公开(公告)号：US06444483B1

公开(公告)日：2002-09-03

申请号：US09617044

申请日：2000-07-14

申请人： Masahiko Minemura ,  Tomoyuki Okada ,  Ryo Tsujimura ,  Kenji Kikuchi ,  Yoshimasa Iiduka

发明人： Masahiko Minemura ,  Tomoyuki Okada ,  Ryo Tsujimura ,  Kenji Kikuchi ,  Yoshimasa Iiduka

IPC分类号： H01L2100

CPC分类号： G03F1/78 ,  G03F1/20 ,  G03F7/70433

摘要： A full area of a semiconductor integrated circuit is divided into unit areas, a mask data file for use in a beam exposure system or an inspection apparatus is produced based on CAD data of the full area, full-area header information in which a starting address of a mask data of each unit area relates to positional information on said unit area, partial-area header information corresponding to each of partial areas obtained by division of the full area is produced based on the full-area header information and mask data of the partial areas are extracted from a mask data of the full area based on the partial area header information to produce the mask data files corresponding to the partial area header information.

摘要翻译： 半导体集成电路的整个区域被划分为单位区域，根据全部区域的CAD数据生成用于光束曝光系统的掩模数据文件或检查装置，其中起始地址 每个单位区域的掩模数据涉及关于所述单位区域的位置信息，基于全区域标题信息和全部区域标题信息和掩模数据产生与通过划分完整区域而获得的每个部分区域相对应的部分区域标题信息 基于部分区域标题信息从完整区域的掩码数据中提取部分区域，以产生与部分区域标题信息相对应的掩码数据文件。

公开(公告)号：US06968531B2

公开(公告)日：2005-11-22

申请号：US10073246

申请日：2002-02-13

申请人： Yoshimasa Iiduka ,  Ryuji Kobayashi ,  Takahisa Ito

发明人： Yoshimasa Iiduka ,  Ryuji Kobayashi ,  Takahisa Ito

IPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/68 ,  G03F7/20 ,  H01J37/302 ,  H01L21/027 ,  G06F17/50 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/68 ,  G03F7/70441 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/31769

摘要： In the exposure method which carries out optical proximity correction processing for exposure data having a plurality of exposure patterns and exposes a sample in accordance with such corrected exposure data, the exposure patterns to be corrected are converted, in the optical proximity correction processing, into a minus objective pattern and a minus pattern to be deleted from the minus objective pattern, to form corrected exposure data. And, the minus pattern is deleted from the minus objective pattern of the corrected exposure data to bitmap a corrected exposure pattern, to expose a sample in accordance with such bitmapped corrected exposure pattern.

摘要翻译： 在对具有多个曝光图案的曝光数据进行光学邻近校正处理的曝光方法中，根据这种校正曝光数据曝光样本，将在光学邻近校正处理中将待校正的曝光图案转换为 减去目标图案和从负目标图案中删除的负图案，以形成校正的曝光数据。 并且，从校正的曝光数据的负目标图案中删除负图案，以对位置校正的曝光图案进行位图，以根据这种位图校正的曝光图案曝光样品。

公开(公告)号：US06807654B2

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US10067827

申请日：2002-02-08

申请人： Satoshi Akutagawa ,  Yoshimasa Iiduka

发明人： Satoshi Akutagawa ,  Yoshimasa Iiduka

IPC分类号： G06F1750

CPC分类号： G03F1/84 ,  G03F1/36

摘要： From the region near the target pattern, patterns whose barycenter positions are not changed even if deformation is generated due to proximity effect or coarse-and-fine difference at the time of pattern forming are selected as alignment patterns, and the barycenter positions thereof are set as alignment reference coordinates. Rough alignment is carried out based on the reference position provided in a region other than the device forming region, thereby detecting the alignment pattern in the device forming region. Positioning is carried out such that the alignment reference coordinates of the alignment patterns and the center coordinates of the target pattern coincide with each other, and the target pattern is detected.

摘要翻译： 从目标图案附近的区域，即使由于邻近效应而产生变形也不会改变其重心位置的图案，或者图案形成时的粗细差异被选择为对准图案，并且其重心位置被设定 作为对齐参考坐标。 基于设置在器件形成区域以外的区域的基准位置进行粗略校准，从而检测器件形成区域中的取向图案。 执行定位，使得对准图案的对准基准坐标和目标图案的中心坐标彼此一致，并且检测目标图案。

公开(公告)号：US06635392B2

公开(公告)日：2003-10-21

申请号：US09764162

申请日：2001-01-19

申请人： Tomoyuki Okada ,  Yoshimasa Iiduka ,  Kazuhiko Takahashi ,  Masahiko Minemura

发明人： Tomoyuki Okada ,  Yoshimasa Iiduka ,  Kazuhiko Takahashi ,  Masahiko Minemura

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F7/70441 ,  H01J37/3026 ,  H01J2237/31769

摘要： Provided is a computer 15 for producing corrected pattern data which includes corrected features each obtained by adding auxiliary features (serifs) to the right-angle corners of an original feature to compensate for the photo proximity effect. The computer performs the step of: (S1) inputting an original pattern data; (S2) adding triangle or rectangle serifs to right-angle corners of original features, each serif having a side which is an extension of a first side of a corresponding original feature and another side which is a portion of the side adjacent to the first side; (S3) performing a geometric OR operation on the original feature and the serifs to obtain a synthesized feature; and (S4) decomposing the synthesized feature into basic figures which can be processed in an electron beam exposure apparatus.

摘要翻译： 提供了一种用于产生校正图案数据的计算机15，其包括通过将原始特征的直角角添加辅助特征（衬线）而获得的校正特征，以补偿照片邻近效应。 计算机执行以下步骤：（S1）输入原始图案数据; （S2）向原始特征的直角角添加三角形或矩形衬线，每个衬线具有作为相应原始特征的第一侧的延伸的一侧，作为与第一侧相邻的一侧的一部分的另一侧 ; （S3）对原始特征和衬线执行几何或运算以获得合成特征; 和（S4）将合成特征分解为可在电子束曝光装置中处理的基本图形。