公开(公告)号：US6110336A

公开(公告)日：2000-08-29

申请号：US131488

申请日：1998-08-10

申请人： Roger Wordenweber ,  Georg Ockenfuss ,  Jens Schneider ,  Wilfried Klein

发明人： Roger Wordenweber ,  Georg Ockenfuss ,  Jens Schneider ,  Wilfried Klein

IPC分类号： H01J37/34 ,  C23C14/34

CPC分类号： H01J37/3447 ,  H01J37/3405

摘要： A magnetron cathode and sputtering system in which the cathode assembly includes a diaphragm arrangement with one or more diaphragms which overlie at least the edge of the cathode at the dark side region of the gas discharge so that plasmas cannot form between the diaphragm and target. An improved sputtering is thereby obtained in a high pressure mode of operation.

摘要翻译： 一种磁控管阴极和溅射系统，其中阴极组件包括具有一个或多个隔膜的隔膜装置，其在气体放电的暗侧区域至少覆盖阴极的边缘，使得等离子体不能在隔膜和靶之间形成。 由此在高压操作模式下获得改进的溅射。

公开(公告)号：US5620576A

公开(公告)日：1997-04-15

申请号：US683905

申请日：1996-07-19

申请人： Roger Wordenweber

发明人： Roger Wordenweber

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/00 ,  C23C14/34 ,  H01L39/24

CPC分类号： C23C14/228 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/3464 ,  H01L39/2435 ,  Y10S505/73 ,  Y10S505/731

摘要： Coatings on substrates which incorporate reactive gases like oxygen and nitrogen are formed by providing the substrate so that it is spaced from the target region in a coating chamber, forming particles of the coating material by plasma from a cathodic target and entraining the particles to the substrate spaced from the plasma in a gas stream including the reactive gas and at a pressure of 0.1 to 20 mbar.

摘要翻译： 通过提供衬底以使其与涂覆室中的目标区域间隔开来形成包含诸如氧和氮的反应气体的衬底上的涂层，通过来自阴极靶的等离子体形成涂层材料的颗粒并将颗粒夹带到衬底 在包括反应性气体的气流中并且在0.1至20毫巴的压力下与等离子体间隔开。

公开(公告)号：US5476838A

公开(公告)日：1995-12-19

申请号：US133175

申请日：1993-10-14

申请人： Roger Wordenweber ,  Ursus Kruger ,  Rolf Kutzner

发明人： Roger Wordenweber ,  Ursus Kruger ,  Rolf Kutzner

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/00 ,  C23C14/54 ,  H01L39/24

CPC分类号： C23C14/54 ,  C23C14/0042 ,  Y10S505/731 ,  Y10S505/816

摘要： The invention relates to a process for producing thin films in which the pressure of the process gas is kept constant in a process chamber with a gas inlet and outlet, a target and a substrate, while material is sputtered from the target and deposited on the substrate. The invention also relates to a process for producing thin films. It is the purpose of the invention to create a process providing a more homogenous film. According to the invention, to this end the process gas is caused to reach the plasma. Alternatively, either one or several emission lines may be spectroscopically detected in a spatial region and, after a desired cross sectional shape has been set, it is kept constant in time by subsequently regulating the process gas mixing ratio. It is also possible to attain the set aim by arranging a probe in such a way that charged atoms of the process gas are detected and, to attain the desired homogeneity, the voltage at the probe is constantly regulated by subsequently adjusting the process gas mixing ratio.

摘要翻译： PCT No.PCT / DE93 / 00125 Sec。 371日期：1993年10月14日 102（e）日期1993年10月14日PCT提交1993年2月13日PCT公布。 出版物WO93 / 16211 日期：1993年8月19日。本发明涉及一种生产薄膜的方法，其中工艺气体的压力在具有气体入口和出口，靶和基底的处理室中保持恒定，而材料从 靶并沉积在基底上。 本发明还涉及薄膜的制造方法。 本发明的目的是创造一种提供更均匀的薄膜的方法。 根据本发明，为此，使工艺气体达到等离子体。 或者，可以在空间区域中光谱检测一个或多个发射线，并且在已经设置期望的横截面形状之后，通过随后调节工艺气体混合比在时间上保持恒定。 也可以通过以检测处理气体的带电原子的方式设置探针来实现设定的目的，并且为了获得所需的均匀性，通过随后调整工艺气体混合比率来恒定地调节探针处的电压 。

公开(公告)号：US5290758A

公开(公告)日：1994-03-01

申请号：US848828

申请日：1992-03-10

申请人： Roger Wordenweber

发明人： Roger Wordenweber

IPC分类号： C23C14/08 ,  C23C14/00 ,  C23C14/34 ,  H01L39/24 ,  B05D5/12

CPC分类号： C23C14/228 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/3464 ,  H01L39/2435 ,  Y10S505/73 ,  Y10S505/731

摘要： Coatings such as high Tc superconductor material on substrates which incorporate reactive gases like oxygen and nitrogen are formed by providing the substrate so that it is spaced from the target region in a coating chamber, forming particles of the coating material by plasma from a cathodic target and entraining the particles to the substrate spaced from the plasma in a gas stream including the reactive gas and at a pressure of 0.1 to 20 mbar.

摘要翻译： 通过提供衬底以使其与涂覆室中的目标区域间隔开来形成包含诸如氧和氮的反应气体的衬底上的高Tc超导体材料的涂层，其通过来自阴极靶的等离子体形成涂层材料的颗粒， 在包括反应性气体的气流中并且在0.1至20mbar的压力下将颗粒夹带到与等离子体间隔开的衬底上。