公开(公告)号：US20130118774A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：US13713771

申请日：2012-12-13

Applicant: Idemitsu Kosan Co., Ltd.

Inventor： Koki YANO ,  Kazuyoshi INOUE ,  Nobuo TANAKA ,  Akira KAIJO ,  Satoshi UMENO

IPC: H01B1/02 ,  H01B13/00 ,  C23C14/08

CPC classification number: H01B1/02 ,  C03C17/3644 ,  C03C2217/94 ,  C03C2218/33 ,  C03C2218/34 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/6261 ,  C04B2235/32 ,  C04B2235/3232 ,  C04B2235/3241 ,  C04B2235/3272 ,  C04B2235/3281 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/664 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/763 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414 ,  H01B13/00 ,  Y10T428/24777

Abstract: A sputtering target which is composed of a sintered body of an oxide which contains at least indium, tin, and zinc and includes a spinel structure compound of Zn2SnO4 and a bixbyite structure compound of In2O3. A sputtering target includes indium, tin, zinc, and oxygen with only a peak ascribed to a bixbyite structure compound being substantially observed by X-ray diffraction (XRD).

Abstract translation: 一种溅射靶，其由至少含有铟，锡和锌的氧化物的烧结体构成，并且包括Zn2SnO4的尖晶石结构化合物和In 2 O 3的菱沸石结构化合物。 溅射靶包括铟，锡，锌和氧，只有通过X射线衍射（XRD）基本观察到由比克比结构化合物引起的峰。