoided in a layout, wherein each pattern clip comprises a set of geometries in proximity to each other. Next, for each pattern clip, the system perturbs the pattern clip to determine a first range of variations for the constituent set of geometries wherein the perturbed pattern clip no longer causes a manufacturing hotspot. The system then extracts a set of correction guidance descriptions from the first range of variations for correcting the pattern clip. Subsequently, the system stores the pattern clip and the set of correction guidance descriptions in the pattern-clip-based hotspot database.

摘要翻译： 本发明的一个实施例提供了一种生成用于执行基于模式片段的自动布局验证的基于模式片段的热点数据库的系统。 在操作期间，系统接收指定要在布局中避免的制造热点的图案片段的列表，其中每个图案剪辑包括彼此靠近的一组几何图形。 接下来，对于每个图案剪辑，系统扰乱图案剪辑以确定组件几何形状的第一变化范围，其中扰动的图案剪辑不再导致制造热点。 然后，系统从用于校正图案剪辑的第一变化范围中提取一组校正指导描述。 随后，系统将模式剪辑和一组校正指导描述存储在基于模式片段的热点数据库中。

公开(公告)号：US20090271749A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12109118

申请日：2008-04-24

申请人： Zongwu Tang ,  Daniel Zhang ,  Alex Miloslavsky ,  Subarnarekha Sinha ,  Jingyu Xu ,  Kent Y. Kwang ,  Kevin A. Beaudette

发明人： Zongwu Tang ,  Daniel Zhang ,  Alex Miloslavsky ,  Subarnarekha Sinha ,  Jingyu Xu ,  Kent Y. Kwang ,  Kevin A. Beaudette

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

摘要： One embodiment of the present invention provides a system that generates a pattern-clip-based hotspot database for performing automatic pattern-clip-based layout verification. During operation, the system receives a list of pattern clips which specify manufacturing hotspots to be avoided in a layout, wherein each pattern clip comprises a set of geometries in proximity to each other. Next, for each pattern clip, the system perturbs the pattern clip to determine a first range of variations for the constituent set of geometries wherein the perturbed pattern clip no longer causes a manufacturing hotspot. The system then extracts a set of correction guidance descriptions from the first range of variations for correcting the pattern clip. Subsequently, the system stores the pattern clip and the set of correction guidance descriptions in the pattern-clip-based hotspot database.

摘要翻译： 本发明的一个实施例提供了一种生成用于执行基于模式片段的自动布局验证的基于模式片段的热点数据库的系统。 在操作期间，系统接收指定要在布局中避免的制造热点的图案片段的列表，其中每个图案剪辑包括彼此靠近的一组几何图形。 接下来，对于每个图案剪辑，系统扰乱图案剪辑以确定组件几何形状的第一变化范围，其中扰动的图案剪辑不再导致制造热点。 然后，系统从用于校正图案剪辑的第一变化范围中提取一组校正指导描述。 随后，系统将模式剪辑和一组校正指导描述存储在基于模式片段的热点数据库中。

公开(公告)号：US20090268958A1

公开(公告)日：2009-10-29

申请号：US12275887

申请日：2008-11-21

申请人： Kent Y. Kwang ,  Daniel Zhang ,  Zongwu Tang ,  Subarnarekha Sinha

发明人： Kent Y. Kwang ,  Daniel Zhang ,  Zongwu Tang ,  Subarnarekha Sinha

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

摘要： One embodiment of the present invention provides a system that automatically processes manufacturing hotspot information. During operation, the system receives a pattern clip associated with a manufacturing hotspot in a layout, wherein the pattern clip comprises a set of polygons in proximity to the manufacturing hotspot's location. Next, the system determines if the pattern clip matches a known manufacturing hotspot configuration. If the pattern clip does not match a known manufacturing hotspot configuration, the system then performs a perturbation process on the pattern clip to determine a set of correction recommendations to eliminate the manufacturing hotspot. By performing the perturbation process, the system additionally determines ranges of perturbation to the set of polygons wherein the perturbed pattern clip does not eliminate the manufacturing hotspot. Subsequently, the system stores the set of correction recommendations and the ranges of perturbation into a manufacturing hotspot database.

摘要翻译： 本发明的一个实施例提供一种自动处理制造热点信息的系统。 在操作期间，系统接收与布局中的制造热点相关联的图案剪辑，其中图案剪辑包括靠近制造热点位置的一组多边形。 接下来，系统确定模式剪辑是否匹配已知的制造热点配置。 如果图案剪辑与已知的制造热点配置不匹配，则系统然后对图案剪辑执行扰动处理，以确定一组校正建议以消除制造热点。 通过执行扰动过程，系统另外确定对该组多边形的扰动范围，其中扰动图案片不消除制造热点。 随后，系统将修正建议的集合和扰动范围存储到制造热点数据库中。

公开(公告)号：US08566754B2

公开(公告)日：2013-10-22

申请号：US12275887

申请日：2008-11-21

申请人： Kent Y. Kwang ,  Daniel Zhang ,  Zongwu Tang ,  Subarnarekha Sinha

发明人： Kent Y. Kwang ,  Daniel Zhang ,  Zongwu Tang ,  Subarnarekha Sinha

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

摘要： One embodiment of the present invention provides a system that automatically processes manufacturing hotspot information. During operation, the system receives a pattern clip associated with a manufacturing hotspot in a layout, wherein the pattern clip comprises a set of polygons in proximity to the manufacturing hotspot's location. Next, the system determines if the pattern clip matches a known manufacturing hotspot configuration. If the pattern clip does not match a known manufacturing hotspot configuration, the system then performs a perturbation process on the pattern clip to determine a set of correction recommendations to eliminate the manufacturing hotspot. By performing the perturbation process, the system additionally determines ranges of perturbation to the set of polygons wherein the perturbed pattern clip does not eliminate the manufacturing hotspot. Subsequently, the system stores the set of correction recommendations and the ranges of perturbation into a manufacturing hotspot database.

摘要翻译： 本发明的一个实施例提供一种自动处理制造热点信息的系统。 在操作期间，系统接收与布局中的制造热点相关联的图案剪辑，其中图案剪辑包括靠近制造热点位置的一组多边形。 接下来，系统确定模式剪辑是否匹配已知的制造热点配置。 如果图案剪辑与已知的制造热点配置不匹配，则系统然后对图案剪辑执行扰动处理，以确定一组校正建议以消除制造热点。 通过执行扰动过程，系统另外确定对该组多边形的扰动范围，其中扰动图案片不消除制造热点。 随后，系统将修正建议的集合和扰动范围存储到制造热点数据库中。