公开(公告)号：US20110262872A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13073651

申请日：2011-03-28

申请人： Jiro YOKOYA ,  Tsuyoshi NAKAMURA ,  Masaru TAKESHITA ,  Yasuhiro YOSHII ,  Hirokuni SAITO

发明人： Jiro YOKOYA ,  Tsuyoshi NAKAMURA ,  Masaru TAKESHITA ,  Yasuhiro YOSHII ,  Hirokuni SAITO

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07C271/12 ,  C07D211/06

CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40

摘要： There are provided a method of forming a resist pattern in which a resist pattern is formed on top of a substrate by using a chemically amplified resist composition and conducting patterning two or more times, the method being capable of reducing the extent of damage, caused by the second patterning, imposed upon the first resist pattern that is formed by the first patterning; as well as a resist composition that is useful for forming the first resist pattern in this method of forming a resist pattern. The method includes forming of a first resist pattern using a resist composition containing a thermal base generator as a chemically amplified resist composition during first patterning, and then conducting a hard bake for baking the first resist pattern under a bake condition such that a base is generated from the thermal base generator, prior to the second patterning.

摘要翻译： 提供了一种形成抗蚀剂图案的方法，其中通过使用化学放大型抗蚀剂组合物在基板的顶部上形成抗蚀剂图案并进行图案化两次或更多次，该方法能够减少由...引起的损伤程度 施加在由第一图案化形成的第一抗蚀剂图案上的第二图案化; 以及在形成抗蚀剂图案的方法中可用于形成第一抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。 该方法包括在第一图案化期间使用含有热碱发生器作为化学放大型抗蚀剂组合物的抗蚀剂组合物形成第一抗蚀剂图案，然后在烘烤条件下进行硬烘烤以烘烤第一抗蚀剂图案，使得产生碱 来自热源发生器，在第二图案化之前。

公开(公告)号：US20110008728A1

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：US12788160

申请日：2010-05-26

申请人： Tsuyoshi NAKAMURA ,  Masaru TAKESHITA ,  Jiro YOKOYA ,  Hideo HADA ,  Kensuke MATSUZAWA ,  Kazushige DOHTANI

发明人： Tsuyoshi NAKAMURA ,  Masaru TAKESHITA ,  Jiro YOKOYA ,  Hideo HADA ,  Kensuke MATSUZAWA ,  Kazushige DOHTANI

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/285 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/28

摘要： A resist composition including: a base component which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid; and an acid-generator component containing an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1); dissolved in an organic solvent containing an alcohol-based organic solvent having a boiling point of at least 150° C., wherein R7″ to R9″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group which has been substituted with a group represented by the formula: —O—R70 (R70 represents an organic group), and two of R7″ to R9″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a hydrocarbon group of 3 to 30 carbon atoms; Q1 represents a divalent linking group containing an oxygen atom; and Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解度的碱成分; 以及含有由通式（b1）表示的化合物构成的酸发生剂（B1）的酸发生剂成分。 溶解在含有沸点至少为150℃的醇类有机溶剂的有机溶剂中，其中R7“至R9”表示芳基或烷基，条件是R7“至R9”中的至少一个 表示被由下式表示的基团取代的取代的芳基：-R-70（R70表示有机基团），并且R7“至R9”中的两个可以相互键合形成具有硫原子的环; X表示3〜30个碳原子的烃基; Q1表示含有氧原子的二价连接基团; Y1表示碳原子数为1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

公开(公告)号：US20120116038A1

公开(公告)日：2012-05-10

申请号：US13348989

申请日：2012-01-12

申请人： Masaru TAKESHITA ,  Yasuhiro YOSHII

发明人： Masaru TAKESHITA ,  Yasuhiro YOSHII

IPC分类号： C08F222/20

CPC分类号： G03F7/2041 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition for immersion exposure including: a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid; an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure; and a fluorine-containing resin component (F); dissolved in an organic solvent (S), the fluorine-containing resin component (F) including a structural unit (f1) containing a fluorine atom, a structural unit (f2) containing a hydrophilic group-containing aliphatic hydrocarbon group, and a structural unit (f3) derived from an acrylate ester containing a tertiary alkyl group-containing group or an alkoxyalkyl group.

摘要翻译： 一种用于浸渍曝光的抗蚀剂组合物，包括：在酸性作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分（A） 暴露时产生酸的酸发生剂组分（B）; 和含氟树脂组分（F）; 溶解在有机溶剂（S）中的含有含有氟原子的结构单元（f1）的含氟树脂成分（F），含有亲水性基团的脂肪族烃基的结构单元（f2）和结构单元 （f3）衍生自含有含叔烷基的基团或烷氧基烷基的丙烯酸酯。

公开(公告)号：US20120149916A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13313993

申请日：2011-12-07

申请人： Yoshiyuki UTSUMI ,  Masaru TAKESHITA ,  Yoshitaka Komuro

发明人： Yoshiyuki UTSUMI ,  Masaru TAKESHITA ,  Yoshitaka Komuro

IPC分类号： C07D333/54 ,  C07C381/12

CPC分类号： C07C311/09 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/08 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： A compound represented by general formula (c1) (R1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M+ represents an organic cation or a metal cation).

摘要翻译： 由通式（c1）表示的化合物（R1表示可以具有取代基的碳原子数为5以上的脂环式基团; X表示二价连接基团; Y表示直链状，支链状或环状的亚烷基或亚芳基） 表示含氟原子的烃基; M +表示有机阳离子或金属阳离子）。

公开(公告)号：US20120148956A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13313990

申请日：2011-12-07

申请人： Yoshiyuki UTSUMI ,  Masaru TAKESHITA ,  Hiroaki SHIMIZU ,  Syo ABE ,  Yoshitaka Komuro

发明人： Yoshiyuki UTSUMI ,  Masaru TAKESHITA ,  Hiroaki SHIMIZU ,  Syo ABE ,  Yoshitaka Komuro

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, a nitrogen-containing organic compound (C) containing a compound (C1) represented by general formula (c1) shown below and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure (excluding the compound (C1)) (R1 represents an alicyclic group of 5 or more carbon atoms which may have a substituent; X represents a divalent linking group; Y represents a linear, branched or cyclic alkylene group or an arylene group; Rf represents a hydrocarbon group containing a fluorine atom; and M+ represents an organic cation).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其含有在酸作用下在显影液中溶解度变化的碱成分（A），含有下述通式（c1）表示的化合物（C1）的含氮有机化合物（C）和酸 发生器组分（B）（不包括化合物（C1））（R1表示可具有取代基的碳原子数为5以上的脂环族基团）; X表示二价连接基团; Y表示直链状，支链状的 或环状亚烷基或亚芳基; Rf表示含氟原子的烃基，M +表示有机阳离子。