公开(公告)号：US20160306914A1

公开(公告)日：2016-10-20

申请号：US15001854

申请日：2016-01-20

申请人： Dae-kwon KANG ,  Ji-Young JUNG ,  Dong-Gyun KIM ,  Jae-Seok YANG ,  Sung-Keun PARK ,  Young-Gook PARK

发明人： Dae-kwon KANG ,  Ji-Young JUNG ,  Dong-Gyun KIM ,  Jae-Seok YANG ,  Sung-Keun PARK ,  Young-Gook PARK

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/70 ,  G03F1/00 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70466 ,  G06F17/5072 ,  G06F17/5081 ,  G06F2217/12 ,  G21K5/00

摘要： According to example embodiments of inventive concepts, a layout design system includes a processor, a storage unit configured to store a layout design, and a stitch module. The layout design includes a first pattern group and a second pattern group disposed in accordance with a design. The first pattern group including a first pattern for patterning at a first time. The second pattern group including a second pattern for patterning at a second time that is different than the first time. The stitch module is configured to detect an iso-pattern of the second pattern using the processor. The stitch module is configured to repetitively designate at least one of the first pattern, which is spaced apart from the iso-pattern by a pitch or more, to the second pattern group using the processor.

摘要翻译： 根据发明构思的示例实施例，布局设计系统包括处理器，被配置为存储布局设计的存储单元和针脚模块。 布局设计包括根据设计布置的第一图案组和第二图案组。 第一图案组包括第一次图案化的第一图案。 第二图案组包括在第二次不同于第一次的图案化的第二图案。 针脚模块被配置为使用处理器来检测第二图案的等图案。 缝合模块被配置为使用处理器将与等图案间隔开等距或间隔的第一图案中的至少一个重复指定到第二图案组。