公开(公告)号：US20030000841A1

公开(公告)日：2003-01-02

申请号：US10217872

申请日：2002-08-13

申请人： Applied Materials, Inc.

发明人： Joseph J. Stevens ,  Yevgeniy Rabinovich ,  Sandy S. Chao ,  Mark R. Denome ,  Allen L. D'Ambra ,  Donald J. Olgado

IPC分类号： C25D021/12 ,  C25C003/16 ,  C25C003/20 ,  C25B009/00 ,  C25B015/00 ,  C25D003/38 ,  B23H003/02 ,  B23H007/14 ,  H01L021/445 ,  H01L021/288 ,  B23H007/04 ,  C25F007/00 ,  C25D017/00 ,  C25B009/04 ,  C25D005/02 ,  C25D005/00

CPC分类号： C25D21/14 ,  C25D7/123 ,  C25D17/001 ,  C25D21/18

摘要： A system is provided in which a smaller flow of deposition solution is diverted from a larger flow of deposition solution flowing on an electrochemical deposition tool platform. The smaller flow is diverted to a dosing unit which may be on a separate platform. The dosing unit in one embodiment comprises a pressurized flow line.

摘要翻译： 提供了一种系统，其中较小的沉积溶液流从在电化学沉积工具平台上流动的较大流动的沉积溶液转移。 较小的流量被转移到可以在单独平台上的计量单元。 在一个实施例中的计量单元包括加压流动管线。