公开(公告)号：US5849087A

公开(公告)日：1998-12-15

申请号：US886675

申请日：1997-07-01

申请人： Hermann Kloberdanz ,  Josef Hoffmann ,  Jurgen Henrich

发明人： Hermann Kloberdanz ,  Josef Hoffmann ,  Jurgen Henrich

IPC分类号： C23C14/56 ,  C23C14/00

CPC分类号： C23C14/566

摘要： In a vacuum treatment system for applying thin layers to substrates (2, 2', . . . ) such as headlight reflectors, with several treatment (8, 9, 10) and/or inward and outward transfer lock stations (20) supported on a stationary vacuum chamber wall (16, 16', . . . ) and with a rotatably supported internal cylinder (14), which is enclosed by the vacuum chamber wall and carries the substrate chambers (3-6), openings (24-27) are provided in the vacuum chamber wall (16, 16', . . . ), with which the substrate chambers (3-6) can be aligned and through which the treatment agents can be allowed to act on the substrates (2, 2', . . . ) and/or through which the substrates can be transferred in and out, where one of the substrate chambers, but at least the inward/outward transfer lock chamber (20), has as cover or a sealing flap (33), which allows direct access to the corresponding substrate chamber, and where the chamber (20) can be shifted (A, B) toward the internal cylinder (14) and pressed against the outside wall of the cylinder (14) or against the frame-like end surface of the substrate chamber (3).

摘要翻译： 在用于将薄层施加到诸如头灯反射器的基板（2,2'...）上的真空处理系统中，具有几个处理（8,9,10）和/或向内和向外转移的锁定站（20）支撑在 固定的真空室壁（16,16'，...）和可旋转地支撑的内筒（14），其被真空室壁包围并承载基板室（3-6），开口（24-27） ）设置在真空室壁（16,16'...）中，基板室（3-6）可以与基板室（3-6）对准，通过该真空室壁可以使处理剂作用在基板（2,2）上 （...）和/或可以将衬底输入和输出，其中一个衬底腔室至少内向/向外传送锁定室（20）具有盖或密封挡板（33） ），其允许直接进入相应的衬底室，并且其中腔室（20）可以朝向内部气缸（14）移动（A，B）并且被压缩的aga 将气缸（14）的外壁或衬底室（3）的框架状端面固定。

公开(公告)号：US06241824B1

公开(公告)日：2001-06-05

申请号：US09366971

申请日：1999-08-04

申请人： Günter Bräuer ,  Hermann Kloberdanz ,  Hans-Georg Lotz ,  Jochen Schneider ,  Alfons Zöller ,  Harro Hagedorn ,  Michael König ,  Jürgen Meinel ,  Götz Teschner

发明人： Günter Bräuer ,  Hermann Kloberdanz ,  Hans-Georg Lotz ,  Jochen Schneider ,  Alfons Zöller ,  Harro Hagedorn ,  Michael König ,  Jürgen Meinel ,  Götz Teschner

IPC分类号： C23C1600

CPC分类号： C23C14/568

摘要： In an apparatus for the coating of substrates in a vacuum with rotatable substrate carriers (15,16,20) and with a loading and an unloading station (8 or 9), two vacuum chambers (3,4) are provided with several coating stations (6,7 or 10 to 14), directly next to one another, wherein a rotatable transport arm (15 or 16) is accommodated in each of the two chambers (3, 4), and the transport planes of the two transport arms (15,16) are aligned with one another. In the separation area of the two chambers (3,4), an air lock is provided with a corresponding transfer apparatus (5) with two transport arms (15,16), whose rotary plate (20) is provided with substrate storage unit (21,22) and projects about halfway into one chamber (3) and halfway into the other chamber (4), wherein one chamber (3) has both the loading as well as the unloading station (8 or 9).

摘要翻译： 在用可旋转的基板载体（15,16,20）和装载和卸载站（8或9）在真空中涂覆基板的设备中，设有两个真空室（3,4） （6,7或10至14），彼此直接相邻，其中可旋转传送臂（15或16）容纳在两个室（3,4）的每一个中，并且两个传送臂的传送平面 15,16）彼此对齐。 在两个腔室（3,4）的分离区域中，气锁设置有具有两个输送臂（15,16）的相应的传送装置（5），其旋转板（20）设置有衬底存储单元 21,22），并且在一个室（3）的中途突出并且进入另一个室（4）的中途，其中一个室（3）具有两个装载以及卸载站（8或9）。

公开(公告)号：US5690745A

公开(公告)日：1997-11-25

申请号：US544158

申请日：1995-10-17

申请人： Heinrich Grunwald ,  Hermann Kloberdanz ,  Roland Lacher ,  Siang-Hong Boll

发明人： Heinrich Grunwald ,  Hermann Kloberdanz ,  Roland Lacher ,  Siang-Hong Boll

IPC分类号： B05D3/04 ,  B05D7/02 ,  B05D7/22 ,  B05D7/24 ,  B29C59/14 ,  B60K15/03 ,  C08F2/52 ,  C08J7/00 ,  H05H1/46 ,  C23C16/00

CPC分类号： B05D1/62 ,  B05D7/227 ,  B29C59/142 ,  B60K15/03177 ,  H05H1/46

摘要： A treatment chamber (1) evacuable by vacuum pumps (13,13') has a mounting (26,26', . . .) bearing the hollow body (4) in the treatment chamber (1), and a line (9,9') for the admission of a process gas into the treatment chamber (1). A microwave conductor (20,20' . . .) is connected with a generator (19,19' . . .) for igniting a plasma in the area of channels formed by a sheet-metal shroud (2,2') matching the configuration of the hollow body (4). A closure (7,7') is provided through which the filler opening (6, 6') of the hollow body (4) can be closed pressure-tight, and a line (9,9') for the process gas passes through the closure.

摘要翻译： 由真空泵（13,13'）排空的处理室（1）具有在处理室（1）中承载空心体（4）的安装件（26,26'）， 9'），用于将处理气体进入处理室（1）。 微波导体（20,20'）与发生器（19,19'）连接，用于点燃由与金属外壳（2,2'）相匹配的金属板（2,2'）形成的通道区域中的等离子体 中空体（4）的构造。 提供一个封闭件（7,7'），中空体（4）的填料开口（6,6'）通过该封闭件可以被压缩密封，并且用于工艺气体的管线（9,9'）通过 关闭。