公开(公告)号：US07538857B2

公开(公告)日：2009-05-26

申请号：US11157201

申请日：2005-06-21

申请人： Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis

发明人： Hernes Jacobs ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.

摘要翻译： 一种用于相对于光刻设备的衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器包括至少一个支撑表面或平台，其适于同时承载多个独立衬底。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。

公开(公告)号：US08411252B2

公开(公告)日：2013-04-02

申请号：US12639457

申请日：2009-12-16

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler is provided. The substrate handler includes a support surface configured to carry a substrate and a pre-conditioning unit configured to pre-condition the substrate. The substrate handler is configured to move the substrate relative to a substrate table.

摘要翻译： 提供衬底处理器。 衬底处理器包括被配置为承载衬底的支撑表面和被配置为预处理衬底的预调节单元。 衬底处理器被配置为相对于衬底台移动衬底。

公开(公告)号：US08174680B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US12512220

申请日：2009-07-30

申请人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： An apparatus, method, and system is provided to condition a substrate. The apparatus can include a substrate handler, an array of diodes, and a projection system. The substrate handler can include a conditioning device, a float device, and a displacing device. The array of diodes can be configured to provide a patterned radiation beam, where the projection system projects the patterned radiation beam onto a target portion of a conditioned substrate.

摘要翻译： 提供了一种装置，方法和系统来调节基板。 该装置可以包括基板处理器，二极管阵列和投影系统。 衬底处理器可以包括调节装置，浮子装置和置换装置。 二极管阵列可以被配置为提供图案化的辐射束，其中投影系统将图案化的辐射束投影到经调理的基底的目标部分上。

公开(公告)号：US20090284730A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12512220

申请日：2009-07-30

申请人： Harmen Klaas VAN DER SCHOOT ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas VAN DER SCHOOT ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： An apparatus, method, and system is provided to condition a substrate. The apparatus can include a substrate handler, an array of diodes, and a projection system. The substrate handler can include a conditioning device, a float device, and a displacing device. The array of diodes can be configured to provide a patterned radiation beam, where the projection system projects the patterned radiation beam onto a target portion of a conditioned substrate.

摘要翻译： 提供了一种装置，方法和系统来调节基板。 该装置可以包括基板处理器，二极管阵列和投影系统。 衬底处理器可以包括调节装置，浮子装置和置换装置。 二极管阵列可以被配置为提供图案化的辐射束，其中投影系统将图案化的辐射束投影到经调理的基底的目标部分上。

公开(公告)号：US20100085553A1

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：US12639457

申请日：2009-12-16

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler is provided. The substrate handler includes a support surface configured to carry a substrate and a pre-conditioning unit configured to pre-condition the substrate. The substrate handler is configured to move the substrate relative to a substrate table.

摘要翻译： 提供衬底处理器。 衬底处理器包括被配置为承载衬底的支撑表面和被配置为预处理衬底的预调节单元。 衬底处理器被配置为相对于衬底台移动衬底。

公开(公告)号：US07656506B2

公开(公告)日：2010-02-02

申请号：US11320494

申请日：2005-12-29

申请人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/7075 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70791

摘要： A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.

摘要翻译： 一种用于相对于光刻设备的衬底台移动衬底的衬底处理器。 衬底处理器包括至少一个支撑表面或平台，其适于同时承载多个独立衬底。 衬底处理器适于在曝光之前和之后将衬底加载到衬底台上并从衬底台卸载衬底。

公开(公告)号：US07576835B2

公开(公告)日：2009-08-18

申请号：US11175037

申请日：2005-07-06

申请人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

发明人： Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Hernes Jacobs ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Johannes Martinus Andreas Hazenberg ,  Aart Adrianus Van Beuzekom

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/7075

摘要： Embodiments of the invention relates to a substrate handler for handling a substrate, including a conditioning device for conditioning the substrate. In an embodiment, the substrate handler includes a displacing device configured to displace the substrate in a direction substantially parallel to the support surface, wherein the displacing device is configured to displace the substrate during the conditioning process from one conditioning position to one or more other conditioning positions. According to another embodiment of the invention, the substrate handler includes a float device for providing an air bed above a support surface of the substrate handler, the substrate handler being configured to support the substrate on an air bed during conditioning of the substrate.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及一种用于处理基板的基板处理器，包括用于调节基板的调节装置。 在一个实施例中，衬底处理器包括移位装置，其配置成在基本上平行于支撑表面的方向上移动衬底，其中，移位装置构造成在调节过程期间将衬底从一个调节位置移位到一个或多个其他调节 职位 根据本发明的另一实施例，衬底处理器包括用于在衬底处理器的支撑表面上方提供空气床的浮动装置，衬底处理器被配置为在衬底调节期间将衬底支撑在空气床上。

公开(公告)号：US07256867B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US11018928

申请日：2004-12-22

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70733

摘要： A lithographic method and apparatus comprises an illumination system that supplies a beam of radiation, a patterning device that patterns the beam, and a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of a substrate. A metrology system is provided adjacent the projection system for aligning the substrate with the projection system. Two or more movable chucks are each arranged to support a substrate and move between a loading device and the projection system. The chucks are independently movable so that one substrate can be passed through the metrology system and patterned beam while the other substrates are moved between the loading system and projection system.

摘要翻译： 光刻方法和装置包括提供辐射束的照明系统，对光束进行图案化的图案形成装置，以及将图案化光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 在投影系统附近提供了一种计量系统，用于将基板与投影系统对准。 两个或更多个可移动卡盘分别布置成支撑基板并在加载装置和投影系统之间移动。 卡盘可独立移动，使得一个基板可以通过计量系统和图案化梁，同时其它基板在装载系统和投影系统之间移动。

公开(公告)号：US08264670B2

公开(公告)日：2012-09-11

申请号：US11343219

申请日：2006-01-31

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Fransicus Mathijs Jacobs

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Fransicus Mathijs Jacobs

IPC分类号： G03B27/62

CPC分类号： G03F7/707

摘要： The invention provides a lithographic apparatus including an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device support constructed to support a transmissive patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, wherein the patterning device support is configured to hold a patterning device and wherein the lithographic apparatus includes a clamping device, the clamping device being configured to clamp the patterning device at the top side.

摘要翻译： 本发明提供一种光刻设备，其包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑透射式图案形成装置的图案形成装置支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面上赋予辐射束图案以形成 图案化的辐射束，构造成保持衬底的衬底台，以及被配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中，图案形成装置支撑件构造成保持图案形成装置，并且其中光刻装置包括 夹持装置，夹持装置构造成将图案形成装置夹在顶侧。

公开(公告)号：US07483120B2

公开(公告)日：2009-01-27

申请号：US11430196

申请日：2006-05-09

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： A displacement measurement system, in particular for measuring the displacement of a substrate table in a lithographic apparatus relative to a reference frame is presented. The displacement measure system includes a plurality of displacement sensors mounted to the substrate table and a target associated with each displacement sensor mounted to the reference frame.

摘要翻译： 提出了一种位移测量系统，特别是用于测量光刻设备中的衬底台相对于参考系的位移。 位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器和与安装到参考框架的每个位移传感器相关联的目标。