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    RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
    2.
    发明申请
    RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME 有权
    树脂和光学组合物包括它们

    公开(公告)号：US20120178021A1

    公开(公告)日：2012-07-12

    申请号：US13345941

    申请日：2012-01-09

    申请人： Hyungjoo KIM ,  Akira KAMABUCHI ,  Koji ICHIKAWA

    发明人： Hyungjoo KIM ,  Akira KAMABUCHI ,  Koji ICHIKAWA

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07D327/04 ,  C08F228/06

    CPC分类号： C08F20/38 ,  C07D327/04 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： The present invention provides a resin comprising a structural unit represented by the formula (aa): wherein R1 represents a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a hydrogen atom or a halogen atom, T1 represents a C4-C34 sultone ring group optionally having one or more substituents, Z1 represents a C1-C6 alkanediyl group optionally having one or more substituents, or a group represented by the formula (a-1): -A10X10-A11sX11-A12-  (a-1) wherein X10 and X11 each independently represents —O—, —NH—, —CO—, —CO—O—, —O—CO—, —CO—NH— or —NH—CO—, A10, A11 and A12 each independently represent a C1-C5 divalent aliphatic hydrocarbon group optionally having one or more substituents, and s represents 0 or 1, and Z2 represents a single bond or —CO—.

    摘要翻译： 本发明提供一种树脂，其包含由式（aa）表示的结构单元：其中R 1表示任选具有一个或多个卤素原子，氢原子或卤素原子的C 1 -C 6烷基，T 1表示C 4 -C 34磺内酯 具有一个或多个取代基的环基，Z1表示任选具有一个或多个取代基的C1-C6烷二基，或由式（a-1）表示的基团：-A10XX-X-A11-X11-A12-（a -1）其中X10和X11各自独立地表示-O - ， - NH - ， - CO - ， - CO-O-，-O-CO-，-CO-NH-或-NH-CO-，A10，A11和 A 12各自独立地表示任选具有一个或多个取代基的C 1 -C 5二价脂族烃基，s表示0或1，Z 2表示单键或-CO-。

    RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME
    3.
    发明申请
    RESIN AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME 有权
    树脂和光学组合物包括它们

    公开(公告)号：US20120122034A1

    公开(公告)日：2012-05-17

    申请号：US13290618

    申请日：2011-11-07

    申请人： Koji ICHIKAWA ,  Masahiko SHIMADA ,  Takashi NISHIMURA ,  Akira KAMABUCHI ,  Hyungjoo KIM ,  Mitsuyoshi OCHIAI

    发明人： Koji ICHIKAWA ,  Masahiko SHIMADA ,  Takashi NISHIMURA ,  Akira KAMABUCHI ,  Hyungjoo KIM ,  Mitsuyoshi OCHIAI

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07D327/04 ,  C08F28/06

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07D327/04 ,  C08F20/58 ,  C08F28/06 ,  G03F7/2041

    摘要： The present invention provides a resin comprising a structural unit represented by the formula (aa): wherein T1 represents a C4-C34 sultone ring group optionally having one or more substituents, X2 represents —O— or —N(Rc)—, Rc represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, when X2 is —O—, Z1 represents *—X1—, *—X3—CO—O—X1—, *—X3—CO—N(Rc)—X1—, *—X3—O—CO—X1— or *—X3—N(Rc)—CO—X1—, when X2 is —N(Rc)—, Z1 represents *—X1—, *—X1—O—X3—, *—X1—CO—, *—X1—X4—CO—X3—, *—X1—CO—X4—X3—, *—X1—X4—CO—X3—CO— or *—X1—CO—X4—X3—CO—, X1 and X3 independently each represent a C1-C6 divalent aliphatic hydrocarbon group, X4 represents —O— or —N(Rc)—, * represents a binding position to X2, and R1 represents a C1-C6 alkyl group optionally having one or more halogen atoms, a hydrogen atom or a halogen atom.

    摘要翻译： 本发明提供一种树脂，其包含由式（aa）表示的结构单元：其中T1表示任选具有一个或多个取代基的C 4 -C 34磺内酯环基团，X 2表示-O-或-N（R c） - ，R c表示 氢原子或C1-C6烷基，当X2为-O-时，Z1为* -X1-，* -X3-CO-O-X1-，* -X3-CO-N（Rc）-X1-， * -X3-O-CO-X1-或* -X3-N（Rc）-CO-X1-，当X2为-N（Rc）时，Z1表示* -X1-，* -X1-O-X3- ，* -X1-CO-，* -X1-X4-CO-X3-，* -X1-CO-X4-X3-，* -X1-X4-CO-X3-CO-或* -X1-CO-X4 -X3-CO-，X1和X3各自独立地表示C1-C6二价脂族烃基，X4表示-O-或-N（Rc） - ，*表示与X2的结合位置，R1表示C1-C6烷基 具有一个或多个卤素原子的基团，氢原子或卤素原子。

    PHOTORESIST COMPOSITION
    4.
    发明申请
    PHOTORESIST COMPOSITION 审中-公开
    光电组合物

    公开(公告)号：US20110059400A1

    公开(公告)日：2011-03-10

    申请号：US12875627

    申请日：2010-09-03

    申请人： Akira KAMABUCHI ,  Yuko YAMASHITA

    发明人： Akira KAMABUCHI ,  Yuko YAMASHITA

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C07C61/135

    CPC分类号： C07C61/135 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

    摘要： The present invention provides a photoresist composition comprisinga resin which comprises a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid, an acid generator and a compound represented by the formula (I′): wherein R51, R52, R53 and R54 independently each represent a C1-C8 alkyl group, and A11 represents a C3-C36 divalent saturated cyclic hydrocarbon group which can contain one or more heteroatoms and which have one or more substituents or a C6-C20 divalent aromatic hydrocarbon group which can contain one or more heteroatoms and which have one or more substituents.

    摘要翻译： 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，其包含衍生自具有酸不稳定基团的化合物的结构单元，其在碱性水溶液中不溶或难溶于碱性水溶液，但通过 酸，酸产生剂和由式（I'）表示的化合物：其中R51，R52，R53和R54各自独立地表示C1-C8烷基，A11表示可以含有（C 1 -C 8）烷基的C 3 -C 36二价饱和环状烃基 一个或多个杂原子并且具有一个或多个取代基或可含有一个或多个杂原子且具有一个或多个取代基的C 6 -C 20二价芳族烃基。

    RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
    5.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN 有权
    耐蚀组合物及其制造方法

    公开(公告)号：US20130022910A1

    公开(公告)日：2013-01-24

    申请号：US13552044

    申请日：2012-07-18

    申请人： Koji ICHIKAWA ,  Akira KAMABUCHI

    发明人： Koji ICHIKAWA ,  Akira KAMABUCHI

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A resist composition having; (A1) a resin having a structural unit represented by the formula (I), (A2) a resin having a structural unit represented by the formula (II) and being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I) and (B) an acid generator. wherein R1, A1, A13, X12, A14, R3 and ring X1 are defined in the specification.

    摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，具有： （A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂，（A2）具有由式（II）表示的结构单元并且在碱性水溶液中不溶或难溶，但变得可溶于碱的树脂 通过酸的作用而不包括由式（I）表示的结构单元和（B）酸产生剂的水溶液。 其中R1，A1，A13，X12，A14，R3和X1定义在本说明书中。

    RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
    7.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN 有权
    耐蚀组合物及其制造方法

    公开(公告)号：US20120219898A1

    公开(公告)日：2012-08-30

    申请号：US13404054

    申请日：2012-02-24

    申请人： Koji ICHIKAWA ,  Akira KAMABUCHI

    发明人： Koji ICHIKAWA ,  Akira KAMABUCHI

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

    摘要： A resist composition having; (A1) a resin having a structural unit represented by the formula (I), (A2) a resin having a structural unit represented by the formula (II) and being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and (B) an acid generator, wherein R1, A1, R2, R3, and ring X1 are defined in the specification.

    摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，具有： （A1）具有由式（I）表示的结构单元的树脂，（A2）具有由式（II）表示的结构单元并且在碱性水溶液中不溶或难溶，但变得可溶于碱的树脂 水溶液，（B）酸产生剂，其中R1，A1，R2，R3和X1定义在说明书中。