公开(公告)号：US5937275A

公开(公告)日：1999-08-10

申请号：US809945

申请日：1997-10-27

申请人： Horst Munzel ,  Michael Offenberg ,  Klaus Heyers ,  Bernhard Elsner ,  Markus Lutz ,  Helmut Skapa ,  Heinz-Georg Vossenberg ,  Nicholas Buchan ,  Eckhard Graf

发明人： Horst Munzel ,  Michael Offenberg ,  Klaus Heyers ,  Bernhard Elsner ,  Markus Lutz ,  Helmut Skapa ,  Heinz-Georg Vossenberg ,  Nicholas Buchan ,  Eckhard Graf

IPC分类号： G01P15/08 ,  H01L29/84 ,  G01L23/10 ,  G01P15/09

CPC分类号： G01P15/0802

摘要： A method for producing acceleration sensors is proposed, in which a silicon layer that is deposited in an epitaxial application system is used. Above sacrificial layers (2) applied to the substrate (1), the material grows in the form of a polysilicon layer (6), which has a certain surface roughness. By application of a photoresist and by a wet etching process, this surface roughness is eliminated. Alternatively, chemical-mechanical smoothing is contemplated.

摘要翻译： PCT No.PCT / DE96 / 01236 Sec。 371日期1997年10月27日第 102（e）1997年10月27日PCT PCT 1996年7月9日PCT公布。 第WO97 / 04319号公报 日期1997年2月6日提出了一种用于制造加速度传感器的方法，其中使用沉积在外延应用系统中的硅层。 在施加到基板（1）的牺牲层（2）上方，材料以具有一定表面粗糙度的多晶硅层（6）的形式生长。 通过施加光致抗蚀剂和通过湿蚀刻工艺，可以消除该表面粗糙度。 或者，考虑化学机械平滑化。

公开(公告)号：US5219701A

公开(公告)日：1993-06-15

申请号：US771083

申请日：1991-10-02

申请人： Reinhard Schulz ,  Horst Munzel

发明人： Reinhard Schulz ,  Horst Munzel

IPC分类号： G03F7/022

CPC分类号： G03F7/022

摘要： Structures of high resolution in the near UV range and of high sharpness of edge and steepness of edge can be obtained by means of positive photoresists containing, in an organic solvent, in each case essentially at least(a) an alkali-soluble resin(b) a 1,2-naphthoquinone-diazide-5-sulfonyl ester of a trihydroxybenzene isomer(c) an aromatic hydroxy compoundand also, if appropriate, further customary additives, and in which the result of component (b) is to give an absorption coefficient of at least 0.5 .mu.m.sup.-1 for the photobleachable absorption, and component (c) is present in a concentration of 15-30% by weight, relative to the total solids content.

摘要翻译： 通过在有机溶剂中，在每种情况下，至少包含（a）碱溶性树脂（b）的阳性光致抗蚀剂可以获得在近紫外范围内的高分辨率和边缘边缘和陡峭度的高锐度的结构 ）三羟基苯异构体的1,2-萘醌 - 二叠氮化物-5-磺酰基酯（c）芳香族羟基化合物，并且如果合适，还可以使用其它常规添加剂，并且其中组分（b）的结果是给出吸收 对于可光漂白吸收，系数至少为0.5μm-1，组分（c）相对于总固体含量为15-30重量％。

公开(公告)号：US5200293A

公开(公告)日：1993-04-06

申请号：US793494

申请日：1991-11-14

申请人： Reinhard Schulz ,  Horst Munzel ,  Ekkehard Bartmann

发明人： Reinhard Schulz ,  Horst Munzel ,  Ekkehard Bartmann

IPC分类号： G03F7/022

CPC分类号： G03F7/022

摘要： Positive-working photoresist compositions containing 23-27%, based on said composition, of at least one compound of formula (I) ##STR1## wherein one of the substituents X is hydrogen or a group of formula II ##STR2## and the other substituents X are a group of formula II; and 6-11%, based on said composition, of at least one polyhydroxy compound of formula III ##STR3## wherein X is a direct bond, --O--, --S--, --SO.sub.2 --, --CO-- or C(R.sub.6 (R.sub.7)--, and R.sub.1, R.sub.2, R.sub.3, R.sub.4 and R.sub.5 are each independently of the other hydrogen, halogen, C.sub.1 -C.sub.4 alkyl, C.sub.1 -C.sub.4 alkoxy or hydroxy, and R.sub.6 and R.sub.7 are each independently of the other hydrogen, --CH.sub.3 or --CF.sub.3.These compositions have particularly good profile contrast and exhibit insignificant fluctuations in line width.

摘要翻译： 基于所述组合物含有至少一种式（I）化合物（I）的23-27％的正性光致抗蚀剂组合物，其中一个取代基X为氢或式II的基团 II），其它取代基X是式II的基团; 基于所述组合物的至少一种式III III的多羟基化合物（III）的6-11％，其中X是直接键，-O - ， - S - ， - SO 2 - ， - CO-或C （R 6（R 7） - ，R 1，R 2，R 3，R 4和R 5各自独立地为氢，卤素，C 1 -C 4烷基，C 1 -C 4烷氧基或羟基，R 6和R 7各自独立地为氢， CH3或-CF3。这些组合物具有特别好的轮廓对比度，并且在线宽上显示出不显着的波动。

公开(公告)号：US5106718A

公开(公告)日：1992-04-21

申请号：US648954

申请日：1991-02-01

申请人： Ekkehard Bartmann ,  Reinhard Schulz ,  Horst Munzel

发明人： Ekkehard Bartmann ,  Reinhard Schulz ,  Horst Munzel

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0226

摘要： The invention relates to positive photoresists based on alkali-soluble phenolic resin and photosensitive quinonediazide compounds which, by means of particular additives, give relief structures produced therewith an increased stability towards changes due to thermal effects.

摘要翻译： 本发明涉及基于碱溶性酚醛树脂和光敏醌二叠氮化物化合物的阳性光致抗蚀剂，其通过特定的添加剂赋予由其产生的对由热效应引起的变化的稳定性提高的浮雕结构。

公开(公告)号：US5077173A

公开(公告)日：1991-12-31

申请号：US649271

申请日：1991-01-30

申请人： Reinhard Schulz ,  Horst Munzel

发明人： Reinhard Schulz ,  Horst Munzel

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/022

CPC分类号： G03F7/0226

摘要： Structures of high resolution in the near UV range and of high sharpness of edge and steepness of edge can be obtained by means of positive photoresists containing, in an organic solvent, in each case essentially at least(a) an alkali-soluble resin(b) a 1,2-naphthoquinone-diazide-5-sulfonyl ester of a trihydroxybenzene isomer(c) an aromatic hydroxy compoundand also, if appropriate, further customary additives, and in which the result of component (b) is to give an absorption coefficient of at least 0.5 .mu.m.sup.-1 for the photobleachable absorption, and component (c) is present in a concentration of 15-30% by weight, relative to the total solids content.

摘要翻译： 通过在有机溶剂中，在每种情况下，至少包含（a）碱溶性树脂（b）的阳性光致抗蚀剂可以获得在近紫外范围内的高分辨率和边缘边缘和陡峭度的高锐度的结构 ）三羟基苯异构体的1,2-萘醌 - 二叠氮化物-5-磺酰基酯（c）芳香族羟基化合物，并且如果合适，还可以使用其它常规添加剂，并且其中组分（b）的结果是给出吸收 对于可光漂白吸收，系数至少为0.5μm-1，组分（c）相对于总固体含量为15-30重量％。