公开(公告)号：US06558506B1

公开(公告)日：2003-05-06

申请号：US09889582

申请日：2001-10-24

申请人： Richard J. Freeman ,  Jay R. Wallace ,  Yoichi Kurono ,  Arthur H. Laflamme, Jr. ,  Louise Smith Barriss ,  Tadashi Onishi

发明人： Richard J. Freeman ,  Jay R. Wallace ,  Yoichi Kurono ,  Arthur H. Laflamme, Jr. ,  Louise Smith Barriss ,  Tadashi Onishi

IPC分类号： H01L2100

CPC分类号： H01L21/6719 ,  H01L21/67063 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67196

摘要： The present invention provides an etching system having a plurality of etching chambers (16, 18, 20) disposed about a transfer chamber (14), wherein the etching chambers are adapted to be selectively mounted at different positions with respect to the transfer chamber.

摘要翻译： 本发明提供了一种蚀刻系统，其具有围绕传送室（14）设置的多个蚀刻室（16,18,20），其中蚀刻室适于选择性地安装在相对于传送室的不同位置处。