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1.发明申请BIS-KETOIMINATE COPPER PRECURSORS FOR DEPOSITION OF COPPER-CONTAINING FILMS 有权用于沉积含铜薄膜的BIS-KETOIMINATE铜前驱体公开(公告)号：US20120321817A1
公开(公告)日：2012-12-20
申请号：US13383343
申请日：2010-07-09
IPC分类号： C23C16/50
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/45542 , C23C16/45553
摘要： Disclosed are processes for the use of bis-ketoiminate copper precursors for the deposition of copper-containing films via Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) or Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD).
摘要翻译： 公开了通过等离子体增强原子层沉积（PEALD）或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）沉积含铜膜的双酮亚胺铜前体的使用方法。
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2.发明授权Bis-ketoiminate copper precursors for deposition of copper-containing films and methods thereof 有权用于沉积含铜膜的双 - 酮亚胺铜前体及其方法公开(公告)号：US09121093B2
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：US13383343
申请日：2010-07-09
IPC分类号： C23C16/18 , C23C16/50 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/45542 , C23C16/45553
摘要： Disclosed are processes for the use of bis-ketoiminate copper precursors for the deposition of copper-containing films via Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) or Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD).
摘要翻译： 公开了通过等离子体增强原子层沉积（PEALD）或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）沉积含铜膜的双酮亚胺铜前体的使用方法。
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公开(公告)号：US20130023669A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：US13340875
申请日：2011-12-30
CPC分类号： C07F13/005 , C07F15/045 , C07F15/065 , C23C16/18 , C23C16/406 , C23C16/42 , C23C16/45553
摘要： Disclosed are precursors having a pyrrolecarbaldiminates ligand and methods of synthesizing the same. The pyrrolecarbaldiminates ligand may be substituted.
摘要翻译： 公开了具有吡咯亚甲基二胺配体的前体及其合成方法。 吡咯亚甲基二胺配体可以被取代。
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4.发明授权Heteroleptic (allyl)(pyrroles-2-aldiminate) metal-containing precursors, their synthesis and vapor deposition thereof to deposit metal-containing films 有权含异丁烯（烯丙基）（吡咯-2-醛亚胺）金属的前体，它们的合成和气相沉积以沉积含金属的膜公开(公告)号：US09034761B2
公开(公告)日：2015-05-19
申请号：US14159815
申请日：2012-06-29
IPC分类号： H01L21/44 , H01L21/285 , C07F15/04 , H01L21/768
CPC分类号： H01L21/28506 , C07F15/04 , H01L21/76838
摘要： Disclosed are metal-containing precursors having the formula Compound (I) wherein: —M is a metal selected from Ni, Co, Mn, Pd; and —each of R-1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 are independently selected from H; a C1-C4 linear, branched, or cyclic alkyl group; a C1-C4 linear, branched, or cyclic alkylsilyl group (mono, bis, or tris alkyl); a C1-C4 linear, branched, or cyclic alkylamino group; or a C1-C4 linear, branched, or cyclic fluoroalkyl group. Also disclosed are methods of synthesizing and using the disclosed metal-containing precursors to deposit metal-containing films on a substrate via a vapor deposition process.
摘要翻译： 公开了具有式化合物（I）的含金属的前体，其中：-M是选自Ni，Co，Mn，Pd的金属; R 1，R 2，R 3，R 4，R 5，R 6，R 7，R 8，R 9和R 10各自独立地选自H; C1-C4直链，支链或环状烷基; C1-C4直链，支链或环状烷基甲硅烷基（单，双或三烷基）; C1-C4直链，支链或环状烷基氨基; 或C 1 -C 4直链，支链或环状氟代烷基。 还公开了合成和使用所公开的含金属前体的方法，其通过气相沉积工艺将含金属的膜沉积在基底上。
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公开(公告)号：US08686138B2
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：US13341251
申请日：2011-12-30
CPC分类号： C07F13/005 , C07F15/045 , C07F15/065 , C23C16/18 , C23C16/406 , C23C16/42 , C23C16/45553
摘要： Disclosed are precursors having a pyrrolecarbaldiminates ligand and methods of synthesizing the same. The pyrrolecarbaldiminates ligand may be substituted.
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公开(公告)号：US08431719B1
公开(公告)日：2013-04-30
申请号：US13340824
申请日：2011-12-30
IPC分类号： C07D209/00
CPC分类号： C07F1/005
摘要： Disclosed are precursors having a pyrrolecarbaldiminates ligand and methods of synthesizing the same. The pyrrolecarbaldiminates ligand may be substituted.
摘要翻译： 公开了具有吡咯亚甲基二胺配体的前体及其合成方法。 吡咯亚甲基二胺配体可以被取代。
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公开(公告)号：US08691985B2
公开(公告)日：2014-04-08
申请号：US13340875
申请日：2011-12-30
CPC分类号： C07F13/005 , C07F15/045 , C07F15/065 , C23C16/18 , C23C16/406 , C23C16/42 , C23C16/45553
摘要： Disclosed are precursors having a pyrrolecarbaldiminates ligand and methods of synthesizing the same. The pyrrolecarbaldiminates ligand may be substituted.
摘要翻译： 公开了具有吡咯亚甲基二胺配体的前体及其合成方法。 吡咯亚甲基二胺配体可以被取代。
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公开(公告)号：US20130023670A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：US13341251
申请日：2011-12-30
CPC分类号： C07F13/005 , C07F15/045 , C07F15/065 , C23C16/18 , C23C16/406 , C23C16/42 , C23C16/45553
摘要： Disclosed are precursors having a pyrrolecarbaldiminates ligand and methods of synthesizing the same. The pyrrolecarbaldiminates ligand may be substituted.
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9.发明授权Methods for synthesis of heteroleptic cyclopentadienyl transition metal precursors 失效杂多环戊二烯基过渡金属前体的合成方法公开(公告)号：US08236979B2
公开(公告)日：2012-08-07
申请号：US12509052
申请日：2009-07-24
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/45553
摘要： Methods for forming heteroleptic amidinate or guanidinate cyclopentadienyl containing transition metal precursors through synthesis reactions.
摘要翻译： 通过合成反应形成含有杂芳基脒基或胍基环戊二烯基的过渡金属前体的方法。
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公开(公告)号：US08436115B2
公开(公告)日：2013-05-07
申请号：US12670204
申请日：2008-07-16
CPC分类号： C07F15/045 , C07F13/005
摘要： The present invention discloses metallic complexes based on carbonylamino fulvene ligands; their method of preparation and their use in the oligomerisation or polymerisation of ethylene and alpha-olefins.
摘要翻译： 本发明公开了基于羰基氨基富烯配体的金属配合物; 它们的制备方法及其在乙烯和α-烯烃的低聚或聚合中的用途。
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