利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

8 条记录 (耗时 0.026 秒)

    Waveguide with blocking layer
    2.
    发明授权
    Waveguide with blocking layer 有权
    带阻挡层的波导

    公开(公告)号：US08787126B2

    公开(公告)日：2014-07-22

    申请号：US13269809

    申请日：2011-10-10

    申请人： Nils Jan Gokemeijer ,  William Albert Challener

    发明人： Nils Jan Gokemeijer ,  William Albert Challener

    IPC分类号： G11B11/105 ,  G11B5/127

    CPC分类号： G11B5/314 ,  G11B5/59638 ,  G11B2005/0021

    摘要： An apparatus includes a write pole, a waveguide adjacent to the write pole, the waveguide having a truncated end, and a blocking layer positioned adjacent the truncated end and extending from one side of the waveguide across a portion of an aperture at the truncated end. The waveguide can be a solid immersion mirror or a channel waveguide.

    摘要翻译： 一种装置包括写极，邻近写磁极的波导，波导具有截头端，以及阻挡层，其邻近截顶端并且从波导的一侧延伸穿过截头端的孔的一部分。 波导可以是固体浸没镜或通道波导。

    Heat-Assisted Magnetic Recording Head for Servo Writing
    3.
    发明申请
    Heat-Assisted Magnetic Recording Head for Servo Writing 有权
    用于伺服写入的热辅助磁记录头

    公开(公告)号：US20130088944A1

    公开(公告)日：2013-04-11

    申请号：US13269809

    申请日：2011-10-10

    申请人： Nils Jan Gokemeijer ,  William Albert Challener

    发明人： Nils Jan Gokemeijer ,  William Albert Challener

    IPC分类号： G11B13/04

    CPC分类号： G11B5/314 ,  G11B5/59638 ,  G11B2005/0021

    摘要： An apparatus includes a write pole, a waveguide adjacent to the write pole, the waveguide having a truncated end, and a blocking layer positioned adjacent the truncated end and extending from one side of the waveguide across a portion of an aperture at the truncated end. The waveguide can be a solid immersion minor or a channel waveguide.

    摘要翻译： 一种装置包括写极，邻近写磁极的波导，波导具有截头端，以及阻挡层，其邻近截顶端并且从波导的一侧延伸穿过截头端的孔的一部分。 波导可以是固体浸没次要或通道波导。

    Suppression of spin momentum transfer and related torques in magnetoresistive elements
    4.
    发明授权
    Suppression of spin momentum transfer and related torques in magnetoresistive elements 有权
    抑制磁阻元件中的自旋动量传递和相关转矩

    公开(公告)号：US07715154B2

    公开(公告)日：2010-05-11

    申请号：US11105133

    申请日：2005-04-13

    申请人： Mark William Covington ,  Nils Jan Gokemeijer

    发明人： Mark William Covington ,  Nils Jan Gokemeijer

    IPC分类号： G11B5/33

    CPC分类号： B82Y25/00 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/3929 ,  G11B2005/3996

    摘要： An apparatus comprises a ferromagnetic free layer having a first magnetic moment and having a magnetization that rotates in response to an external magnetic field, a first ferromagnetic reference layer positioned adjacent to a first side of the ferromagnetic free layer and having a second magnetic moment that is greater than the first magnetic moment of the ferromagnetic free layer, a second ferromagnetic reference layer positioned adjacent to a second side of the ferromagnetic free layer and having a third magnetic moment that is greater than the first magnetic moment of the ferromagnetic free layer, a first non-magnetic spacer layer positioned between the ferromagnetic free layer and the first ferromagnetic reference layer, a second non-magnetic spacer layer positioned between the ferromagnetic free layer and the second ferromagnetic reference layer, and a source of magnetic field for biasing the first and second ferromagnetic reference layers.

    摘要翻译： 一种装置包括具有第一磁矩并具有响应于外部磁场而旋转的磁化的铁磁自由层，与铁磁自由层的第一侧相邻定位的第一铁磁参考层，并且具有第二磁矩， 大于铁磁自由层的第一磁矩，与铁磁自由层的第二侧相邻并且具有大于铁磁自由层的第一磁矩的第三磁矩的第二铁磁参考层，第一 位于铁磁自由层和第一铁磁参考层之间的非磁性间隔层，位于铁磁性自由层和第二铁磁参考层之间的第二非磁性间隔层，以及用于偏置第一和第二铁磁参考层的磁场源 铁磁参考层。

    Lapping Guides For Magnetic Recording Heads
    6.
    发明申请
    Lapping Guides For Magnetic Recording Heads 有权
    磁记录头研磨指南

    公开(公告)号：US20100208391A1

    公开(公告)日：2010-08-19

    申请号：US12370976

    申请日：2009-02-13

    申请人： Nils Jan Gokemeijer

    发明人： Nils Jan Gokemeijer

    IPC分类号： G11B5/33 ,  B32B37/00

    CPC分类号： G11B5/3166 ,  G11B5/314 ,  G11B5/3169 ,  G11B2005/0021 ,  Y10T29/49032 ,  Y10T29/49043 ,  Y10T29/49044 ,  Y10T29/49046 ,  Y10T29/49052 ,  Y10T29/53165

    摘要： A method includes: fabricating a wafer having a plurality of layers, each including a feature of interest and a lapping guide positioned at a known location relative to the feature of interest, wherein the feature of interest and the lapping guide cross a common plane; lapping the wafer to the common plane to expose portions of the lapping guides; and measuring dimensions of the lapping guides and an offset of the lapping guides with respect to each other. An apparatus constructed using the method is also included.

    摘要翻译： 一种方法包括：制造具有多个层的晶片，每个层包括感兴趣的特征和位于相关感兴趣特征的已知位置的研磨引导件，其中感兴趣的特征和研磨引导件穿过公共平面; 将晶片研磨到公共平面以暴露研磨导轨的部分; 并且测量研磨导轨的尺寸和研磨导轨相对于彼此的偏移。 还包括使用该方法构造的装置。