公开(公告)号：US06296735B1

公开(公告)日：2001-10-02

申请号：US09177894

申请日：1998-10-23

申请人： Alexander Marxer ,  Andreas Meyerhans ,  Fredy Zuend

发明人： Alexander Marxer ,  Andreas Meyerhans ,  Fredy Zuend

IPC分类号： H05H100

CPC分类号： C23C16/54 ,  C23C14/566 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4401 ,  H01J37/32743 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/139

摘要： An apparatus for plasma treating workpieces in vacuum comprises a stack of plasma chambers (20). Handling of workpieces to and from the plasma chambers of the stack is performed in parellelism by one handling device and through lateral handling openings of the plasma chambers. The handling device is rotatable around an axis parallel to the handling openings of the plasma chambers and comprises transport means simultaneously movable radially with respect to the axis of rotation towards and from the handling openings.

摘要翻译： 用于在真空中等离子体处理工件的装置包括一叠等离子体室（20）。 工件往复堆叠的等离子体室的处理通过一个处理装置并通过等离子体室的横向处理开口以平行方式进行。 处理装置可绕平行于等离子体室的处理开口的轴线旋转，并且包括可相对于旋转轴线径向相对于处理开口径向移动的输送装置。

公开(公告)号：US06673255B2

公开(公告)日：2004-01-06

申请号：US09925646

申请日：2001-08-10

申请人： Alexander Marxer ,  Andreas Meyerhans ,  Fredy Zuend

发明人： Alexander Marxer ,  Andreas Meyerhans ,  Fredy Zuend

IPC分类号： B01J1500

CPC分类号： C23C16/54 ,  C23C14/566 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4401 ,  H01J37/32743 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/139

摘要： An apparatus for plasma treating workpieces in vacuum comprises a stack of plasma chambers (20). Handling of workpieces to and from the plasma chambers of the stack is performed in parallelism by one handling device and through lateral handling openings of the plasma chambers. The handling device is rotatable around an axis parallel to the handling openings of the plasma chambers and comprises transport means simultaneously movable radially with respect to the axis of rotation towards and from the handling openings.

摘要翻译： 用于在真空中等离子体处理工件的装置包括一叠等离子体室（20）。 通过一个处理装置并通过等离子体室的横向处理开口并行地执行工件到堆叠的等离子体室的处理。 处理装置可绕平行于等离子体室的处理开口的轴线旋转，并且包括可相对于旋转轴线径向相对于处理开口径向移动的输送装置。