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公开(公告)号：US07632621B2
公开(公告)日：2009-12-15
申请号：US11020871
申请日：2004-12-23
CPC分类号： G03F7/2018 , C09D11/101 , C09D11/34
摘要： A mask is described for forming an image on a substrate. The mask may be selectively applied to a radiant energy sensitive material on the substrate. Actinic radiation applied to the composite chemically changes portions of the radiant energy sensitive material not covered by the mask. The mask and portions of the radiant energy sensitive material are removed using a suitable aqueous base developer. The mask is composed of aqueous base soluble or dispersible polymers and light-blocking agents.
摘要翻译： 描述了用于在基板上形成图像的掩模。 掩模可以选择性地施加到衬底上的辐射能量敏感材料。 施加到复合材料上的光化辐射化学地改变未被掩模覆盖的辐射能敏感材料的部分。 使用合适的含水基础显影剂除去掩模和辐射能敏感材料的部分。 面膜由水溶性可溶性或可分散的聚合物和遮光剂组成。
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公开(公告)号：US07148265B2
公开(公告)日：2006-12-12
申请号：US10391154
申请日：2003-03-18
申请人： Robert K. Barr , Edgardo Anzures , Daniel E. Lundy
发明人： Robert K. Barr , Edgardo Anzures , Daniel E. Lundy
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/0388 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/124 , Y10S522/904 , Y10S522/905
摘要： A polymer having α,β unsaturated groups and a group that generates a free radical when exposed to actinic radiation. The polymer may be self-cross-linking.
摘要翻译： 具有α，β不饱和基团的聚合物和当暴露于光化辐射时产生自由基的基团。 聚合物可以是自交联的。
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公开(公告)号：US06900003B2
公开(公告)日：2005-05-31
申请号：US10408414
申请日：2003-04-07
摘要： A composition and method to reduce photolithographic residue and scum formation on a substrate or in a solution, and to reduce or prevent foam formation. The composition contains a diphenyl oxide compound in combination with an antifoam agent. The composition may be added to developer solutions and stripper solutions used in manufacturing printed wiring boards.
摘要翻译： 减少基底或溶液中的光刻残渣和浮渣形成并减少或防止泡沫形成的组合物和方法。 该组合物含有与消泡剂组合的二苯基氧化物。 可以将组合物加入用于制造印刷线路板的显影剂溶液和剥离溶液中。
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公开(公告)号：US07364834B2
公开(公告)日：2008-04-29
申请号：US11180951
申请日：2005-07-13
申请人： Robert K. Barr , Edgardo Anzures , Daniel E. Lundy
发明人： Robert K. Barr , Edgardo Anzures , Daniel E. Lundy
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/0388 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/124 , Y10S522/904 , Y10S522/905
摘要： A polymer having α,β unsaturated groups and a group that generates a free radical when exposed to actinic radiation. The polymer may be self-cross-linking.
摘要翻译： 具有α，β不饱和基团的聚合物和当暴露于光化辐射时产生自由基的基团。 聚合物可以是自交联的。
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公开(公告)号：US07323290B2
公开(公告)日：2008-01-29
申请号：US10391051
申请日：2003-03-18
申请人： Robert K. Barr , Edgardo Anzures , Daniel E. Lundy
发明人： Robert K. Barr , Edgardo Anzures , Daniel E. Lundy
CPC分类号： C07D233/64 , C08F2/50 , C08G18/10 , C08G18/6725 , C08G18/68 , C08L25/14 , C08L63/00 , C08L75/16 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388 , Y10S430/117 , Y10S522/904 , Y10S522/905 , C08L2666/02
摘要： A dry film photoresist includes a functional polymer. The functional polymer has α,β-unsaturated groups and groups that generate a free radical upon exposure to actinic radiation.
摘要翻译： 干膜光致抗蚀剂包括功能聚合物。 功能性聚合物具有α，β-不饱和基团和暴露于光化辐射时产生自由基的基团。
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公开(公告)号：US20090214980A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：US12387101
申请日：2009-04-28
申请人： Edgardo Anzures , Robert K. Barr
发明人： Edgardo Anzures , Robert K. Barr
CPC分类号： G03F7/2018 , C09D5/32 , C09D11/101 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/20
摘要： A light-attenuating composition and method of using it are described. The light-attenuating composition may be selectively applied to a radiant energy sensitive material on the substrate. Actinic radiation applied to the composite chemically changes portions of the radiant energy sensitive material not covered by the light-attenuating composition. The light-attenuating composition attenuates light in at least the UV range and is water-soluble or water-dispersible.
摘要翻译： 描述光衰减组合物及其使用方法。 光衰减组合物可以选择性地施加到衬底上的辐射能敏感材料上。 施加到复合材料上的光化辐射化学改变未被光衰减组合物覆盖的辐射能敏感材料的部分。 光衰减组合物在至少UV范围内减弱光，并且是水溶性或水分散性的。
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公开(公告)号：US06887654B2
公开(公告)日：2005-05-03
申请号：US10431002
申请日：2003-05-07
CPC分类号： G03F7/322
摘要： A composition and method to reduce or to prevent residue and scum formation on a substrate or in a solution. The composition contains an aromatic alkoxylate in combination with a polyol or ether or ester of a polyol. The composition also reduces or prevents foam formation such as in developing processes in the manufacturing of printed wiring boards.
摘要翻译： 减少或防止底物或溶液中残留物和浮渣形成的组合物和方法。 该组合物含有多元醇或多元醇的醚或酯的芳族烷氧基化物。 组合物还可以减少或防止泡沫形成，例如印刷线路板的制造中的显影过程。
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公开(公告)号：US20080187267A1
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：US12005990
申请日：2007-12-28
申请人： Edgardo Anzures , Philip D. Knudsen
发明人： Edgardo Anzures , Philip D. Knudsen
CPC分类号： G02B6/10 , G02B6/1221 , G02B6/136 , G02B6/138 , G02B6/43 , H05K1/0274
摘要： Provided are methods of forming printed circuit boards having optical functionality. The methods involve applying a dry-film to a printed circuit board substrate and forming an optical waveguide over the dry-film. The invention finds particular applicability in the electronics and optoelectronics industries.
摘要翻译： 提供了形成具有光学功能的印刷电路板的方法。 所述方法包括将干膜施加到印刷电路板基底上并在干膜上形成光波导。 本发明特别适用于电子和光电产业。
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公开(公告)号：US20060058472A1
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：US11261308
申请日：2005-10-28
申请人： Edgardo Anzures , Robert Barr , Yueping Fu
发明人： Edgardo Anzures , Robert Barr , Yueping Fu
IPC分类号： C08L61/00
CPC分类号： C08F220/28 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/035 , G03F7/0388
摘要： A functionalized copolymer containing a main chain derived from polymerizable monomers and pendent functional groups terminated with one or more α or β ethylenically or acetylenically unsaturated groups. The functionalized copolymers are self cross-linking and are suitable for use as binders.
摘要翻译： 含有衍生自可聚合单体的主链和由一个或多个α或β-烯属或炔属不饱和基团封端的侧链官能团的官能化共聚物。 官能化共聚物是自交联的并且适合用作粘合剂。
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公开(公告)号：US20050250045A1
公开(公告)日：2005-11-10
申请号：US11180951
申请日：2005-07-13
申请人： Robert Barr , Edgardo Anzures , Daniel Lundy
发明人： Robert Barr , Edgardo Anzures , Daniel Lundy
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/0388 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/124 , Y10S522/904 , Y10S522/905
摘要： A polymer having α,β unsaturated groups and a group that generates a free radical when exposed to actinic radiation. The polymer may be self-cross-linking.
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