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    Antireflective composition for photoresists
    4.
    发明授权
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07638262B2

    公开(公告)日：2009-12-29

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/09

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' 独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C1-C20）烃基部分，W是（C1-C20）烃基连接部分，Y'独立地是（C1-C20）烃基 连接部分。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Antireflective compositions for photoresists
    5.
    发明授权
    Antireflective compositions for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07691556B2

    公开(公告)日：2010-04-06

    申请号：US11159002

    申请日：2005-06-22

    申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

    发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention relates to a coating solution comprising a polymer obtained by reacting a glycoluril compound with at least one reactive compound containing at least one hydroxy group and/or at least one acid group, and further where the polymer is soluble in an organic solvent. The invention also relates to a process for imaging a photoresist coated over such a coating composition and to a polymer for the coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种包含通过使甘脲化合物与至少一种含有至少一个羟基和/或至少一个酸基团的反应性化合物反应而得到的聚合物的涂层溶液，此外，聚合物可溶于有机溶剂中。 本发明还涉及一种用于对涂覆在这种涂料组合物上的光致抗蚀剂和用于涂料组合物的聚合物进行成像的方法。

    Antireflective composition for photoresists
    7.
    发明申请
    Antireflective composition for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US20080038659A1

    公开(公告)日：2008-02-14

    申请号：US11502706

    申请日：2006-08-10

    申请人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    发明人： Hengpeng Wu ,  Zhong Xiang ,  Hong Zhuang ,  Jianhui Shan ,  Jian Yin ,  Huirong Yao ,  PingHung Lu

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/952

    摘要： The invention relates to an antireflective coating composition for a photoresist layer comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator, where the polymer comprises at least one unit of structure 1, where, A is a nonaromatic linking moiety, R′ and R″ are independently selected from hydrogen, Z and W—OH, where Z is a (C1-C20) hydrocarbyl moiety and W is a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety, and, Y′ is independently a (C1-C20) hydrocarbyl linking moiety. The invention further relates to a process for imaging the antireflective coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构单元1，其中A是非芳族连接部分，R'和R' '独立地选自氢，Z和W-OH，其中Z是（C 1 -C 20 -C 20）烃基部分，W是（C 1 H 12） C 20 -C 20烃基连接部分，Y'独立地为（C 1 -C 20）烃基连接部分 。 本发明还涉及一种用于对抗反射涂料组合物进行成像的方法。

    Antireflective compositions for photoresists
    8.
    发明授权
    Antireflective compositions for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US07264913B2

    公开(公告)日：2007-09-04

    申请号：US10301462

    申请日：2002-11-21

    申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Joseph E. Oberlander ,  Mark O. Neisser ,  Eleazar Gonzalez ,  Jainhui Shan

    发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Joseph E. Oberlander ,  Mark O. Neisser ,  Eleazar Gonzalez ,  Jainhui Shan

    IPC分类号： G03C1/825 ,  G03C1/74 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

    CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/109 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122

    摘要： The present invention relates to a novel antireflective coating composition comprising a polymer, a crosslinking agent and an acid generator. The present invention further relates to a process for using the novel composition, particularly at 193 nm. The polymer of the present invention contains at least one unit selected from structures 1, 2 and 3, where, Y is a hydrocarbyl linking group of 1 to about 10 carbon atoms, R, R1, R′ and R″ are independently hydrogen, hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, halogen, —O(CO)Z, —C(CF3)2Z, —C(CF3)2(CO)OZ, —SO2CF3, —(CO)OZ, —SO3Z, —COZ, —OZ, —NZ2, —SZ, —SO2Z, —NHCOZ, —NZCOZ or —SO2NZ2, where Z is H or a hydrocarbyl group of 1 to about 10 carbon atoms, n=1–4, X is O, CO, S, COO, CH2O, CH2COO, SO2, NH, NL, OWO, OW, W, and where L and W are independently hydrocarbyl groups of 1 to about 10 carbon atoms, and m=0–3.

    摘要翻译： 本发明涉及包含聚合物，交联剂和酸发生剂的新型抗反射涂料组合物。 本发明还涉及使用该组合物的方法，特别是在193nm。 本发明的聚合物含有至少一种选自结构1,2和3的单元，其中Y是1至约10个碳原子的烃基连接基团，R 1，R 1，R' 和R“独立地为氢，1至约10个碳原子的烃基，卤素，-O（CO）Z，-C（CF 3）2 Z， -C（CF 3）2（CO）OZ，-SO 2 CF 3 - ， - （CO） OZ，-SO 3 Z，-COZ，-OZ，-NZ 2，-SZ，-SO 2 Z，-NHCOZ， - NZCOZ或-SO 2 NZ 2，其中Z为H或1至约10个碳原子的烃基，n = 1-4，X为O，CO， S，COO，CH 2 O，CH 2 COO，SO 2，NH，NL，OWO，OW，W，其中L和 W独立地为1至约10个碳原子的烃基，并且m = 0-3。

    Antireflective compositions for photoresists
    9.
    发明申请
    Antireflective compositions for photoresists 有权
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US20060058468A1

    公开(公告)日：2006-03-16

    申请号：US11159002

    申请日：2005-06-22

    申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

    发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan ,  Hong Zhuang

    IPC分类号： C08F8/00

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention relates to a coating solution comprising a polymer obtained by reacting a glycoluril compound with at least one reactive compound containing at least one hydroxy group and/or at least one acid group, and further where the polymer is soluble in an organic solvent. The invention also relates to a process for imaging a photoresist coated over such a coating composition and to a polymer for the coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种包含通过使甘脲化合物与至少一种含有至少一个羟基和/或至少一个酸基团的反应性化合物反应而得到的聚合物的涂层溶液，此外，聚合物可溶于有机溶剂中。 本发明还涉及一种用于对涂覆在这种涂料组合物上的光致抗蚀剂和用于涂料组合物的聚合物进行成像的方法。

    Antireflective compositions for photoresists
    10.
    发明申请
    Antireflective compositions for photoresists 审中-公开
    用于光致抗蚀剂的抗反射组合物

    公开(公告)号：US20060057501A1

    公开(公告)日：2006-03-16

    申请号：US10941221

    申请日：2004-09-15

    申请人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan

    发明人： Hengpeng Wu ,  Shuji Ding-Lee ,  Zhong Xiang ,  Aritaka Hishida ,  Jianhui Shan

    IPC分类号： G03C5/00

    CPC分类号： G03F7/091

    摘要： The present invention relates to a coating solution comprising a polymer obtained by reacting a glycoluril compound with a reactive compound containing hydroxy groups and/or acid groups, and further where the polymer is soluble in an organic solvent. The invention also relates to a process for imaging a photoresist coated over such a coating composition and to a polymer for the coating composition.

    摘要翻译： 本发明涉及一种包含通过使甘脲化合物与含有羟基和/或酸基的反应性化合物反应而得到的聚合物的涂层溶液，此外聚合物可溶于有机溶剂中。 本发明还涉及一种用于对涂覆在这种涂料组合物上的光致抗蚀剂和用于涂料组合物的聚合物进行成像的方法。